用于监视二次电力设备的方法、装置以及电子系统制造方法及图纸

提供了用于监视二次电力设备的方法和装置，用于准确地检查所述二次电力设备的状态，以及包括所述装置的电子系统。监视二次电力设备的方法包括：通过使用所述二次电力设备的至少一个电容器的电压来设置第一参考参数；通过使用所述至少一个电容器的电压和所述第一参考参数来设置第二参考参数；以及通过使用所述第二参考参数来设置用于检查所述二次电力设备的状态的参考电平，其中所述参考电平用于检查所述二次电力设备的状态。

Methods, devices and electronic systems for monitoring secondary power equipment

【技术实现步骤摘要】
用于监视二次电力设备的方法、装置以及电子系统相关申请的交叉引用本申请要求于2018年8月23日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2018-0098767的权益，其公开内容通过引用整体并入本文。
本专利技术性构思涉及电力设备，更具体而言，涉及二次供电的二次电力设备，以及包括该二次电力设备的电子系统。
技术介绍
包括存储器设备和存储器控制器的存储器系统通常通过接收外部供应的电力来操作。同时，在存储器系统的操作期间，可能发生突然断电的突然断电(SPO)事件。存储器控制器通过使用易失性存储器来存储数据，因此存储在易失性存储器中的数据可能丢失，或者存储器设备中正在进行的操作(例如，擦除操作、写入操作等)可能在SPO事件发生时没有完成。为了解决这个问题，存储器系统可以通过使用二次电力设备来完成正在进行的操作，并执行数据备份操作。
技术实现思路
本专利技术性构思提供了用于监视二次电力设备的方法和装置，其中可以准确地检查二次电力设备的状态，以及包括该装置的电子系统。根据本专利技术性构思的一个方面，提供了一种监视二次电力设备的方法，该方法包括：通过将电力从充电单元供应到二次电力设备，由从充电单元对包括至少一个电容器的二次电力设备进行充电；通过使用所述至少一个电容器的电压，由校准单元在第一校准间隔中设置第一参考参数；通过使用所述至少一个电容器的电压和所述第一参考参数，由校准单元在第二校准间隔中设置第二参考参数；通过使用第二参考参数，由电平设置单元设置用于检查二次电力设备的状态的参考电平；以及由监视单元通过使用参考电平来监视二次电力设备的状态。根据本专利技术性构思的另一方面，提供了一种监视二次电力设备的方法，该方法包括：通过将电力从充电单元供应到二次电力设备，由从充电单元对包括至少一个电容器的二次电力设备进行充电；通过使用所述至少一个电容器的电压，由校准单元在第一校准间隔中设置第一参考参数，其中电压在局部最大值和局部最小值之间波动；通过使用所述至少一个电容器的电压和所述第一参考参数，由校准单元在第二校准间隔中设置第二参考参数；通过使用第二参考参数，由电平设置单元设置用于检查二次电力设备的状态的参考电平，其中参考电平被设置为关于被设置为第二参考参数的中心值的±△的范围；以及由监视单元通过使用参考电平来监视二次电力设备的状态，其中从设置第一参考参数到设置参考电平的操作在设定的时段进行重复。根据本专利技术性构思的又一方面，提供了一种监视二次电力设备的方法，该方法包括：通过将电力从充电单元供应到二次电力设备，由从充电单元对包括至少一个电容器的二次电力设备进行充电；通过使用所述至少一个电容器的电压，由校准单元在第一校准间隔中设置第一参考参数，其中所述电压在局部最大值和局部最小值之间波动；通过使用所述至少一个电容器的电压和所述第一参考参数，由校准单元在第二校准间隔中设置第二参考参数；设置用于检查二次电力设备的状态的参考电平，其中参考电平被设置为关于被设置为第二参考参数的中心值的±△的范围；以及通过使用参考电平来监视二次电力设备的状态，其中在设置第二参考参数之后，所述至少一个电容器的电压用于进一步设置第二参考参数和设置参考电平，以实时地校准参考电平。