掩膜框架组件制造技术

本发明专利技术公开了一种掩膜框架组件。本发明专利技术可包括：掩膜框架；以及掩膜条，配备有沿第一方向延伸的第一掩膜条、沿与第一方向交叉的第二方向延伸的第二掩膜条、与第一掩膜条及第二掩膜条连接而定义多个沉积区域的多个第三掩膜条，其中，所述第一掩膜条的厚度与第二掩膜条的厚度不同，并且在所述第一掩膜条与第二掩膜条相互连接的部分可布置有部分蚀刻部。

Mask frame assembly

【技术实现步骤摘要】
掩膜框架组件
本专利技术涉及一种掩膜框架组件。
技术介绍
通常，显示装置可利用于诸如智能手机、膝上型计算机、数码相机、摄像机、便携式信息终端、笔记本电脑、平板个人电脑等移动装置，或诸如台式计算机、电视、室外广告板、展示用显示装置、汽车仪表盘、平视显示器(headupdisplay，HUD)等电子装置。为了在基板上形成薄膜，显示装置使用多种方法。其中，沉积法为利用掩膜将沉积物质沉积于基板上的方法。掩膜包括布置有用于沉积发光层的多个图案孔的图形掩膜以及无需图案孔的开口掩膜。开口掩膜包括用于沉积通用层的开口。为了便于制造，开口掩膜使用大型掩膜以同时制造多种尺寸的显示装置。开口掩膜被施加预定的拉力而焊接于掩膜框架。
技术实现思路
然而，在使用配备有多个分离的掩膜条的大型掩膜的情况下，在多个掩膜条相互连接的部分可能发生掩膜条的变形。本专利技术的实施例的目的在于提供一种能够防止在多个掩膜条相互连接的部分的变形的混合型掩膜条以及应用其的掩膜框架组件。根据本专利技术的一侧面的掩膜框架组件可包括：掩膜框架，具有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜框架组件，其中，包括：/n掩膜框架，具有开口；以及/n掩膜条，布置于所述掩膜框架上，并且配备有至少一个沿第一方向延伸的第一掩膜条、至少一个沿与第一方向交叉的第二方向延伸的第二掩膜条、与所述第一掩膜条及所述第二掩膜条的各个端部连接而定义多个沉积区域的多个第三掩膜条，/n其中，所述第一掩膜条的厚度与所述第二掩膜条的厚度不同，并且在所述第一掩膜条与所述第二掩膜条相互连接的部分布置有部分蚀刻部。/n

【技术特征摘要】
20180912 KR 10-2018-01091781.一种掩膜框架组件，其中，包括：
掩膜框架，具有开口；以及
掩膜条，布置于所述掩膜框架上，并且配备有至少一个沿第一方向延伸的第一掩膜条、至少一个沿与第一方向交叉的第二方向延伸的第二掩膜条、与所述第一掩膜条及所述第二掩膜条的各个端部连接而定义多个沉积区域的多个第三掩膜条，
其中，所述第一掩膜条的厚度与所述第二掩膜条的厚度不同，并且在所述第一掩膜条与所述第二掩膜条相互连接的部分布置有部分蚀刻部。


2.如权利要求1所述的掩膜框架组件，其中，
所述部分蚀刻部布置于安装所述第二掩膜条的所述第一掩膜条，并且对应于具有比所述第一掩膜条的其他部分的厚度薄的厚度的部分。


3.如权利要求2所述的掩膜框架组件，其中，
所述部分蚀刻部的深度与所述第二掩膜条的厚度相同。


4.如权利要求2所述的掩膜框架组件，其中，
所述部分蚀刻部的间距在第二方向上比所述第一掩膜条的宽度窄。


5.如权利要求2所述的掩膜框架组件，其中，
所述第一掩膜条的厚度比所述第二掩膜条的厚度厚。


6.如权利要求2所述的掩膜框架组件，其中，
所述第二掩膜条的宽度整体上相同。


7.如权利要求2所述的掩膜框架组件，其中，
安装于所述部分蚀刻部的所述第二掩膜条的端部宽度比所述第二掩膜条的其他部分的宽度宽。


8.如权利要求2所述的掩膜框架组件，其中，
所述第二掩膜条焊接于所述第一掩膜条，
焊接点沿所述第二掩膜条的边缘布置。


9.如权利要求1所述的掩膜框架组件，其中，
所述第一掩膜条包括：
第一条部；以及
第二条部，布置于所述第一条部上，并层叠于所述第一条部，
其中，所述部分蚀刻部布置于所述第二条部与所述第二掩膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：河在秀，李秀奂，徐成昊，柳光泰，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR