一种基于玻璃纤维的增强型光刻胶结构及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种基于玻璃纤维的增强型光刻胶结构及其制作方法。该结构包括：玻璃纤维；以及光刻胶，所述光刻胶包覆所述玻璃纤维。基于本发明专利技术的该种基于玻璃纤维的增强型光刻胶结构与现有技术相比具有如下优点：1)提高了光刻胶的拉伸模量与断裂强度，从而扩大光刻胶作为结构材料在MEMS技术中的应用；2)保证了光刻胶对光能量具有较高的利用率，复合结构对光刻胶的光敏特性不造成影响；3)不改变光刻胶的曝光以及显影方式，不影响其光刻成型；4)裸露出来的玻璃纤维可通过氢氟酸湿法去除；5)工艺简单、成本低廉。

A kind of reinforced photoresist structure based on glass fiber and its manufacturing method

【技术实现步骤摘要】
一种基于玻璃纤维的增强型光刻胶结构及其制作方法
本专利技术涉及电子和半导体材料及光刻胶
，尤其涉及一种应用与微机电系统制造的基于玻璃纤维的增强型光刻胶结构及其制作方法。
技术介绍
SU-8光刻胶是一种负性基于环氧树脂的近紫外光致抗蚀剂材料。它一次旋涂可形成数百微米厚的胶层，在近紫外范围内的光吸收较低，因此可得到垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形。此外由于SU-8光刻胶可与多种不同的材料制造工艺相兼容，良好的热稳定性和耐腐蚀性，在前烘过程中可自整平、消除边缘的水珠效应、重量轻、易于加工，在微机械领域，如RF-MEMS(射频-微机电系统)、微光学、微流体器件及微芯片等领域，具有广泛的应用。目前，SU-8光刻胶以其较低的生产成本、相对较好的柔性、良好的绝缘性和生物相容性，正在取代硅材料应用于一些特定的MEMS器件以及微流体等，被认为是微机电系统的下一代结构材料。然而MEMS元件尺寸一般在微米范围内，对材料性能要求较高，尽管SU-8光刻胶是一种很有前途的MEMS结构材料，但相对于硅等应用于微机电系统的传统结构材料，SU-8光刻胶的低弹性模量和较本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于玻璃纤维的增强型光刻胶结构，包括：/n玻璃纤维；以及/n光刻胶，所述光刻胶包覆所述玻璃纤维。/n

【技术特征摘要】
1.一种基于玻璃纤维的增强型光刻胶结构，包括：
玻璃纤维；以及
光刻胶，所述光刻胶包覆所述玻璃纤维。


2.如权利要求1所述的基于玻璃纤维的增强型光刻胶结构，其特征在于，所述玻璃纤维为编织玻璃纤维布或短切玻璃纤维。


3.如权利要求2所述的基于玻璃纤维的增强型光刻胶结构，其特征在于，所述编织玻璃纤维布为双轴向编织或三轴向编织，编织角为±30°或±45°或±60°，纤维缠绕方式为1/1或2/2或3/3编织结构。


4.如权利要求2所述的基于玻璃纤维的增强型光刻胶结构，其特征在于，所述短切玻璃纤维为E型玻璃纤维、A型玻璃纤维、C型玻璃纤维、S型玻璃纤维的一种或组合。


5.如权利要求2所述的基于玻璃纤维的增强型光刻胶结构，其特征在于，所述编织玻璃纤维布的层数为N，其中N≥1。

【专利技术属性】
技术研发人员：周文文，王惟圣，丁桂甫，高峰，王广元，蔡涵，
申请(专利权)人：上海交通大学，
类型：发明
国别省市：上海;31