本发明专利技术涉及抛光辅助设备技术领域，尤其涉及一种卸载装置及化学机械抛光辅助设备。本发明专利技术提供的卸载装置，包括抛盘、喷淋机构、回收机构、传送机构和卸载机构，喷淋机构包括喷淋槽和多组喷头，回收机构包括回收片盒，传送机构包括传送带，卸载机构包括卸载台和高压水喷头。该卸载装置，通过将抛盘放置在喷淋槽内的传送带上，在传送带能够将抛盘传送至卸载口的过程中，喷头向抛盘上喷射保护液，当传送带将抛盘传送至卸载口处时，卸载台向上运动以将抛盘顶升起来并与传送带分离，并使抛盘与回收片盒的开口相对，高压水喷头将抛盘上的产品喷射入回收片盒内，实现了使抛盘上的产品在卸载过程一直处于湿润状态，便于产品后续的清洗操作。
【技术实现步骤摘要】
一种卸载装置及化学机械抛光辅助设备
本专利技术涉及抛光辅助设备
，尤其涉及一种卸载装置及化学机械抛光辅助设备。
技术介绍
化学机械抛光工艺(ChemicalMechanicalPlanarization，CMP)是用化学腐蚀和机械力对加工过程中的晶圆片或其它衬底材料进行平滑处理。其包括化学过程和物理过程，其中，化学过程是研磨液中的化学品和晶圆片表面发生化学反应，生成比较容易去除的物质；物理过程是研磨液中的磨粒和晶圆片表面材料发生机械物理摩擦，去除化学反应生成的物质。经CMP工艺处理后必然会造成晶圆片的表面缺陷，一般包括擦伤、残留物和表面污染，所以，在CMP工艺后必须对晶圆片进行有效的清洗来实现CMP的工艺优点，而清洗工艺能够有效清洗晶圆片表面缺陷的前提是CMP工艺处理后的晶圆片表面必需始终保持湿润不干状态，否则会清洗不干净，导致产品不合格。现有的卸载装置不能够保证卸载晶圆片的同时，保证晶圆片处于湿润状态下。因此，亟需一种在晶圆片抛光后能够保证晶圆片处于湿润状态下的卸载装置。
技术实现思路
本专利技术的一个目的在于提供一种卸载装置，以解决现有技术中存在的问题，能够保证抛光后的产品的处于湿润状态。本专利技术的另一个目的在于提供一种化学机械抛光辅助设备，通过应用上述卸载装置，能够保证抛光后的产品的处于湿润状态，便于对产品进行清洗，提高产品质量。为实现上述目的，提供以下技术方案：一种卸载装置，包括抛盘，所述抛盘被配置为用于放置产品，所述卸载装置还包括：喷淋机构，包括喷淋槽和多组喷头，所述喷淋槽上开设有卸载口，多组所述喷头沿水平方向排列悬置在所述喷淋槽的上方且能够向所述喷淋槽内喷射保护液；回收机构，包括回收片盒，所述回收片盒的开口与所述卸载口相对设置；传送机构，包括传送带，所述传送带部分设置在所述喷淋槽内，所述抛盘设置在所述传送带上，所述传送带能够将所述抛盘传送至所述卸载口；卸载机构，包括卸载台和高压水喷头，所述卸载台能够将所述传送带上的所述抛盘推顶升起并与所述传送带分离，所述高压水喷头能够将所述抛盘上的产品冲射入所述回收片盒内。进一步地，每组所述喷头包括至少两个喷嘴，所述喷嘴的喷射角度为α，所述抛盘的直径为D，所述喷头至所述抛盘的距离L1≥0.5D*cot(0.5α)，相邻两个所述喷嘴之间的距离L2≤0.25D。进一步地，所述喷淋机构还包括喷淋管路，所述喷淋管路设置在所述喷淋槽的上方，多组所述喷头均与所述喷淋管路相连通。进一步地，所述卸载装置还包括隔挡机构，所述隔挡机构包括隔板，所述喷淋槽的底部上设置有避让槽，所述隔板穿设在所述避让槽内，所述隔板能够沿竖直方向移动，以阻挡所述抛盘随所述传送带移动或允许所述抛盘随所述传送带移动。进一步地，所述隔板的数量为多个，相邻两个所述隔板之间的距离L3的范围为D＜L3＜2D。进一步地，所述隔挡机构还包括隔板驱动器，所述隔板驱动器的输出端与所述隔板相连接，所述隔板驱动器能够驱动所述隔板沿竖直方向移动。进一步地，所述抛盘上设置有供所述产品进出的开口，所述卸载机构还包括卸载驱动器，所述卸载驱动器能够驱动所述卸载台沿竖直方向移动以及在水平面内旋转，以使所述抛盘的开口与所述回收片盒的开口相对设置。进一步地，所述回收片盒内设置有多个卡槽，所述回收片盒能够沿竖直方向移动，以使一个所述卡槽收纳一个产品。进一步地，所述回收机构还包括设置有保护液的回收台，所述回收片盒设置在所述回收台上，且所述回收片盒内的产品能够浸没在所述保护液内。一种化学机械抛光辅助设备，包括如上所述的卸载装置。与现有技术相比，本专利技术的有益效果为：本专利技术提供的卸载装置，包括抛盘、喷淋机构、回收机构、传送机构和卸载机构，喷淋机构包括喷淋槽和多组喷头，回收机构包括回收片盒，传送机构包括传送带，卸载机构包括卸载台和高压水喷头。该卸载装置，通过将抛盘放置在喷淋槽内的传送带上，在传送带能够将抛盘传送至卸载口的过程中，喷头向抛盘上喷射保护液，当传送带将抛盘传送至卸载口处时，卸载台向上运动以将抛盘顶升起来并与传送带分离，并使抛盘与回收片盒的开口相对，高压水喷头将抛盘上的产品喷射入回收片盒内，实现了使抛盘上的产品在卸载过程一直处于湿润状态。本专利技术提供的化学机械抛光辅助设备，通过应用上述卸载装置，能够保证抛光后的产品的处于湿润状态，便于对产品进行清洗，提高产品质量。