一种适用于光电器件的光电子膜制造技术

技术编号:23127815 阅读:23 留言:0更新日期:2020-01-18 01:22
本实用新型专利技术公开一种适用于光电器件的光电子膜,包括:片状基材;第一遮光单元和第二遮光单元,其设置在片状基材的两面;所述第一遮光单元包括:第一黑墨层,其与片状基材一面接触,其上均匀设置有纳米黑墨颗粒;第二黑墨层,其上间隔设置有第一黑墨条;第三黑墨层,其上间隔设置有第二黑墨条;第四黑墨层,其上均匀设置有纳米黑墨颗粒;所述第二遮光单元包括:第五黑墨层,其与片状基材另一面接触,其上均匀设置有纳米黑墨颗粒;第六黑墨层,其上间隔设置有第三黑墨条;第七黑墨层,其上间隔设置有第四黑墨条;第八黑墨层,其上均匀设置有纳米黑墨颗粒;所述第一黑墨条、第二黑墨条、第三黑墨条和第四黑墨条均由纳米黑墨颗粒组成且之间互成夹角。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于光电器件的光电子膜
本技术涉及光电子膜
,更具体的是,本技术涉及一种适用于光电器件的光电子膜。
技术介绍
光电子膜,其应用广泛,例如手机、平板电脑和显示器等等部件上。光电子膜的结构,其一般为多层的结构,中间的基材层,然后在基材层的两个表面设计不同材料的层,以适用于不同的产品。然而,现有的光电子膜,一般为只在基材层的一面设计黑墨层,虽然这种结构的电子膜其能够满足一定程度上的使用要求,但是,这种结构其避光或者遮光效果还是较差。因此,急需开发一款可以解决上述技术问题的遮光电子膜。
技术实现思路
本技术设计开发了一种适用于光电器件的光电子膜,在片状基材两面设置有遮光单元,并且遮光单元由不同黑墨层组成,遮光效果较好。本技术提供的技术方案为:一种适用于光电器件的光电子膜,包括:片状基材;以及第一遮光单元和第二遮光单元,其分别设置在所述片状基材的两面;所述第一遮光单元包括:第一黑墨层,其与所述片状基材一面接触,其上均匀设置有纳米黑墨颗粒;第二黑墨层,其与所述第一黑墨层接触,其上间隔设置有第一黑墨条;第三黑墨层,其与所述第二黑墨层接触,其上间隔设置有第二黑墨条;第四黑墨层,其与所述第三黑墨层接触,其上均匀设置有纳米黑墨颗粒;所述第二遮光单元包括:第五黑墨层,其与所述片状基材另一面接触,其上均匀设置有纳米黑墨颗粒;第六黑墨层,其与所述第五黑墨层接触,其上间隔设置有第三黑墨条;第七黑墨层,其与所述第六黑墨层接触,其上间隔设置有第四黑墨条;第八黑墨层,其与所述第七黑墨层接触,其上均匀设置有纳米黑墨颗粒;其中,所述第一黑墨条、第二黑墨条、第三黑墨条和第四黑墨条均由纳米黑墨颗粒组成且所述第一黑墨条、第二黑墨条、第三黑墨条和第四黑墨条之间互成夹角。优选的是,所述第一黑墨条与所述第二黑墨条垂直,所述第三黑墨条与所述第四黑墨条垂直。优选的是,所述第一黑墨条与所述第二黑墨条的夹角为45°,所述第二黑墨条与所述第三黑墨条的夹角为45°,所述第三黑墨条与所述第四黑墨条的夹角为45°。优选的是,所述第一黑墨条的间隔距离、第二黑墨条的间隔距离、第三黑墨条的间隔距离和第四黑墨条的间隔距离相等。优选的是,所述第一黑墨条、第二黑墨条、第三黑墨条和第四黑墨条的宽度相等。优选的是,所述第一黑墨条的间隔距离与所述第一黑墨条的宽度相等。优选的是,所述第四黑墨层的黑墨颗粒浓度小于等于所述第一黑墨层的黑墨颗粒浓度;所述第八黑墨层的黑墨颗粒浓度小于等于所述第五黑墨层的黑墨颗粒浓度。优选的是,所述第一黑墨条的间隔距离、第二黑墨条的间隔距离、第三黑墨条的间隔距离和第四黑墨条的间隔距离为1~3nm。优选的是,所述第一黑墨条、第二黑墨条、第三黑墨条和第四黑墨条的宽度为1~3nm。优选的是,还包括:第一离型纸,其设置在所述第四黑墨层外侧;第二离型纸,其设置在所述第八黑墨层外侧。本技术所述的有益效果;本技术设计开发的适用于光电器件的光电子膜,在片状基材两面设置有遮光单元,并且遮光单元由不同黑墨层组成且不同黑墨层的结构不同,黑墨颗粒浓度不同,能够较好的实现遮光。附图说明图1为本技术所述适用于光电器件的光电子膜的结构示意图。图2为本技术所述第二黑墨层的结构示意图。具体实施方式下面结合附图对本技术做进一步的详细说明,以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。