根据本专利技术性构思的又一方面，提供了一种用于监视二次电力设备的装置，该装置包括：电压测量单元，被配置为测量二次电力设备的至少一个电容器的电压；校准单元，被配置为通过使用所述至少一个电容器的电压来设置第一参考参数和第二参考参数；电平设置单元，被配置为通过使用第二参考参数来设置用于检查二次电力设备的状态的参考电平；以及监视单元，包括放电时间测量单元和确定单元，其中放电时间测量单元被配置为通过使用参考电平测量所述至少一个电容器的放电时间，并且确定单元被配置为通过将放电时间与设定的参考时间进行比较来确定二次电力设备的状态。根据本专利技术性构思的另一方面，提供了一种监视二次电力设备的装置电子系统，包括：电力损失保护(PLP)单元，包括：二次电力设备，包括至少一个电容器；以及充电单元，被配置为向二次电力设备供电；主系统单元，包括控制器和至少一个存储器芯片；以及电力单元，可操作地连接在PLP单元和主系统单元之间，电力单元向主系统单元供电，其中用于监视二次电力设备的状态的监视装置布置在PLP单元和主系统单元之一中，其中监视装置包括：电压测量单元，被配置为测量所述至少一个电容器的电压；校准单元，被配置为通过使用所述至少一个电容器的电压来设置第一参考参数和第二参考参数；电平设置单元，被配置为通过使用第二参考参数来设置用于检查二次电力设备的状态的参考电平；以及监视单元，包括放电时间测量单元和确定单元，其中放电时间测量单元被配置为通过使用参考电平测量所述至少一个电容器的放电时间，并且确定单元被配置为通过将放电时间与设定的参考时间进行比较来确定二次电力设备的状态。根据本专利技术性构思的又一方面，提供了一种监视二次电力设备的装置方法，包括：充电单元对二次电力设备进行充电；在第一间隔中，测量二次电力设备的电容器电压；检测第一间隔中测得的电容器电压的第一局部最小值和第一局部最大值；基于检测到的局部最小值和局部最大值设置第一参考参数；在第二间隔中，测量二次电力设备的电容器电压；基于第二间隔中测得的电容器电压的值以及第一参考参数来设置第二参考参数；将参考电平设置为以设置为第二参考参数的电压为中心的范围；在第三间隔中，测量二次电力设备的电容器电压；通过使用在第三间隔中测得的电容器电压和参考电平来测量第三间隔中的电容器电压的放电时间；以及将放电时间与设定的参考时间进行比较，以确定二次电力设备是否正在异常操作。附图说明通过以下结合附图的详细描述，将更清楚地理解本专利技术构思的实施例。图1是二次电力设备的监视方法的实施例的示意性流程图。图2是示出图1的二次电力设备的监视方法的详细处理的图。图3是在图1的二次电力设备的监视方法中设置第一参考参数的操作的详细流程图。图4是在图1的二次电力设备的监视方法中设置第二参考参数的操作的详细流程图。图5A和5B是用于描述在图1的二次电力设备的监视方法中设置参考电平的操作的详细图。图6A和6B是在图1的二次电力设备的监视方法中监视二次电力设备的操作的详细流程图。图7是监视图6B的二次电力设备的操作的详细图。图8和图9是二次电力设备的监视方法的实施例的示意性流程图。图10是二次电力设备的监视装置的实施例的示意性结构框图。图11A和11B是图10的二次电力设备的监视装置的充电单元的DC-DC转换器部分的详细电路图。图12A和12B是图10的监视装置被布置在包括二次电力设备的电子系统中的位置的结构框图。图13是包括二次电力设备的监视装置的电子系统的实施例的示意性结构框图。图14A和14B是图13的电子系统中的供电处理的概念图。具体实施方式在下文中，将参考附图详细描述实施例。在附图中，相同的元件标记为相同的标号，并且将省略其重复描述。图1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种监视二次电力设备的方法，该方法包括：/n通过将电力从充电单元供应到包括至少一个电容器的所述二次电力设备，由从所述充电单元对所述二次电力设备进行充电；/n通过使用所述至少一个电容器的电压，由校准单元在第一校准间隔中设置第一参考参数；/n通过使用所述至少一个电容器的电压和所述第一参考参数，由所述校准单元在第二校准间隔中设置第二参考参数；/n通过使用所述第二参考参数，由电平设置单元设置用于检查所述二次电力设备的状态的参考电平；以及/n通过使用所述参考电平，由监视单元来监视所述二次电力设备的状态。/n

