The defect inspection device of the invention has the following parts: a lighting part, which illuminates the light emitted from the light source to the inspection object area of the sample; a detection part, which detects the scattered light in multiple directions generated from the inspection object area; a photoelectric conversion part, which transforms the scattered light detected by the detection part into an electrical signal; a signal processing part, which transforms the light emitted by the photoelectric conversion part After the above electrical signals are processed, the defects of the sample are detected. The detection part has an imaging part which divides the opening and forms a plurality of images on the photoelectric conversion part. The signal processing part synthesizes the electrical signals corresponding to the plurality of images to detect the defects of the sample.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】缺陷检查装置和缺陷检查方法
本专利技术涉及缺陷检查装置和缺陷检查方法。
技术介绍
在半导体基板、薄膜基板等的制造线中，为了维持或提高产品的成品率，而检查存在于半导体基板、薄膜基板等的表面的缺陷。例如在专利文献1中记载了这样的检查缺陷的技术。在专利文献1中，为了准确地检测出来自微小的缺陷的少量光子，而排列许多像素而构成传感器。另外，通过测量由于光子入射到配置在该传感器的各像素而产生的脉冲电流的合计，来检测微小的缺陷。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2013-231631号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题在半导体等的制造工序所使用缺陷检查中，高精度地检测微小的缺陷是重要的。在专利文献1中，配置具有更小的开口的检测系统，使得线状地照明的像的长度方向在传感器上成像。但是，在使得像的长度方向成像时，如果将检测系统配置在检测系统的光轴与线状的照明的长度方向不正交的位置，则各检测系统的视野中心与在视野端部相对于试样面的光学距离不固定。因此，必须将检...
【技术保护点】
1.一种缺陷检查装置，其特征在于，具备：/n照明部，其向试样的检查对象区域照明从光源射出的光；/n检测部，其检测从上述检查对象区域产生的多个方向的散射光；/n光电变换部，其将通过上述检测部检测出的上述散射光变换为电信号；/n信号处理部，其对通过上述光电变换部变换后的上述电信号进行处理，检测上述试样的缺陷，/n上述检测部具备对开口进行分割而在上述光电变换部上形成多个像的成像部，/n上述信号处理部对与成像的上述多个像对应的电信号进行合成，检测上述试样的缺陷。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170522 JP PCT/JP2017/0190461.一种缺陷检查装置，其特征在于，具备：
照明部，其向试样的检查对象区域照明从光源射出的光；
检测部，其检测从上述检查对象区域产生的多个方向的散射光；
光电变换部，其将通过上述检测部检测出的上述散射光变换为电信号；
信号处理部，其对通过上述光电变换部变换后的上述电信号进行处理，检测上述试样的缺陷，
上述检测部具备对开口进行分割而在上述光电变换部上形成多个像的成像部，
上述信号处理部对与成像的上述多个像对应的电信号进行合成，检测上述试样的缺陷。
2.根据权利要求1所述的缺陷检查装置，其特征在于，
上述检测部具备：
物镜，其使从上述检查对象区域产生的上述散射光聚光；
成像透镜，其将通过上述物镜聚光的像成像在预定位置；
聚光透镜，其对通过上述成像透镜成像的像进行聚光；
透镜阵列，其具有多个阵列，通过上述多个阵列对由上述聚光透镜聚光出的像进行分割，在上述光电变换部上形成上述多个像。
3.根据权利要求2所述的缺陷检查装置，其特征在于，
上述检测部还具备：
光圈，其配置在上述预定位置，屏蔽通过上述成像透镜成像的像中的没有通过上述光电变换部进行光电变换的区域。
4.根据权利要求2所述的缺陷检查装置，其特征在于，
上述光电变换部具备与上述透镜阵列的上述多个阵列对应的多个像素块，
上述成像部将上述多个像分别形成在上述光电变换部的上述多个像素块上。
5.根据权利要求2所述的缺陷检查装置，其特征在于，
上述检查对象区域被分割为多个检查区域，
上述像素块由分别与所分割的上述多个检查区域对应的多个像素组构成，
上述像素组分别具有配置为线状的多个像素，
上述光电变换部将上述多个像素电连接起来，合并上述多个像素输出的光电变换信号，输出上述电信号。
6.根据权利要求2所述的缺陷检查装置，其特征在于，
上述透镜阵列被配置在上述物镜的光瞳被中继的位置，
上述多个阵列对上述物镜的光瞳进行分割，按照分割的每个上述光瞳区域，在上述光电变换部上形成上述像。
7.根据权利要求2所述的缺陷检查装置，其特征在于，
上述透镜阵列被配置在上述聚光透镜的光瞳位置。
8.根据权利要求2所述的缺陷检查装置，其特征在于，
上述透镜阵列配置在上述聚光透镜的后侧焦点位置。
9.根据权利要求5所述的缺陷检查装置，其特征在于，
上述缺陷检查装置还具备：增益控制部，其针对上述光电变换部的上述像素块的每个上述像素组，确定与输入到上述像素的光量对应的上述电信号的输出强度。
...
【专利技术属性】
技术研发人员：本田敏文，松本俊一，幕内雅巳，浦野雄太，冈惠子，
申请(专利权)人：株式会社日立高新技术，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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