如图1所示,本技术提供一种适用于光电器件的光电子膜,包括:片状基材100;以及第一遮光单元110和第二遮光单元120,其分别设置在片状基材100的两面。对片状基材100实现双面遮光,更好的提高遮光效果。所述的第一遮光单元110包括:第一黑墨层111,其与片状基材100一面接触,其上均匀设置有纳米黑墨颗粒;第二黑墨层112,其与第一黑墨层111接触,其上间隔设置有第一黑墨条1121;第三黑墨层113,其与第二黑墨层112接触,其上间隔设置有第二黑墨条;第四黑墨层114,其与第三黑墨层113接触,其上均匀设置有纳米黑墨颗粒。所述的第二遮光单元120包括:第五黑墨层121,其与片状基材100另一面接触,其上均匀设置有纳米黑墨颗粒;第六黑墨层122,其与第五黑墨层121接触,其上间隔设置有第三黑墨条;第七黑墨层123,其与第六黑墨层122接触,其上间隔设置有第四黑墨条;第八黑墨层124,其与第七黑墨层123接触,其上均匀设置有纳米黑墨颗粒。本实施例中,所述的第一黑墨条1121、第二黑墨条、第三黑墨条和第四黑墨条均由纳米黑墨颗粒组成且第一黑墨条1121、第二黑墨条、第三黑墨条和第四黑墨条之间互成夹角,使得遮光效果更好。优选的分布方式为第一黑墨条1121与所述第二黑墨条垂直,第三黑墨条与第四黑墨条垂直。或者是所述的第一黑墨条1121与第二黑墨条的夹角为45°,第二黑墨条与第三黑墨条的夹角为45°,第三黑墨条与第四黑墨条的夹角为45°。使得第一黑墨条1121、第二黑墨条、第三黑墨条和第四黑墨条之间互成夹角后分布均匀,实现均匀遮光。如图2所示,本实施例中,所述的第二黑墨层112、第三黑墨层113、第五黑墨层122和第六黑墨层123的结构一致,只是在分布时调整黑墨层的旋转方向进而调整各黑墨条之间的夹角而已。即第一黑墨条1121的间隔距离、第二黑墨条的间隔距离、第三黑墨条的间隔距离和第四黑墨条的间隔距离相等。且第一黑墨条1121、第二黑墨条、第三黑墨条和第四黑墨条的宽度相等。且在每个第二黑墨层112、第三黑墨层113、第五黑墨层122和第六黑墨层123中,对应黑墨层中的黑墨条的宽度和间隔相同,为1~3nm,优选2nm。本实施例中,所述的第四黑墨层114的黑墨颗粒浓度小于等于第一黑墨层111的黑墨颗粒浓度;第八黑墨层124的黑墨颗粒浓度小于等于第五黑墨层121的黑墨颗粒浓度,能够进一步实现遮光。在第四黑墨层114外侧设置有第一离型纸115,在第八黑墨层124外侧设置第二离型纸125,保护遮光单元不受污染。本技术设计开发的适用于光电器件的光电子膜,在片状基材两面设置有遮光单元,并且遮光单元由不同黑墨层组成且不同黑墨层的结构不同,黑墨颗粒浓度不同,能够较好的实现遮光。尽管本技术的实施方案已公开如上,但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用,它完全可以被适用于各种适合本技术的领域,对于熟悉本领域的人员而言,可容易地实现另外的修改,因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下,本技术并不限于特定的细节和这里示出与描述的图例。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种适用于光电器件的光电子膜,其特征在于,包括:/n片状基材;以及/n第一遮光单元和第二遮光单元,其分别设置在所述片状基材的两面;/n所述第一遮光单元包括:/n第一黑墨层,其与所述片状基材一面接触,其上均匀设置有纳米黑墨颗粒;/n第二黑墨层,其与所述第一黑墨层接触,其上间隔设置有第一黑墨条;/n第三黑墨层,其与所述第二黑墨层接触,其上间隔设置有第二黑墨条;/n第四黑墨层,其与所述第三黑墨层接触,其上均匀设置有纳米黑墨颗粒;/n所述第二遮光单元包括:/n第五黑墨层,其与所述片状基材另一面接触,其上均匀设置有纳米黑墨颗粒;/n第六黑墨层,其与所述第五黑墨层接触,其上间隔设置有第三黑墨条;/n第七黑墨层,其与所述第六黑墨层接触,其上间隔设置有第四黑墨条;/n第八黑墨层,其与所述第七黑墨层接触,其上均匀设置有纳米黑墨颗粒;/n其中,所述第一黑墨条、第二黑墨条、第三黑墨条和第四黑墨条均由纳米黑墨颗粒组成且所述第一黑墨条、第二黑墨条、第三黑墨条和第四黑墨条之间互成夹角。/n