【技术特征摘要】
20180823 KR 10-2018-00987671.一种监视二次电力设备的方法，该方法包括：
通过将电力从充电单元供应到包括至少一个电容器的所述二次电力设备，由从所述充电单元对所述二次电力设备进行充电；
通过使用所述至少一个电容器的电压，由校准单元在第一校准间隔中设置第一参考参数；
通过使用所述至少一个电容器的电压和所述第一参考参数，由所述校准单元在第二校准间隔中设置第二参考参数；
通过使用所述第二参考参数，由电平设置单元设置用于检查所述二次电力设备的状态的参考电平；以及
通过使用所述参考电平，由监视单元来监视所述二次电力设备的状态。


2.如权利要求1所述的方法，其中所述至少一个电容器的电压经由所述充电单元的充电操作在局部最大值和局部最小值之间波动，
其中设置所述第一参考参数包括：
检测所述第一校准间隔中所述至少一个电容器的电压的最大值；
检测所述第一校准间隔中所述至少一个电容器的电压的最小值；以及
将所述最大值和所述最小值的平均值设置为所述第一参考参数。


3.如权利要求2所述的方法，其中设置所述第二参考参数包括：
通过使用所述第一参考参数，在所述第二校准间隔中，将所述至少一个电容器的电压分类为高状态间隔和低状态间隔；
在所述第二校准间隔中，检测所述高状态间隔中的第一局部最大值，并计算作为所述第一局部最大值的平均值的第一平均值；
在所述第二校准间隔中，检测所述低状态间隔中的第一局部最小值，并计算作为所述第一局部最小值的平均值的第二平均值；以及
将所述第一平均值和所述第二平均值的平均值设置为所述第二参考参数。


4.如权利要求3所述的方法，其中设置所述参考电平包括，将关于被设置为所述第二参考参数的中心值的±△的范围设置为所述参考电平。


5.如权利要求4所述的方法，其中△被设置为固定值或者相对于所述第一平均值与所述第二平均值之间的差的百分比(％)。


6.如权利要求1所述的方法，还包括：
通过使用所述参考电平，测量所述至少一个电容器的放电时间；以及
将所述放电时间与设定的参考时间进行比较，以确定所述二次电力设备是否正在异常操作。


7.如权利要求6所述的方法，还包括：
通过测量所述至少一个电容器的多个放电时间并将其求平均，获得平均放电时间；以及
将所述平均放电时间与所述参考时间进行比较，以确定所述二次电力设备是否正在异常操作。


8.如权利要求1所述的方法，其中通过在设定的时段重复执行从设置所述第一参考参数到设置所述参考电平的操作，校准所述参考电平，或者
在重置所述第二参考参数和重置所述参考电平时，通过使用在设置所述第二参考参数之后检测到的所述至少一个电容器的电压，实时地校准所述参考电平。


9.一种监视二次电力设备的方法，该方法包括：
通过将电力从充电单元供应到所述二次电力设备，由从所述充电单元对包括至少一个电容器的所述二次电力设备进行充电；
通过使用所述至少一个电容器的电压，由校准单元在第一校准间隔中设置第一参考参数，其中所述电压在局部最大值和局部最小值之间波动；
通过使用所述至少一个电容器的电压和所述第一参考参数，由所述校准单元在第二校准间隔中设置第二参考参数；
由电平设置单元将参考电平设置为关于被设置为所述第二参考参数的中心值的±△的范围；以及
通过使用所述参考电平，由监视单元来监视所述二次电力设备的状态，
其中从设置所述第一参考参数到设置所述参考电平的操作在设定的时段进行重复。


10.如权利要求9所述的方法，还包括：
将所述第一参考参数设置为所述第一校准区间中所述至少一个电容器的电压的最大值和最小值的平均值；
通过使用所述第一参考参数，将所述第二校准间隔中所述至少一个电容器的电压分类为高状态间隔和低状态间隔；
从所述高状态间隔检测第一局部最大值；
计算作为所述第一局部最大值的平均值的第一平均值；
从所述低状态间隔检测第一局部最小值；
计算作为所述第一局部最小值的平均值的第二平均值；以及
将所述第一平均值和所述第二平均值的平均值设置为所述第二参考参数。


11.如权利要求9所述的方法，还包括：
测量从与所述第二参考参数+△对应的所述至少一个电容器的电压到与所述第二参考参数-△对应的所述至少一个电容器的电压的放电时间；以及
将所述放电时间与设定的参考时间进行比较，以确定所述二次电力设备是否正在异常操作。


12.一种监视二次电力设备的方法，该方法包括：
通过将电力从充电单元供应到包括至少一个电容器的所述二次电力设备，由从所述充电单元对所述二次电力设备进行充电；
通过使用所述至少一个电容器的电压，由校准单元在第一校准间隔中设置第一参考参数，其中所述电压在局部最大值和局部最小值之间波动；
通过使用所述至少一个电容器的电压和所述第一参考参数，由所述校准单元在第二校准间隔中设置第二参考参数；
设置用于检查所述二次电力设备的状态的参考电平，其中所述参考电平被设置为关于被设置为第二参考参数的中心值的±△的范围；以及
通过使用所述参考电平来监视所述二次电力设备的状态，
其中，在设置所述第二参考参数之后，所述至少一个电容器的电压用于进一步设置所述第二参考参数和设置所述参考电平，以实时地校准所述参考电平。


13.如权利要求12所述的方法，还包括：
将所述第一参考参数设置为所述第一校准间隔中所述至少一个电容器的电压的最大值和最小值的平均值，
通过使用所述第一参考参数将所述至少一个电容器的电压分类为高状态间隔和低状态间隔；
从所述高状态间隔检测第一局部最大值；
计算第一平均值，该第一平均值是所述第一局部最大值的平均值；
从所述低状态间隔检测第一局部最小值；
计算第二平均值，该第二平均值是所述第一局部最小值的平均值；以及
将所述第一平均值...

【专利技术属性】
技术研发人员：南锡铉，吉珉成，林亨泽，金相勋，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR