环抛中抛光液的循环供液装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及环抛中抛光液的循环供液装置，装置包括供液器；供液管路，其与供液器可转换连通或截止，且其固定于环抛机的多工位桥架上；多个喷嘴，按照预设间距布置于供液管路上，且与供液管路可转换连通或截止；其中预设间距指根据光学元件在环抛机上的位置对应设置喷嘴的位置；回收桶，其连接于环抛机的抛光盘底部；回收泵，其通过管路与回收桶连通，且与供液器可转换连通或截止；及控制柜，供液器、喷嘴和回收泵均与控制柜电性连接。解决了单点供给抛光液造成的抛光液分布不均匀，导致元件表面散热速度不同，引起变形的技术问题，从而改善元件内部的非均匀温度场及其引起的变形，提高加工精度；同时循环利用抛光液可以降低加工成本。

【技术实现步骤摘要】
环抛中抛光液的循环供液装置
本技术涉及光学加工
，更具体的说是涉及环抛中抛光液的循环供液装置。
技术介绍
环形抛光(简称环抛)是加工大口径平面光学元件的关键技术之一。环抛机床通常采用大尺寸、高热稳定性的天然花岗岩制成抛光盘基盘，基盘表面浇制环形的沥青胶层作为抛光盘。沥青抛光盘的环带表面依次放有修正盘和工件盘，其中修正盘用于修正和控制抛光盘的形状误差，而工件盘则用于把持元件。加工时抛光盘、修正盘、工件盘均以一定的转速绕逆时针方向匀速旋转，放在工件盘内的光学元件在沥青抛光盘及其承载的抛光颗粒作用下产生材料去除从而形成光学表面。抛光过程中，元件与抛光盘进行相对运动，它们之间的摩擦作用过程产生热量，产生的热量从元件的抛光表面进入元件内部，并从元件的各个表面散发出去，从而在元件内部形成非均匀温度场并引起元件产生变形。故在抛光过程中，抛光液的均匀供液和温度控制是工艺控制的关键要求，以此来提高元件与抛光液的对流换热速度，从而改善元件内部的温度分布均匀性及其引起的元件变形。而现有的抛光液供给方式一般为单点供给，抛光液在抛光盘表面的分布均匀性差，不本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.环抛中抛光液的循环供液装置，其搭载于环抛机上，其特征在于，包括：/n供液器(1)，用于储存、供给抛光液，其设置于所述环抛机外部；/n供液管路(2)，所述供液管路(2)与所述供液器(1)可转换连通或截止，且其固定于所述环抛机的多工位桥架上；/n喷嘴(3)，所述喷嘴(3)包括多个，按照预设间距布置于所述供液管路(2)上，且与所述供液管路(2)可转换连通或截止；/n回收桶(4)，所述回收桶(4)连接于环抛机的抛光盘底部；/n回收泵(5)，所述回收泵(5)通过管路与所述回收桶(4)连通，且与所述供液器(1)可转换连通或截止；/n及控制柜(6)，所述供液器(1)、所述喷嘴(3)和所述回收泵(5)均与...

【技术特征摘要】
1.环抛中抛光液的循环供液装置，其搭载于环抛机上，其特征在于，包括：
供液器(1)，用于储存、供给抛光液，其设置于所述环抛机外部；
供液管路(2)，所述供液管路(2)与所述供液器(1)可转换连通或截止，且其固定于所述环抛机的多工位桥架上；
喷嘴(3)，所述喷嘴(3)包括多个，按照预设间距布置于所述供液管路(2)上，且与所述供液管路(2)可转换连通或截止；
回收桶(4)，所述回收桶(4)连接于环抛机的抛光盘底部；
回收泵(5)，所述回收泵(5)通过管路与所述回收桶(4)连通，且与所述供液器(1)可转换连通或截止；
及控制柜(6)，所述供液器(1)、所述喷嘴(3)和所述回收泵(5)均与所述控制柜(6)电性连接。


2.根据权利要求1所述的环抛中抛光液的循环供液装置，其特征在于，所述供液器(1)包括储液桶(11)和供液泵(12)；所述供液泵(12)固定于所述储液桶(11)上并与其内部连通；且所述供液泵(12)的出口与所述供液管路(2)可转换连通或截止，所述供液泵(12)与所述控制柜(6)电性连接。


3.根据权利要求2所述的环抛中抛光液的循环供液装置，其特征在于，所述储液桶(11)为恒温储液桶；其内部设置有热交换管路，外部设置有控制所述热交换管路温度的温...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖德锋，王乙任，谢瑞清，赵世杰，周炼，陈贤华，张飞虎，张清华，王健，许乔，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：新型
国别省市：四川;51