【技术实现步骤摘要】
感放射线性组合物、硬化膜、硬化膜的制造方法及显示元件
本专利技术涉及一种感放射线性组合物及其用途，尤其涉及一种感放射性组合物、硬化膜、硬化膜的制造方法及显示元件。
技术介绍
从前，感放射线性组合物一直用于形成显示元件所具有的硬化膜，所述硬化膜为层间绝缘膜、保护膜及隔离件(spacer)等具有图案形状的硬化膜(例如参照专利文献1)。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利特开2012-159601号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题伴随显示元件的高性能化，显示元件需要大量的电流，因此对于所述硬化膜，要求低介电特性。另外，就硬化膜形成时的作业性等观点而言，对于感放射线性组合物，期望保存后的放射线感度的下降少而保存稳定性优异、涂布后延迟(PostCoatingDelay，PCD)裕度及曝光后延迟(PostExposureDelay，PED)裕度大。即，本专利技术的课题在于提供一种保存稳定性优异、PCD裕度及PED裕度高的感放射线性组合物，其可形成相对介电
【技术保护点】
1.一种感放射线性组合物，其特征在于，含有：/n聚合物成分(A)，所述聚合物成分(A)在同一或不同的聚合物中具有源自马来酰亚胺的结构单元(I)及含有下述式(II-1)所表示的基的结构单元(II)；以及/n感放射线性化合物(B)，/n
【技术特征摘要】
20180801 JP 2018-1451421.一种感放射线性组合物，其特征在于，含有：
聚合物成分(A)，所述聚合物成分(A)在同一或不同的聚合物中具有源自马来酰亚胺的结构单元(I)及含有下述式(II-1)所表示的基的结构单元(II)；以及
感放射线性化合物(B)，
式(II-1)中，R1、R2及R3分别独立地为氢原子、烷基、脂环式烃基、芳基、这些基所具有的氢原子的一部分或全部经取代基所取代的基、或者-SiRA3；RA分别独立地为碳数1～10的烷基；Q1为酯键或者-Ar1-O-所表示的二价基，Ar1为亚芳基、或者亚芳基所具有的氢原子的一部分或全部经取代基所取代的基。
2.根据权利要求1所述的感放射线性组合物，其特征在于，所述聚合物成分(A)在与具有选自所述结构单元(I)及所述结构单元(II)中的至少一种结构单元的聚合物同一或不同的聚合物中，还具有含有交联性基的结构单元(III)。
3.根据权利要求2所述的感放射线性组合物，其特征在于，所述交联性基为选自氧杂环丙基、氧杂环丁基及(甲基)丙烯酰基中的...
【专利技术属性】
技术研发人员：工藤和生，成子朗人，松本晃幸，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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