【技术实现步骤摘要】
一种镀膜设备中的加热传感装置及镀膜设备
本技术实施例涉及镀膜设备
，尤其涉及一种镀膜设备中的加热传感装置及镀膜设备。
技术介绍
在半导体器件制作过程中，可通过物理气相沉积或化学气相沉积的方式在基板上完成沉积或镀膜制程。并且，对于大多数基于物理气沉积或基于化学气相沉积的镀膜设备，都需要一个加热传感装置来为镀膜制程提供所需的热量。以基于化学气相沉积的镀膜设备为例，通常将待镀膜基板置于一个加热传感装置上，以使气态薄膜原材料在待镀膜基板上反应并沉积。现有技术中，加热传感装置的加热方式一般为电阻式，但是，由于电阻式加热本身的缺陷(例如易氧化以及电阻值随温度变化而变化)以及电阻丝的分布原因，易产生加热温度控制不精确的问题，进而导致对待镀膜基板加热不均匀，镀上的薄膜出现局部膜质异常的现象。图1是现有技术提供的一种电阻式加热传感基板的俯视图。参见图1，电阻式加热传感基板包括沿基板中心到边缘设置的内电阻丝和外电阻丝。电阻式加热传感基板产生的热量与通过电阻丝的电流值以及电阻丝本身的电阻值有关系，然而，一方面，电阻丝的电阻值...
【技术保护点】
1.一种镀膜设备中的加热传感装置，包括温度传感部件、加热传感基板和控制部件，所述温度传感部件与所述控制部件电连接，以将采集的所述加热传感基板的加热温度发送至所述控制部件，其特征在于，所述加热传感基板包括沿基板中心到边缘依次设置的第一磁场产生部件和第二磁场产生部件；沿基板中心到边缘依次设置的第一热量产生部件和第二热量产生部件；/n所述控制部件分别与所述第一磁场产生部件以及所述第二磁场产生部件连接，以控制所述第一磁场产生部件产生变化的磁场以及控制所述第二磁场产生部件产生变化的磁场；/n所述第一热量产生部件与所述第一磁场产生部件对应设置，穿过所述第一热量产生部件的磁通量基于所述第...
【技术特征摘要】
1.一种镀膜设备中的加热传感装置，包括温度传感部件、加热传感基板和控制部件，所述温度传感部件与所述控制部件电连接，以将采集的所述加热传感基板的加热温度发送至所述控制部件，其特征在于，所述加热传感基板包括沿基板中心到边缘依次设置的第一磁场产生部件和第二磁场产生部件；沿基板中心到边缘依次设置的第一热量产生部件和第二热量产生部件；
所述控制部件分别与所述第一磁场产生部件以及所述第二磁场产生部件连接，以控制所述第一磁场产生部件产生变化的磁场以及控制所述第二磁场产生部件产生变化的磁场；
所述第一热量产生部件与所述第一磁场产生部件对应设置，穿过所述第一热量产生部件的磁通量基于所述第一磁场产生部件的磁场变化而变化，以及所述第二热量产生部件与所述第二磁场产生部件对应设置，穿过所述第二热量产生部件的磁通量基于所述第二磁场产生部件的磁场变化而变化。
2.根据权利要求1所述的镀膜设备中的加热传感装置，其特征在于，穿过所述第二热量产生部件的磁通量的变化率大于穿过所述第一热量产生部件的磁通量的变化率；
和/或，所述第二磁场部件产生磁场的时间大于所述第一磁场产生部件产生磁场的时间。
3.根据权利要求2所述的镀膜设备中的加热传感装置，其特征在于，所述第一磁场产生部件和所述第二磁场产生部件为相互独立的两个电感线圈，且靠近基板边缘的电感线圈中的电流大于靠近基板中心的电感线圈中的电流；
和/或，靠近基板边缘的电感线圈中通入电流的时间大于靠近基板中心的电感线圈中通入电流的时间。
4.根据权利要求2所述的镀膜设备中的加热传感装置，其特征在于，所述第一磁场产生部件和所述第二磁场产生部件为电连接的两段电磁线圈，且靠近基板边缘的一段电感线圈的缠绕密度大于靠近基板中心的一段电感线圈的缠绕密度。
5.根据权利要求2所述的镀膜设备中的加热传感装置，其特征在于，所述控制部件还包括转盘，所述第一磁场产生部件和所述第二磁场产生部件均包括多个永久磁体铁，且靠近基板边缘的永久磁铁的排布密度大于靠近基板中心的永久磁铁的排布密度；
多个永久磁铁设置于所述转盘中，且多个...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐荣桢，
申请(专利权)人：昆山龙腾光电有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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