用于验证X射线荧光装置的校准的测量对象和方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于验证X射线荧光装置(9)的校准的测量对象(100)和方法，其中测量对象(100)具有主体(110)和布置在主体(110)上的至少一个标记(112)。标记由与主体(110)不同的材料形成，并且标记(112)配有至少一个另外的层(114)，所述层在受到X射线辐射(RS)撞击时发出具有不同强度(IS、IRf)的电磁辐射。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种用于验证x射线荧光装置的校准的测量对象和方法。

技术介绍

1、文件cn101551347b提供了用于x射线荧光装置中的x射线辐射点的初始对准的校准标准。该校准标准被设计为具有两个纵向狭缝的板，这两个纵向狭缝彼此成直角对准。通过在x射线荧光装置的工作台上移动校准标准，板的区域中和狭缝的区域中发出的x射线荧光辐射的强度被检测到以对准x射线辐射点。

2、文件de 19836884c1还公开了一种用于确定x射线荧光分析中的测量点的强度数据的方法和样品部件。所述样品部件由周围材料和布置在周围材料内的具有限定轮廓的探针组成。周围材料和探针材料对发出的x射线荧光辐射具有相同的线性衰减系数。通过移动测量台上的样品部件，可以确定x射线荧光源的强度中心和测量点轮廓。

3、从jp 2008-286554a已知一种x射线荧光分析仪。提供了用于确定测量台上样品的位置的相机。在关闭x射线荧光分析仪的盖子之前和之后，捕获并分析测量台上样品的位置的图像。

4、从文献de 10013012a1已知一种x射线荧光分析仪。在执行x射线荧光分本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于校准X射线荧光装置(9)的测量对象(100)，所述X射线荧光装置(9)通过X射线源(10)发出X射线辐射(RS)，并且所述X射线荧光装置(9)包括用于评估X射线荧光的检测器(12)，所述测量对象具有主体(110)和布置在所述主体(110)上的至少一个标记(112)，其中，所述主体(110)由第一材料(M-1)形成，所述主体(110)上和/或所述主体(110)内的所述标记(112)由不同于所述第一材料(M-1)的第二材料(M-2)形成，其中：

2.根据权利要求1所述的测量对象(100)，其中，所述层(114)和所述标记(112)能够至少部分地同时暴露于所述X射线辐射...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于校准x射线荧光装置(9)的测量对象(100)，所述x射线荧光装置(9)通过x射线源(10)发出x射线辐射(rs)，并且所述x射线荧光装置(9)包括用于评估x射线荧光的检测器(12)，所述测量对象具有主体(110)和布置在所述主体(110)上的至少一个标记(112)，其中，所述主体(110)由第一材料(m-1)形成，所述主体(110)上和/或所述主体(110)内的所述标记(112)由不同于所述第一材料(m-1)的第二材料(m-2)形成，其中：

2.根据权利要求1所述的测量对象(100)，其中，所述层(114)和所述标记(112)能够至少部分地同时暴露于所述x射线辐射(rs)。

3.根据权利要求1或2所述的测量对象(100)，其中，所述第二材料(m-2)是重金属，例如铅。

4.根据前述权利要求中至少一项所述的测量对象(100)，其中，所述第一材料(m-1)不是重金属。

5.根据前述权利要求中至少一项所述的测量对象(100)，其中，与所述第二材料(m-2)相比，所述第一材料(m-1)在暴露于所述x射线辐射(rs)时发出相对较低的x射线荧光发射物。

6.根据前述权利要求中任一项所述的测量对象(100)，其中，所述层(114)的重心(fs)和所述标记(112)的重心(fm)是一致的。

7.根据前述权利要求中至少一项所述的测量对象(100)，其中，所述层(114)具有荧光涂层，或者所述层(14)是荧光涂层。

8.根据前述权利要求中任一项所述的测量对象(100)，其中，所述层(114)的所述预定波长范围(wlb)在300nm与1100nm(纳米)之间的范围内，特别是在400nm与800nm之间的范围内。

9.根据前述权利要求中至少一项所述的测量对象(100)，其中，所述标记(112)具有至少两条相交线(112a、112b)，例如直线，所述至少两条相交线优选地彼此正交对准。

10.根据前述权利要求中至少一项所述的测量对象(100)，其中，所述标记(112)具有至少一个圆(112c)，并且优选地，所述圆(112c)与所述至少两条相交线(112a、112b)的相交点(112ab)同心地布置。

11.根据权利要求10所述的测量对象(100)，其中，所述层(114)在所述圆(112c)内的整个区域上延伸。

12.根据前述权利要求中至少一项所述的测量对象(100)，其中，所述主体(110)具有片状形状，和/或所述主体(110)的厚度(d1)小于所述主体(110)在垂直于所述厚度(d1)方向上的至少一个外部尺寸，并且优选地，所述主体(110)的所述厚度(d1)小于所述主体(110)的宽度(b1)和高度(h1)或小于所述主体(110)的具有所述标记(112)的表面(100a)的宽度(b1)和高度(h1)。

13.根据前述权利要求中至少一项所述的测量对象(100)，其中，所述测量对象(100)能够被手动和/或自动地放置在样品台(20)上。

14.一种用于验证x射线荧光装置(9)的校准的方法，所述x射线荧光装置(9)包括发出x射线辐射(rs)的x射线源(10)、聚焦x射线束(rs)的至少一...

【专利技术属性】
技术研发人员：马丁·莱布尼兹，
申请(专利权)人：赫尔穆特费舍尔股份有限公司电子及测量技术研究所，
类型：发明
国别省市：