【技术实现步骤摘要】
光学镜、X射线荧光分析装置以及X射线荧光分析方法本专利技术专利申请是于2014年2月27日提交的专利技术名称为“光学镜、X射线荧光分析装置以及X射线荧光分析方法”的中国专利技术专利申请No.201480011675.4(国际申请号PCT/EP2014/053799)的分案申请。
本专利技术涉及光学镜、尤其是用于X射线荧光分析装置的光学镜；以及涉及X射线荧光分析装置，其中所述X射线荧光分析装置具有用X射线辐射来辐照试样的X射线源、用于测量由试样发出的X射线荧光辐射的X射线探测器、以及摄像机，其中所述摄像机经由在X射线源的射束路径上成角度布置的光学镜产生试样的被辐照的位置的光学图像。此外，本专利技术涉及用于X射线荧光分析的对应方法，尤其用于确定薄层厚度的方法。
技术介绍
X射线荧光分析是一种用于定性和定量材料分析的无损方法。该方法是基于这样的原理，通过用复色X射线辐射来辐照试样，电子从形成试样的原子的内壳释放。原子之间的间隙由来自内壳的电子充满。在这些转换的过程中，X射线范围内的特征荧光辐射出现，其通过探测器被记录并且提...
【技术保护点】
1.一种用于X射线荧光分析装置的光学镜，所述X射线荧光分析装置具有X射线源(10)，用来利用X射束(19)辐照试样(15)；X射线探测器(17)，用于测量由所述试样发出的X射线荧光辐射(16)；以及摄像机(25)，用于经由所述光学镜(20)产生试样(15)的被辐照的测量位置(29)的光学控制图像(26)，所述光学镜在所述X射线源(10)的射束路径中成角度地布置，所述光学镜包括载体(21)，在所述载体(21)上设置有镜层(28)，/n其特征在于，/n所述载体(21)具有平坦的基体，所述平坦的基体在用于X射束(19)的通窗的区域内具有凹口(23)，并且在所述载体(21)的外侧上...
【技术特征摘要】
20130307 DE 102013102270.71.一种用于X射线荧光分析装置的光学镜，所述X射线荧光分析装置具有X射线源(10)，用来利用X射束(19)辐照试样(15)；X射线探测器(17)，用于测量由所述试样发出的X射线荧光辐射(16)；以及摄像机(25)，用于经由所述光学镜(20)产生试样(15)的被辐照的测量位置(29)的光学控制图像(26)，所述光学镜在所述X射线源(10)的射束路径中成角度地布置，所述光学镜包括载体(21)，在所述载体(21)上设置有镜层(28)，
其特征在于，
所述载体(21)具有平坦的基体，所述平坦的基体在用于X射束(19)的通窗的区域内具有凹口(23)，并且在所述载体(21)的外侧上将所述平坦的基体和所述凹口(23)覆盖的膜(22)形成所述镜层(28)，其中所述膜(22)被粘接至所述载体(21)并且以无张力的方式覆盖所述载体(21)的凹口(23)，并且其中所述平坦的基体由玻璃制成。
2.根据权利要求1所述的光学镜，其特征在于，所述膜(22)由塑料制成。
3.根据权利要求2所述的光学镜，其特征在于，所述膜(22)由聚对苯二甲酸乙二酯制成。
4.根据权利要求1所述的光学镜，其特征在于，所述膜(22)被金属化。
5.根据权利要求2所述的光学镜，其特征在于，所述膜(22)具有由铝制成的涂层。
6.根据权利要求1所述的光学镜，其特征在于，所述膜(22)具有范围在几微米内的厚度。
7.根据权利要求1所述的光学镜，其特征在于，所述凹口为圆孔。
8.根据权利要求1所述的光学镜，其特征在于，所述载体(21)被实施为仅仅矩...
【专利技术属性】
技术研发人员：V·勒西格，
申请(专利权)人：赫尔穆特费舍尔股份有限公司电子及测量技术研究所，
类型：发明
国别省市：德国;DE
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