一种排除前层缺陷干扰的方法技术

本发明专利技术提供一种排除前层缺陷干扰的方法，一次扫描获得缺陷信号的缺陷图，该缺陷图中包含前层干扰信号和当层缺陷信号；在一次扫描获得的缺陷图中设定前层干扰信号的坐标区间；二次扫描获得缺陷信号的缺陷图，并根据前层干扰信号的坐标区间滤除前层干扰信号；重复步骤一至步骤三直到将绝大部分或全部前层缺陷信号被滤除，能够将当层缺陷信号暴露出来为止，从而进行缺陷程式的优化，本发明专利技术提高了产品良率以及工作效率。

A method to eliminate the interference of front layer defects

【技术实现步骤摘要】
一种排除前层缺陷干扰的方法
本专利技术涉及半导体制造领域，特别是涉及一种排除前层缺陷干扰的方法。
技术介绍
项目开发阶段，由于进度问题，一般各类项目关键站点的工艺调试都会同时开展。在这个前提背景下，会产生某个站点的缺陷由于受困于前站的已知缺陷影响而无法扫描当站缺陷问题，其原因是前站的缺陷信号过于强烈，完全覆盖了当站的缺陷信号。如图1所示，Nand项目在CTGDEP做缺陷扫描的时候，区域框选为CThole(接触孔01)。由于BBP机台的算法，其框选区域02会外扩最小144nm(由于BBP扫描机台的不精确度，所以在自动生成框选区域时，算法计算机会设置框选区域的边界，所以框选区域会向外扩144nm，而实际生成的框选区域要比GDS上的接触孔区域大)，此时，由于前层控制栅(CG，controlgate)的缺陷尚未解决，带来的影响是扫描结果均为前层CGline(控制栅线)的断线问题，其位置就在CThole的位置边缘。由于各层缺陷的种类不同，其缺陷的信号强度也会有各种不同，当前层的缺陷过于强烈的时候，无法通过参数设置卡控，同时造成的问题是大量前层缺陷本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种排除前层缺陷干扰的方法，其特征在于，该方法至少包括以下步骤：/n步骤一、一次扫描获得缺陷信号的缺陷图，该缺陷图中包含前层干扰信号和当层缺陷信号；/n步骤二、在所述一次扫描获得的缺陷图中设定前层干扰信号的坐标区间；/n步骤三、二次扫描获得所述缺陷信号的缺陷图，并根据所述前层干扰信号的坐标区间滤除所述前层干扰信号；/n步骤四、重复步骤一至步骤三直到将绝大部分或全部前层缺陷信号被滤除，能够将当层缺陷信号暴露出来为止。/n

【技术特征摘要】
1.一种排除前层缺陷干扰的方法，其特征在于，该方法至少包括以下步骤：
步骤一、一次扫描获得缺陷信号的缺陷图，该缺陷图中包含前层干扰信号和当层缺陷信号；
步骤二、在所述一次扫描获得的缺陷图中设定前层干扰信号的坐标区间；
步骤三、二次扫描获得所述缺陷信号的缺陷图，并根据所述前层干扰信号的坐标区间滤除所述前层干扰信号；
步骤四、重复步骤一至步骤三直到将绝大部分或全部前层缺陷信号被滤除，能够将当层缺陷信号暴露出来为止。


2.根据权利要求1所述的排除前层缺陷干扰的方法，其特征在于：步骤一中所述前层干扰信号和当层缺陷信号中包括不同种类的缺陷信号。


3.根据权利要求1所述的排除前层缺陷干扰的方法，其特征在于：步骤一中所述前层干扰信号包括除当层缺陷信号以外的任何一步前道工艺带来的缺陷信号。


4.根据权利要求1所述的排除前层缺陷干扰的方法，其特征在于：步骤二中设定所述前层干扰信号的坐标区间的...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶林，许向辉，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31