光阻供液系统技术方案

本实用新型专利技术提供了一种光阻供液系统，所述光阻供液系统包括冷藏槽、解冻槽、第一计时器、第二计时器、光阻泵、暂存槽和单向阀。所述光阻供液系统中，第一计时器计量同一生产批次的光阻在所述冷藏槽内的放置时间，第二计时器计量解冻后的光阻在所述解冻槽内的放置时间，可以降低人工记录卡控保质期和解冻时间导致的差错，并节约人工工时；利用所述光阻供液系统对光刻机台供液，可防止人工运输过程中光阻对人体的伤害并降低光阻瓶破损的可能性，同时节省搬运和更换光阻瓶的人力；所述光阻供液系统中的暂存槽，可以在冷藏槽和解冻槽进行加液或者清洗时，仍然维持向光刻设备供液的状态，使得光阻供液时光刻机台不用停机，有利于增加光刻机台的产出。

Photoresist liquid supply system

【技术实现步骤摘要】
光阻供液系统
本技术涉及半导体制造领域，尤其是一种光阻供液系统。
技术介绍
光刻工艺是半导体制程工艺中的常用工艺。光阻(photoresist，PR)，也称为光刻胶或光阻剂，是指通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，是光刻工艺中的关键材料，主要应用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工。目前，光阻从冷藏库转移到光刻机台的过程主要还是通过人工完成，以下是一种目前采用的方式：作业员将盛有光阻的容器从冷藏库中取出；然后通过推车等运输工具将光阻运输到无尘室内；接着，将光阻放置于防爆柜中进行解冻，通常需要24小时才能完全解冻；最后由作业员将解冻后的光阻手动从原容器转移到光刻机台，完成向光刻机台的光阻供液过程。上述光阻供液过程全程由作业员进行操作和管控，存在安全和生产隐患，并且占用工时，影响机台产出，具体体现在：首先，光阻有刺激性气味，如果没有做好防护，作业员在与光阻频繁接触的过程中可能受到健康损害；其次，人工运输提高了光阻瓶破损的可能性；再次，该方法每次将光阻添加到光刻机台时都需要机台停机才本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光阻供液系统，其特征在于，包括：/n冷藏槽，位于一光阻冷藏区，待用的光阻解冻前被存放于所述冷藏槽；/n解冻槽，位于一常温区，待用的光阻在转移至光刻机台之前在所述解冻槽中进行解冻；/n第一计时器和第二计时器，所述第一计时器计量同一生产批次的光阻在所述冷藏槽内的放置时间，所述第二计时器计量解冻后的光阻在所述解冻槽内的放置时间；/n光阻泵，所述光阻泵的进口端连接所述冷藏槽，出口端连接所述解冻槽；/n暂存槽，解冻后的光阻在转移至所述光刻机台之前部分存放于所述暂存槽内；以及/n单向阀，所述单向阀的进口端连接所述解冻槽，出口端连接所述暂存槽。/n

【技术特征摘要】
1.一种光阻供液系统，其特征在于，包括：
冷藏槽，位于一光阻冷藏区，待用的光阻解冻前被存放于所述冷藏槽；
解冻槽，位于一常温区，待用的光阻在转移至光刻机台之前在所述解冻槽中进行解冻；
第一计时器和第二计时器，所述第一计时器计量同一生产批次的光阻在所述冷藏槽内的放置时间，所述第二计时器计量解冻后的光阻在所述解冻槽内的放置时间；
光阻泵，所述光阻泵的进口端连接所述冷藏槽，出口端连接所述解冻槽；
暂存槽，解冻后的光阻在转移至所述光刻机台之前部分存放于所述暂存槽内；以及
单向阀，所述单向阀的进口端连接所述解冻槽，出口端连接所述暂存槽。


2.如权利要求1所述的光阻供液系统，其特征在于，所述光刻机台为多个，所述光阻供液系统包括多个所述暂存槽，各个所述暂存槽分别连接各个所述光刻机台，所述解冻槽与每个所述暂存槽之间均设置有一个所述单向阀。


3.如权利要求1所述的光阻供液系统，其特征在于，还包括：
第一液位传感器，设置于所述冷藏槽内；
第二液位传感器，设置于所述解冻槽内；
第一电磁阀，设置于所述冷藏槽的出口位置；
第二电磁阀，设置于所述解冻槽的出口位置；以及
控制装置，包括PLC组件，所述控制装置连...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨柯，朱成云，古哲安，黄志凯，
申请(专利权)人：德淮半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32