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对本专利技术实施例描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据本专利技术实施例的内容和这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的卸载装置的正视示意图；图2为本专利技术实施例提供的卸载装置的俯视示意图；图3为本专利技术实施例提供的喷淋槽、隔板一个状态的配合示意图；图4为本专利技术实施例提供的喷淋槽、隔板另一个状态的配合示意图。附图标记：100-抛盘；11-喷淋槽；111-卸载口；112-避让槽；12-喷头；13-喷淋管路；14-控制阀；21-回收片盒；22-回收台；31-传送带；32-传动轮；41-卸载台；42-高压水喷头；43-卸载驱动器；51-隔板；52-隔板驱动器。具体实施方式为了使本领域技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本专利技术的技术方案。在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或是本产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。如图1-图4所示，本实施例提供了一种卸载装置，包括抛盘100、喷淋机构、回收机构、传送机构和卸载机构，其中，抛盘100被配置为用于放置产品；喷淋机构用于向产品喷射保护液，使产品处于湿润状态；回收机构用于将抛光后的产品收纳起来；传送机构用于将抛盘100及其上产品传送至卸载机构处，以使卸载机构将抛盘100上的产品卸载至回收机构内。该卸载装置，通过喷淋机构能够使产品一直处于湿润状态，通过传送机构和卸载机构能够将产品卸载至回收机构内，能够实现在产品卸载的过程中对产品喷射保护液，使产品处于湿润状态。需要说明的是，产品可以是本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种卸载装置，包括抛盘(100)，所述抛盘(100)被配置为用于放置产品，其特征在于，所述卸载装置还包括：/n喷淋机构，包括喷淋槽(11)和多组喷头(12)，所述喷淋槽(11)上开设有卸载口(111)，多组所述喷头(12)沿水平方向排列悬置在所述喷淋槽(11)的上方且能够向所述喷淋槽(11)内喷射保护液；/n回收机构，包括回收片盒(21)，所述回收片盒(21)的开口与所述卸载口(111)相对设置；/n传送机构，包括传送带(31)，所述传送带(31)部分设置在所述喷淋槽(11)内，所述抛盘(100)设置在所述传送带(31)上，所述传送带(31)能够将所述抛盘(100)传送至所述卸载口(111)；/n卸载机构，包括卸载台(41)和高压水喷头(42)，所述卸载台(41)能够将所述传送带(31)上的所述抛盘(100)推顶升起并与所述传送带(31)分离，所述高压水喷头(42)能够将所述抛盘(100)上的产品冲射入所述回收片盒(21)内。/n
【技术特征摘要】
1.一种卸载装置，包括抛盘(100)，所述抛盘(100)被配置为用于放置产品，其特征在于，所述卸载装置还包括：
喷淋机构，包括喷淋槽(11)和多组喷头(12)，所述喷淋槽(11)上开设有卸载口(111)，多组所述喷头(12)沿水平方向排列悬置在所述喷淋槽(11)的上方且能够向所述喷淋槽(11)内喷射保护液；
回收机构，包括回收片盒(21)，所述回收片盒(21)的开口与所述卸载口(111)相对设置；
传送机构，包括传送带(31)，所述传送带(31)部分设置在所述喷淋槽(11)内，所述抛盘(100)设置在所述传送带(31)上，所述传送带(31)能够将所述抛盘(100)传送至所述卸载口(111)；
卸载机构，包括卸载台(41)和高压水喷头(42)，所述卸载台(41)能够将所述传送带(31)上的所述抛盘(100)推顶升起并与所述传送带(31)分离，所述高压水喷头(42)能够将所述抛盘(100)上的产品冲射入所述回收片盒(21)内。
2.根据权利要求1所述的卸载装置，其特征在于，每组所述喷头(12)包括至少两个喷嘴，所述喷嘴的喷射角度为α，所述抛盘(100)的直径为D，所述喷头(12)至所述抛盘(100)的距离L1≥0.5D*cot(0.5α)，相邻两个所述喷嘴之间的距离L2≤0.25D。
3.根据权利要求2所述的卸载装置，其特征在于，所述喷淋机构还包括喷淋管路(13)，所述喷淋管路(13)设置在所述喷淋槽(11)的上方，多组所述喷头(12)均与所述喷淋管路(13)相连通。
4.根据权利要求2所述的卸载装置，其特征在于，所述卸载装置还包括隔挡机构，所述隔挡机构包...
【专利技术属性】
技术研发人员：孙强，沈思情，张俊宝，陈猛，
申请(专利权)人：上海超硅半导体有限公司，重庆超硅半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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