一种扇出型芯片封装结构及制备方法技术

技术编号:22976165 阅读:41 留言:0更新日期:2019-12-31 23:57
本发明专利技术公开了一种扇出型芯片封装结构及制备方法,结构包括:载片,一面设有凹槽,凹槽底部设置有通孔;芯片,其功能引出端面置于凹槽内,功能导出端置于通孔内;金属层覆盖通孔的侧壁,覆盖金属层后通孔的直径大于功能导出端直径,焊料层位于功能引出端与金属层间;第一绝缘层形成于芯片与凹槽的空隙,覆盖载片表面;第一介质层位于载片另一表面,在功能引出端的相应位置设有开口;重布线层位于第一介质层上,通过开口与功能引出端电连接。本发明专利技术将芯片功能导出端插入载片通孔内,利用熔化的焊点填充功能导出端及通孔间,起到电连接和固定芯片作用,增加封装件的可靠性;简化了工艺流程,降低了通孔的尺寸要求,节约成本,增加了工艺的适用范围。

A fanout chip packaging structure and preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种扇出型芯片封装结构及制备方法
本专利技术涉及半导体封装
,具体涉及一种扇出型芯片封装结构及制备方法。
技术介绍
在芯片封装过程中的芯片位置偏移会影响芯片封装的可靠性,严重时可直接导致失效,因此,芯片偏移一直是困扰封装业界的一大问题点。现有技术中通常采用粘片膜或阻流的方式来限制芯片偏移,采用粘片膜的方式会增加封装成本,且有机膜的加入会加剧封装件的翘曲,仅仅通过阻流来限制偏移,所达到的固定效果较为有限。
技术实现思路
因此,本专利技术实施例提供一种扇出型芯片封装结构及制备方法,解决了在芯片封装过程中的芯片位置偏移的问题。第一方面,本专利技术实施例提供的一种扇出型芯片封装结构,包括:载片,所述载片的第一表面设有凹槽,凹槽底部设置有通孔,贯穿所述载片的第二表面;芯片,所述芯片具有功能引出端,芯片具有功能引出端的一面置于所述凹槽内,芯片功能导出端置于所述通孔内;金属层,覆盖所述通孔的侧壁,所述覆盖金属层后通孔的直径大于所述芯片功能导出端的直径;焊料层,形成于芯片功能引出端与所述金属层之间;第一绝缘层,形成于所述芯片与本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种扇出型芯片封装结构,其特征在于,包括:/n载片,所述载片的第一表面设有凹槽,凹槽底部设置有通孔,贯穿所述载片的第二表面;/n芯片,所述芯片具有功能引出端,芯片具有功能引出端的一面置于所述凹槽内,芯片功能导出端置于所述通孔内;/n金属层,覆盖所述通孔的侧壁,所述覆盖金属层后通孔的直径大于所述芯片功能导出端的直径;/n焊料层,形成于芯片功能引出端与所述金属层之间;/n第一绝缘层,形成于所述芯片与凹槽的空隙,且覆盖所述载片的第一表面;/n第一介质层,形成于所述载片的第二表面,且在所述芯片功能引出端的相应位置设有第一开口;/n重布线层,形成于所述第一介质层上,通过所述第一开口与所述芯片功能引出...

【技术特征摘要】
1.一种扇出型芯片封装结构,其特征在于,包括:
载片,所述载片的第一表面设有凹槽,凹槽底部设置有通孔,贯穿所述载片的第二表面;
芯片,所述芯片具有功能引出端,芯片具有功能引出端的一面置于所述凹槽内,芯片功能导出端置于所述通孔内;
金属层,覆盖所述通孔的侧壁,所述覆盖金属层后通孔的直径大于所述芯片功能导出端的直径;
焊料层,形成于芯片功能引出端与所述金属层之间;
第一绝缘层,形成于所述芯片与凹槽的空隙,且覆盖所述载片的第一表面;
第一介质层,形成于所述载片的第二表面,且在所述芯片功能引出端的相应位置设有第一开口;
重布线层,形成于所述第一介质层上,通过所述第一开口与所述芯片功能引出端电连接。


2.根据权利要求1所述的扇出型芯片封装结构,其特征在于,还包括:
第二介质层,形成于所述重布线层上,在所述第二介质层上设有多个第二开口;
焊球,形成于所述第二开口上,与所述重布线层电连接。


3.根据权利要求2所述的扇出型芯片封装结构,其特征在于,所述芯片功能导出端为带有焊点的导电柱。


4.根据权利要求3所述的扇出型芯片封装结构,其特征在于,还包括:
第二绝缘层,形成于所述通孔与所述金属层之间。


5.根据权利要求1所述的扇出型芯片封装结构,其特征在于,还包括:
第三绝缘层,包覆芯片除了功能引出端的其他表面。


6.根据权利要求1所述的扇出型芯片封装结构,其特征在于,所述凹槽为梯形截面的凹槽,该凹槽的上...

【专利技术属性】
技术研发人员:张凯曹立强
申请(专利权)人:上海先方半导体有限公司
类型:发明
国别省市:上海;31

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