基片烘烤处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种基片烘烤处理装置，包含烘烤构件及移动式顶针支撑平台，烘烤构件在基片烘烤路线上依序形成有平台准备区、入口、烘烤区及出口，承载有基片的移动式顶针支撑平台经驱动而在基片烘烤路线上往复移动。本发明专利技术的基片烘烤处理装置通过直接以移动式顶针支撑平台支撑并移动基片，以降低烘烤构件中的环境变化及污染风险。

Substrate baking device

【技术实现步骤摘要】
基片烘烤处理装置
本专利技术是有关于一种基片烘烤处理装置，特别是有关于一种对基片上的配向膜进行烘烤的基片烘烤处理装置。
技术介绍
在薄膜电晶体液晶显示器(Thinfilmtransistorliquidcrystaldisplay,TFT-LCD)中的聚烯亚胺(Polyimide,PI)配向膜涂布工序中，PI液通过在预固化设备，例如配向膜预烘烤炉进行烘烤以固化而得以在玻璃基片上形成PI膜。目前预固化的收、放基片模式为采用机器人直接进出烘烤炉以置放及收取玻璃基片。在机器人伸入或伸出烘烤炉前后的过程中，烘烤炉的开口需完全打开。然而，烘烤炉的开口打开以及机器人进出烘烤炉的过程会破坏炉内环境的温度平衡，冷、热气流交替作用以及不均一的温度会导致PI膜成膜不均、产生Mura等问题。另外，烘烤炉的开口的开闭及机器人的动作还会使颗粒进入烘烤炉内，而易在PI膜上形成异物不良的状况。故，有必要提供一种基片烘烤处理装置，以解决现有技术所存在的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种基片烘烤处理装置，改变预固化的收、放基片的模式，以杜绝炉内环境变化而须重置的过程，达到改善PI膜Mura方面不良的目的。为达成本专利技术的前述目的，本专利技术的一实施例提供一种基片烘烤处理装置，其特征在于，包含︰一烘烤构件，在一基片烘烤路线上依序形成有一平台准备区、一入口、一烘烤区及一出口；以及一移动式顶针支撑平台，经驱动而在所述基片烘烤路线上往复移动，所述移动式顶针支撑平台包括一平台及复数个顶针，所述复数个顶针设置在所述平台的上表面，所述复数个顶针的上部供承载一待烘烤的基片，其中，承载有所述基片的所述移动式顶针支撑平台经驱动而沿着所述基片烘烤路线自所述平台准备区通过所述入口并移动至所述烘烤区使所述基片进行烘烤，最后通过所述出口移动出所述烘烤构件以完成所述基片的烘烤。在本专利技术的一实施例中，所述烘烤构件更包括一缓冲区，所述缓冲区位于所述入口与所述烘烤区之间，所述缓冲区设有一可控温加热元件，以对所述基片进行先烘烤。在本专利技术的一实施例中，更包含一常闭关闭件，以及所述入口包括上下相互连通的一常闭开口及一平台进出入口，所述常闭开口位于所述平台进出入口之上方并适配于所述常闭关闭件，所述常闭开口经所述常闭关闭件关闭而为常态关闭，所述平台进出入口供所述移动式顶针支撑平台通过。在本专利技术的一实施例中，所述平台进出入口的高度为小于30毫米。再者，本专利技术的另一实施例提供一种对基片进行烘烤处理的方法，其特征在于，所述对基片进行烘烤处理的方法包含步骤︰基片烘烤处理装置提供步骤，其为提供一基片烘烤处理装置，所述基片烘烤处理装置包含：一烘烤构件及一移动式顶针支撑平台，所述烘烤构件在一基片烘烤路线上依序形成有一平台准备区、一入口、一烘烤区及一出口，所述移动式顶针支撑平台经驱动而在所述基片烘烤路线上往复移动，所述移动式顶针支撑平台包括一平台及复数个顶针，所述复数个顶针设置在所述平台的上表面，所述复数个顶针的上部供承载一待烘烤的基片；基片放置步骤，其为一移动构件将一待烘烤的基片放置于所述移动式顶针支撑平台的所述复数个顶针的上部，其中所述移动式顶针支撑平台位于所述平台准备区上；烘烤步骤，其为承载有所述基片的所述移动式顶针支撑平台沿着所述基片烘烤路线自所述平台准备区通过所述入口而移动至所述烘烤区，以对所述基片进行烘烤；以及移出步骤，其为承载有所述基片的所述移动式顶针支撑平台沿着所述基片烘烤路线自所述烘烤区通过所述出口移离出所述烘烤构件。在本专利技术的一实施例中，更包含一先烘烤步骤，执行在所述烘烤步骤之前，其为经承载有所述基片的所述移动式顶针支撑平台沿着所述基片烘烤路线经通过所述入口移动至位于所述入口与所述烘烤区之间的一缓冲区，以先烘烤所述基片。在本专利技术的一实施例中，所述基片烘烤处理装置更包含一常闭关闭件，以及所述入口包括上下相互连通的一常闭开口及一平台进出入口，所述常闭开口位于所述平台进出入口之上方并适配于所述常闭关闭件，所述常闭开口经所述常闭关闭件关闭而为常态关闭，所述平台进出入口供所述移动式顶针支撑平台通过。在本专利技术的一实施例中，所述平台进出入口的高度为小于30毫米。与现有技术相比较，移动式顶针支撑平台不仅可承载基片，并且可移动而自烘烤构件之外经通过入口进入烘烤构件中，并继续往出口移动出烘烤构件，在这段移动过程中即完成基片的烘烤。藉此改变原有预固化为通过机器人进出烘烤装置的收、放片的模式，而可避免炉内环境变化过大进而须重置的过程，达到改善PI膜Mura类不良的效果。此外，烘烤构件的开口大为降低，可大幅降低颗粒污染风险。附图说明图1是本专利技术的实施例的基片烘烤处理装置的示意图。图2是本专利技术的实施例的基片烘烤处理装置的示意图。图3是本专利技术的实施例的基片烘烤处理装置的立体示意图。图4是本专利技术的实施例的基片烘烤处理装置的承置有基片的移动式顶针支撑平台的示意图。具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。再者，本专利技术所提到的方向用语，例如上、下、顶、底、前、后、左、右、内、外、侧面、周围、中央、水平、横向、垂直、纵向、轴向、径向、最上层或最下层等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。应当理解，本文所描述的具体实施方式仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。请参照图1至图4所示，根据本专利技术的一实施例的一种基片烘烤处理装置100，包含︰一烘烤构件1及一移动式顶针支撑平台2。所述烘烤构件1在一基片烘烤路线L上依序形成有一平台准备区11、一入口12、一烘烤区13及一出口14。所述移动式顶针支撑平台2经驱动而在所述基片烘烤路线L上往复移动。所述移动式顶针支撑平台2包括一平台21及复数个顶针22，所述复数个顶针22设置在所述平台21的上表面，所述复数个顶针22的上部供承载一待烘烤的基片S。承载有所述待烘烤的基片S的所述移动式顶针支撑平台2经驱动而沿着所述基片烘烤路线L自所述平台准备区11通过所述入口12并移动至所述烘烤区13使所述基片S进行烘烤，最后通过所述出口14移动出所述烘烤构件1之外部O以完成所述待烘烤的基片S的烘烤。详细而言，所述待烘烤的基片S为一玻璃基片，对所述待烘烤的基片S的烘烤是指烘烤固化所述待烘烤的基片S上的聚酰亚胺(Polyimide,PI)膜，使所述PI膜得以在所述基片S上固化。在本实施例中，所述移动式顶针支撑平台2上的基片S的取放是通过一机器人R完成(参照图2)。即，所述机器人R将所述基片S放到位于所述平台准备区11的所述复数个顶针22上以进行烘烤，并在完成烘烤后，将所述基片S自位于所述外部O的所述复数个顶针22上取走。较佳地，所述烘烤构件1更包括一缓冲区15，所述缓冲区15位于所述入口12与所述烘烤区13之间，所述缓冲区15设有一可控温加热元件(图未示)，以对所述基片S进行先烘烤，避免所述基片S的温度在进入烘烤区13前后差异本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基片烘烤处理装置，其特征在于，包含︰/n一烘烤构件，在一基片烘烤路线上依序形成有一平台准备区、一入口、一烘烤区及一出口；以及/n一移动式顶针支撑平台，经驱动而在所述基片烘烤路线上往复移动，所述移动式顶针支撑平台包括一平台及复数个顶针，所述复数个顶针设置在所述平台的上表面，所述复数个顶针的上部供承载一待烘烤的基片，/n其中，承载有所述基片的所述移动式顶针支撑平台经驱动而沿着所述基片烘烤路线自所述平台准备区通过所述入口并移动至所述烘烤区使所述基片进行烘烤，最后通过所述出口移动出所述烘烤构件以完成所述基片的烘烤。/n

