静电吸盘系统、成膜装置、被吸附体分离方法、成膜方法及电子设备的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术的静电吸盘系统的特征在于，包括：包含电极部的静电吸盘；用于向所述静电吸盘的所述电极部施加电压的电压施加部；及用于控制所述电压施加部进行的电压的施加的电压控制部，所述电压控制部控制所述电压施加部，以便对吸附有第一被吸附体和隔着所述第一被吸附体吸附有第二被吸附体的所述静电吸盘的电极部施加在所述第一被吸附体与所述第二被吸附体接触的状态下用于使所述第一被吸附体和所述第二吸附体从所述静电吸盘一起分离的电压。

Electrostatic suction cup system, film forming device, separation method of adsorbed body, film forming method and manufacturing method of electronic equipment

【技术实现步骤摘要】
静电吸盘系统、成膜装置、被吸附体分离方法、成膜方法及电子设备的制造方法
本专利技术涉及静电吸盘系统、成膜装置、被吸附体分离方法、成膜方法及电子设备的制造方法。
技术介绍
在有机EL显示装置(有机EL显示器)的制造中，在对构成有机EL显示装置的有机发光元件(有机EL元件；OLED)进行形成时，使从成膜装置的蒸镀源蒸发的蒸镀材料经由形成有像素图案的掩模向基板蒸镀，由此形成有机物层或金属层。在向上蒸镀方式(向上沉积)的成膜装置中，蒸镀源设置在成膜装置的真空容器的下部，基板配置在真空容器的上部，向基板的下表面蒸镀。在这样的向上蒸镀方式的成膜装置的真空容器内，基板由于仅其下表面的周边部由基板支架保持，因此基板因其自重而挠曲，这成为使蒸镀精度下降的一个主要原因。即使在向上蒸镀方式以外的方式的成膜装置中，也有可能产生由基板的自重引起的挠曲。作为用于减少由基板的自重引起的挠曲的方法，正在研讨使用静电吸盘的技术。即，利用静电吸盘将基板的上表面遍及其整体地吸附，由此能够减少基板的挠曲。在专利文献1(韩国专利公开公报2007-0010本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种静电吸盘系统，其特征在于，包括：/n静电吸盘，所述静电吸盘包含电极部；/n电压施加部，所述电压施加部用于对所述静电吸盘的所述电极部施加电压；及/n电压控制部，所述电压控制部用于控制所述电压施加部进行的电压的施加，/n所述电压控制部控制所述电压施加部，以便对吸附有第一被吸附体和隔着所述第一被吸附体吸附有第二被吸附体的所述静电吸盘的电极部施加在所述第一被吸附体与所述第二被吸附体接触的状态下用于使所述第一被吸附体和所述第二吸附体从所述静电吸盘一起分离的电压。/n

【技术特征摘要】
20180921 KR 10-2018-01139221.一种静电吸盘系统，其特征在于，包括：
静电吸盘，所述静电吸盘包含电极部；
电压施加部，所述电压施加部用于对所述静电吸盘的所述电极部施加电压；及
电压控制部，所述电压控制部用于控制所述电压施加部进行的电压的施加，
所述电压控制部控制所述电压施加部，以便对吸附有第一被吸附体和隔着所述第一被吸附体吸附有第二被吸附体的所述静电吸盘的电极部施加在所述第一被吸附体与所述第二被吸附体接触的状态下用于使所述第一被吸附体和所述第二吸附体从所述静电吸盘一起分离的电压。


2.根据权利要求1所述的静电吸盘系统，其特征在于，
所述第一被吸附体是由绝缘性材料构成的基板，
所述第二被吸附体是由金属性材料构成的掩模。


3.根据权利要求1所述的静电吸盘系统，其特征在于，
在向所述电极部施加所述电压时，所述第二被吸附体由接地的支承机构支承。


4.根据权利要求1所述的静电吸盘系统，其特征在于，
所述电压是零(0)电压，或是与使所述第一被吸附体及所述第二被吸附体吸附于所述静电吸盘时的吸附电压极性相反的电压。


5.一种成膜装置，所述成膜装置用于在基板上经由掩模进行成膜，其特征在于，
所述成膜装置包括用于对作为第一被吸附体的基板和作为第二被吸附体的掩模进行吸附的静电吸盘系统，
所述静电吸盘系统是权利要求1～4中任一项所述的静电吸盘系统。


6.一种分离方法，所述分离方法用于将被吸附体从包含电极部的静电吸盘的所述电极部分离，其特征在于，包括：
对吸附有第一被吸附体和隔...

【专利技术属性】
技术研发人员：柏仓一史，石井博，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP