【技术实现步骤摘要】
线圈组件本申请要求于2018年7月10日在韩国知识产权局提交的第10-2018-0080217号韩国专利申请的优先权的权益,所述韩国专利申请的公开内容通过引用被全部包含于此。
本公开涉及一种线圈组件。
技术介绍
电感器(一种线圈组件)是与电阻器和电容器一起用在电子装置中的代表性无源电子组件。由于电子装置被设计为具有较高性能并且尺寸减小,因此用在电子装置中的电子组件数量增多并且尺寸减小。因此,对去除电子组件中造成噪声的因素(诸如电磁干扰(EMI))的需求已逐渐提高。目前使用的EMI屏蔽技术是:在将电子组件安装在基板上之后,用屏蔽罩包封电子组件和基板。
技术实现思路
本公开的一方面在于提供一种能够减小漏磁通的线圈组件。本公开的另一方面在于提供一种在减小漏磁通的同时具有减小的尺寸和厚度的线圈组件。根据本公开的一方面,一种线圈组件包括:主体,具有底表面和顶表面以及多个壁,所述底表面和所述顶表面在一个方向上彼此背对,所述多个壁分别将所述主体的所述底表面连接到所述顶表面;凹部,分别形成在所述主体的所述多个壁中的所述主体的彼此背对的前表面和后表面二者中,并且延伸直到所述主体的所述底表面;线圈部,埋设在所述主体中,并且包括暴露于所述凹部的内壁和下凸缘表面的第一引出部和第二引出部;第一外电极和第二外电极,分别包括设置在所述凹部中的连接部以及设置在所述主体的所述底表面上的延伸部,并且所述第一外电极和所述第二外电极连接到所述线圈部;屏蔽层,包括设置在所述主体的所述顶表面上 ...
【技术保护点】
1.一种线圈组件,包括:/n主体,具有底表面和顶表面以及多个壁,所述底表面和所述顶表面在一个方向上彼此背对,所述多个壁分别将所述主体的所述底表面连接到所述顶表面;/n凹部,分别形成在所述主体的所述多个壁中的所述主体的彼此背对的前表面和后表面二者中,并且延伸直到所述主体的所述底表面,其中,所述凹部包括内壁和下凸缘表面;/n线圈部,埋设在所述主体中,并且包括暴露于所述凹部的内壁和下凸缘表面的第一引出部和第二引出部;/n第一外电极和第二外电极,分别包括设置在所述凹部中的连接部以及设置在所述主体的底表面上的延伸部,并且所述第一外电极和所述第二外电极连接到所述线圈部;/n屏蔽层,包括设置在所述主体的所述顶表面上的盖部以及分别设置在所述主体的所述多个壁上的侧壁部;以及/n绝缘层,设置在所述主体与所述屏蔽层之间并且延伸到所述凹部的所述下凸缘表面和所述内壁上,以覆盖所述连接部。/n
【技术特征摘要】
20180710 KR 10-2018-00802171.一种线圈组件,包括:
主体,具有底表面和顶表面以及多个壁,所述底表面和所述顶表面在一个方向上彼此背对,所述多个壁分别将所述主体的所述底表面连接到所述顶表面;
凹部,分别形成在所述主体的所述多个壁中的所述主体的彼此背对的前表面和后表面二者中,并且延伸直到所述主体的所述底表面,其中,所述凹部包括内壁和下凸缘表面;
线圈部,埋设在所述主体中,并且包括暴露于所述凹部的内壁和下凸缘表面的第一引出部和第二引出部;
第一外电极和第二外电极,分别包括设置在所述凹部中的连接部以及设置在所述主体的底表面上的延伸部,并且所述第一外电极和所述第二外电极连接到所述线圈部;
屏蔽层,包括设置在所述主体的所述顶表面上的盖部以及分别设置在所述主体的所述多个壁上的侧壁部;以及
绝缘层,设置在所述主体与所述屏蔽层之间并且延伸到所述凹部的所述下凸缘表面和所述内壁上,以覆盖所述连接部。
2.根据权利要求1所述的线圈组件,其中,所述连接部和所述延伸部沿着所述凹部的所述下凸缘表面、所述凹部的内壁以及所述主体的所述底表面以一体化的形式形成。
3.根据权利要求1所述的线圈组件,其中,所述凹部延伸直到所述主体的两个侧表面,所述两个侧表面连接所述主体的所述多个壁中的所述主体的前表面和后表面二者。
4.根据权利要求3所述的线圈组件,其中,所述第一外电极和所述第二外电极分别暴露所述主体的两个侧表面与所述凹部的所述内壁之间的边界以及所述主体的两个侧表面与所述主体的所述底表面之间的边界,并且所述第一外电极和所述第二外电极既不跨越所述凹部的所述内壁的整个宽度,也不跨越所述主体的所述底表面的整个宽度。
5.根据权利要求1所述的线圈组件,其中,所述第一引出部和所述第二引出部的暴露于所述凹部的表面的表面粗糙度高于所述第一引出部和所述第二引出部的除了所述第一引出部和所述第二引出部的所述表面之外的表面的表面粗糙度。
6.根据权利要求1所述的线圈组件,所述线圈组件还包括:
内绝缘层,埋设在所述主体中,以支撑所述线圈部,
其中,所述第一引出部和所述第二引出部设置在所述内绝缘层的一个表面上并且彼此间隔开,所述内绝缘层的所述一个表面与所述主体的所述底表面相对,并且
其中,所述线圈部包括:
第一线圈图案,设置在所述内绝缘层的所述一个表面上,与所述第一引出部接触并且与所述第二引出部间隔开;
第二线圈图案,设置在所述内绝缘层的另一表面上,所述另一表面与所述内绝缘层的所述一个表面背对;...
【专利技术属性】
技术研发人员:姜炳守,赵泰衍,车允美,梁主欢,梁正承,朴鲁逸,文炳喆,崔泰畯,林承模,
申请(专利权)人:三星电机株式会社,
类型:发明
国别省市:韩国;KR
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