一种导向机构及抛光设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种导向机构及抛光设备，涉及晶圆片制造技术领域。该导向机构包括底座、轴承以及设置于底座顶部的支撑杆，轴承套接于支撑杆上，导向机构还包括抵接部件，抵接部件固定连接于支撑杆的顶部，并将轴承的内圈夹持固定于抵接部件和底座之间。当将导向机构的底座和轴承外圈分别连接于两个相对旋转部件时，通过导向机构作为两部件间的相对旋转介质，能够实现两个旋转部件的旋转导向，保证两部件的稳定旋转。抛光设备包括导向机构，还包括抛光轮、抛光组件和连接组件。通过将导向机构的底座和轴承外圈分别连接相对旋转的抛光轮和连接组件，实现抛光轮与连接组件的旋转导向，进而保证抛光组件在连接组件的限制下稳定旋转。

【技术实现步骤摘要】
一种导向机构及抛光设备
本技术涉及晶圆片制造
，尤其涉及一种导向机构及抛光设备。
技术介绍
化学机械抛光工艺(ChemicalMechanicalPlanarization，CMP)是一种利用化学腐蚀和机械加工方式对晶圆片或其他衬底材料进行平滑处理，CMP工艺包括物理过程和化学过程。其中，化学过程是研磨液中的化学品和晶圆片发生化学反应，并在晶圆片表面生成比较容易去除的物质，而物理过程则利用研磨液中的磨粒与晶圆片表面进行物理摩擦，通过去除其表面物质而形成光滑的晶圆片。但在进行物理摩擦过程中，易出现抛头晃动的问题，导致晶圆片表面抛光不均匀，从而影响产品质量。因此，如何对现有的导向机构及抛光设备进行改进，使其克服上述问题是本领域技术人员亟待解决的一个问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种导向机构，该导向机构能够实现两个相对旋转部件之间的旋转导向，保证其旋转的稳定性。为达此目的，本技术采用以下技术方案：一种导向机构，所述导向机构包括：底座；支撑杆，设置于所述底座的顶部；轴承，所述轴承套接于所述支撑杆上；及抵接部件，所述抵接部件固定连接于所述支撑杆的顶部，并将所述轴承的内圈夹持固定于所述抵接部件和所述底座之间。可选地，所述支撑杆沿轴线方向的尺寸不大于所述轴承的轴向尺寸；所述抵接部件沿径向的尺寸不大于所述轴承的外圈滚道直径。可选地，所述底座包括：第一圆台；锥台，所述锥台的大径端与所述第一圆台连接；及>第二圆台，与所述锥台的小径端连接，所述第二圆台的直径大于所述支撑杆的直径，所述轴承的底面支撑于所述第二圆台的上端。本技术的另一个目的在于提供一种包括上述导向机构的抛光设备，该导向机构能够可拆卸连接于抛光设备内，实现抛光头的稳定旋转，保证待抛光件的抛光效果。为达此目的，本技术采用以下技术方案：一种抛光设备，所述抛光设备包括上述的导向机构，还包括：抛光轮，所述抛光轮能够绕自身轴线旋转，所述抛光轮中心设置有凹槽，所述底座固定于所述凹槽内，且所述轴承至少部分露出所述凹槽；抛光组件，所述抛光组件设置于所述抛光轮上方，用于将待抛光件压至所述抛光轮表面；连接组件，所述连接组件底端套接于所述轴承外侧，且所述连接组件的底端的外侧与所述抛光组件配合，以实现所述抛光组件的定位。可选地，所述抛光组件包括：抛光头，所述抛光头能够将待抛光件压至所述抛光轮表面；第一驱动机构，输出端与所述抛光头连接，所述第一驱动机构能够驱动所述抛光头沿竖直方向运动，并绕所述抛光头自身轴线以相对所述抛光轮反向旋转。可选地，所述连接组件包括：加工轮，套设于所述轴承的外圈，所述加工轮外侧与所述抛光头抵接；第二驱动机构，输出端与所述加工轮连接，所述第二驱动机构能够驱动所述加工轮相对抛光头的反向旋转，以使所述加工轮配合所述抛光头旋转。可选地，所述加工轮的外侧设置为弹性部，所述弹性部外侧能够与所述抛光头抵接。可选地，所述抛光组件还包括：承载盘，设置于所述抛光头的底面，所述承载盘能够固定所述待抛光件，以通过所述抛光头实现待抛光件的抛光。可选地，所述抛光设备还包括顶板，所述连接组件顶端固定于所述顶板底面的中心位置，所述抛光组件设置多个，多个所述抛光组件围绕所述连接组件的周向间隔排列并连接于所述顶板底面。可选地，所述抛光设备还包括冲洗组件，所述冲洗组件能够冲洗所述抛光轮表面。本技术的有益效果：本技术提供了一种导向机构及抛光设备，该导向机构包括底座、轴承以及设置于底座顶部的支撑杆，轴承套接于支撑杆上，导向机构还包括抵接部件，抵接部件固定连接于支撑杆的顶部，并将轴承的内圈夹持固定于抵接部件和底座之间。当将导向机构的底座和轴承外圈分别连接于两个相对旋转部件时，通过导向机构作为两部件间的相对旋转介质，能够实现两个旋转部件的旋转导向，保证两部件的稳定旋转。抛光设备包括导向机构，还包括抛光轮，导向机构的底座固定于抛光轮中心的凹槽内，且轴承至少部分露出凹槽，抛光轮能够绕自身轴线旋转，从而带动导向机构沿自身轴线旋转。抛光设备还包括抛光组件和连接组件，抛光组件设置于抛光轮上方，用于将待抛光件压至抛光轮表面。由于轴承至少部分露出凹槽，因此连接组件的底端套接于轴承外侧，且连接组件的底端的外侧与抛光组件配合。通过将导向机构的底座和轴承外圈分别连接相对旋转的抛光轮和连接组件，实现抛光轮与连接组件的旋转导向，而连接组件外侧与抛光组件配合，抛光组件即可在连接组件的限制下稳定旋转。同时，连接组件和抛光组件均在驱动部件的作用下相对反向旋转，因此连接组件和抛光组件能够协同旋转，避免出现抛光组件不旋转的情况时，保证了待抛光件的平滑抛光，提高抛光质量。附图说明图1为本技术实施例中的导向机构的爆炸图；图2是本技术实施例中的导向机构中部分结构的俯视图；图3是本技术实施例中的导向机构中部分结构的剖视图；图4是本技术实施例中的装设有导向机构的抛光轮的结构示意图；图5是本技术实施例中的抛光设备的结构示意图；图6是图5的部分剖视图；图7是图6中B的局部放大图。图中：1、导向机构；2、抛光轮；3、顶板；4、连接组件；5、抛光组件；6、冲洗组件；11、底座；12、支撑杆；13、轴承；14、抵接部件；41、加工轮；51、抛光头；52、承载盘；61、供液口；62、集液室；63、出液口。具体实施方式为使本技术解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。在本技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“右”、等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种导向机构，其特征在于，所述导向机构(1)包括：/n底座(11)；/n支撑杆(12)，设置于所述底座(11)的顶部；/n轴承(13)，所述轴承(13)套接于所述支撑杆(12)上；及/n抵接部件(14)，所述抵接部件(14)固定连接于所述支撑杆(12)的顶部，并将所述轴承(13)的内圈夹持固定于所述抵接部件(14)和所述底座(11)之间。/n