【技术特征摘要】
1.一种适用于光电器件的光电子膜,其特征在于,包括:
片状基材;以及
第一遮光单元和第二遮光单元,其分别设置在所述片状基材的两面;
所述第一遮光单元包括:
第一黑墨层,其与所述片状基材一面接触,其上均匀设置有纳米黑墨颗粒;
第二黑墨层,其与所述第一黑墨层接触,其上间隔设置有第一黑墨条;
第三黑墨层,其与所述第二黑墨层接触,其上间隔设置有第二黑墨条;
第四黑墨层,其与所述第三黑墨层接触,其上均匀设置有纳米黑墨颗粒;
所述第二遮光单元包括:
第五黑墨层,其与所述片状基材另一面接触,其上均匀设置有纳米黑墨颗粒;
第六黑墨层,其与所述第五黑墨层接触,其上间隔设置有第三黑墨条;
第七黑墨层,其与所述第六黑墨层接触,其上间隔设置有第四黑墨条;
第八黑墨层,其与所述第七黑墨层接触,其上均匀设置有纳米黑墨颗粒;
其中,所述第一黑墨条、第二黑墨条、第三黑墨条和第四黑墨条均由纳米黑墨颗粒组成且所述第一黑墨条、第二黑墨条、第三黑墨条和第四黑墨条之间互成夹角。


2.如权利要求1所述的适用于光电器件的光电子膜,其特征在于,所述第一黑墨条与所述第二黑墨条垂直,所述第三黑墨条与所述第四黑墨条垂直。


3.如权利要求1所述的适用于光电器件的光电子膜,其特征在于,所述第一黑墨条与所述第二黑墨条的夹角为45°,所述第二黑墨条与所述第三黑墨条的夹角为45°,所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员:战荫泽李居尚厉旭婷姜丽丽张立东石凯轩昂武子默
申请(专利权)人:长春理工大学光电信息学院
类型:新型
国别省市:吉林;22

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