【技术特征摘要】
1.一种基片烘烤处理装置，其特征在于，包含︰
一烘烤构件，在一基片烘烤路线上依序形成有一平台准备区、一入口、一烘烤区及一出口；以及
一移动式顶针支撑平台，经驱动而在所述基片烘烤路线上往复移动，所述移动式顶针支撑平台包括一平台及复数个顶针，所述复数个顶针设置在所述平台的上表面，所述复数个顶针的上部供承载一待烘烤的基片，
其中，承载有所述基片的所述移动式顶针支撑平台经驱动而沿着所述基片烘烤路线自所述平台准备区通过所述入口并移动至所述烘烤区使所述基片进行烘烤，最后通过所述出口移动出所述烘烤构件以完成所述基片的烘烤。


2.如权利要求1所述的基片烘烤处理装置，其特征在于：所述烘烤构件更包括一缓冲区，所述缓冲区位于所述入口与所述烘烤区之间，所述缓冲区设有一可控温加热元件，以对所述基片进行先烘烤。


3.如权利要求1所述的基片烘烤处理装置，其特征在于：更包含一常闭关闭件，以及所述入口包括上下相互连通的一常闭开口及一平台进出入口，所述常闭开口位于所述平台进出入口之上方并适配于所述常闭关闭件，所述常闭开口经所述常闭关闭件关闭而为常态关闭，所述平台进出入口供所述移动式顶针支撑平台通过。


4.如权利要求3所述的基片烘烤处理装置，其特征在于：所述平台进出入口的高度为小于30毫米。


5.一种对基片进行烘烤处理的方法，其特征在于，所述对基片进行烘烤处理的方法包含步骤︰
基片烘烤处理装置提供步骤，其为提供一基片烘烤处理装置，所述基片烘烤处理装置包含：一烘烤构件及一移动式顶针支撑平台，所述烘烤构件在一基片...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘崇业，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44