【技术特征摘要】
1.一种导向机构，其特征在于，所述导向机构(1)包括：
底座(11)；
支撑杆(12)，设置于所述底座(11)的顶部；
轴承(13)，所述轴承(13)套接于所述支撑杆(12)上；及
抵接部件(14)，所述抵接部件(14)固定连接于所述支撑杆(12)的顶部，并将所述轴承(13)的内圈夹持固定于所述抵接部件(14)和所述底座(11)之间。


2.根据权利要求1所述的导向机构，其特征在于，所述支撑杆(12)沿轴线方向的尺寸不大于所述轴承(13)的轴向尺寸；
所述抵接部件(14)沿径向的尺寸不大于所述轴承(13)的外圈滚道直径。


3.根据权利要求1所述的导向机构，其特征在于，所述底座(11)包括：
第一圆台；
锥台，所述锥台的大径端与所述第一圆台连接；及
第二圆台，与所述锥台的小径端连接，所述第二圆台的直径大于所述支撑杆(12)的直径，所述轴承(13)的底面支撑于所述第二圆台的上端。


4.一种抛光设备，其特征在于，所述抛光设备包括如权利要求1-3中任一项所述的导向机构(1)，还包括：
抛光轮(2)，所述抛光轮(2)能够绕自身轴线旋转，所述抛光轮(2)中心设置有凹槽，所述底座(11)固定于所述凹槽内，且所述轴承(13)至少部分露出所述凹槽；
抛光组件(5)，所述抛光组件(5)设置于所述抛光轮(2)上方，用于将待抛光件压至所述抛光轮(2)表面；
连接组件(4)，所述连接组件(4)底端套接于所述轴承(13)外侧，且所述连接组件(4)的底端的外侧与所述抛光组件(5)配合，以实现所述抛光组件(5)的定位。


5.根据权利要求4中所述的抛光设备，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：李洪亮，姚钉丁，沈思情，张俊宝，陈猛，
申请(专利权)人：上海超硅半导体有限公司，重庆超硅半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31