一种薄膜制备设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种薄膜制备设备，包括：将注入反应液进行化学沉积反应的反应槽(10)；设置在反应槽(10)外部的循环装置(20)，循环装置(20)的一端与反应槽(10)底部连通，另一端与反应槽(10)上部连通，循环装置(20)将经反应槽(10)上部溢出的反应液输送至外部加热器加热，然后经反应槽(10)底部的注液口注入该反应液，还包括：至少一个加热装置(30)，设置在反应槽(10)下部或底部外侧，用于非接触地对反应槽(10)内的反应液加热；测温仪(40)，设置在反应槽(10)上部出口附近，用于检测反应槽(10)溢流反应液的温度。采用本实施方案，有效地解决加热时延问题，并使反应槽(10)内反应液迅速升温的同时温度均匀分布。

A film preparation equipment

【技术实现步骤摘要】
一种薄膜制备设备
本技术涉及化学水浴沉积设备领域，具体涉及一种化学水浴沉积薄膜制备设备领域。
技术介绍
化学水浴沉积法(CBD)是利用化学反应在衬底表面沉积成膜的一种方法，现有技术是通过泵将反应液混合于反应槽内，经槽顶部的溢流口溢出至外部加热器加热，后于槽底注液口往槽内输送反应液，以此来调控反应槽内反应液的溶度和温度，继而在玻璃衬底表面沉积上一层均匀、致密的硫化镉薄膜。但是现有加热方式的存在以下缺陷：1、无法使反应槽内反应液温度分布均匀，导致反应槽下部分的温度高于反应槽上部分；2、加热时间长，反应槽内的反应液具有一定的时延性；3、反应液上下温度的不均匀会直接影响到成膜质量，外观存在色差，膜层不均匀，进而降低薄膜的性能。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种能够使反应槽内反应液快速升温、并且其温度均匀分布、提高成膜质量的薄膜制备设备。为解决上述问题，本技术的提供了一种薄膜制备设备，包括：用于注入反应液进行化学沉积反应以制备薄膜的反应槽；设置在所述反应槽外部的循环装置，所述循环装置的一端与所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种薄膜制备设备，包括：用于注入反应液进行化学沉积反应以制备薄膜的反应槽(10)；设置在所述反应槽(10)外部的循环装置(20)，所述循环装置(20)的一端与所述反应槽(10)底部连通，其另一端与所述反应槽(10)上部连通，所述循环装置(20)将经反应槽(10)上部的溢流口溢出的反应液输送至外部加热器加热，然后通过反应槽(10)底部的注液口向所述反应槽内(10)注入加热后的反应液，其特征在于，还包括：/n至少一个加热装置(30)，设置在所述反应槽(10)下部或底部外侧，用于非接触地对所述反应槽(10)内的反应液加热；/n测温仪(40)，设置在所述反应槽(10)上部出口附近，用于检测所述反应...

【技术特征摘要】
1.一种薄膜制备设备，包括：用于注入反应液进行化学沉积反应以制备薄膜的反应槽(10)；设置在所述反应槽(10)外部的循环装置(20)，所述循环装置(20)的一端与所述反应槽(10)底部连通，其另一端与所述反应槽(10)上部连通，所述循环装置(20)将经反应槽(10)上部的溢流口溢出的反应液输送至外部加热器加热，然后通过反应槽(10)底部的注液口向所述反应槽内(10)注入加热后的反应液，其特征在于，还包括：
至少一个加热装置(30)，设置在所述反应槽(10)下部或底部外侧，用于非接触地对所述反应槽(10)内的反应液加热；
测温仪(40)，设置在所述反应槽(10)上部出口附近，用于检测所述反应槽(10)上部的溢流反应液的温度。


2.根据权利要求1所述的薄膜制备设备，其特征在于，进一步包括：
温控仪(31)，其电连接到所述加热装置(30)，用于控制所述加热装置(30)的开关和输出功率，进而控制反应液温度。


3.根据权利要求2所述的薄膜制备设备，其特征在于，进一步包括：
控制装置，电连接到所述测温仪(40)和所述温控仪(31)，用于根据所述测温仪(40)反馈的反应液温度，通过所述温控仪(31)控制所述热装置(30)的开关和输出功率，进而控制反应液温度。


4.根据权利要求3所述的薄膜制备设备，其特征在于，其中，
当所述测温仪(40)检测到溢流反应液温度达到设定值时...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾雄，惠述伟，张升飞，
申请(专利权)人：华夏易能广东新能源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44