功率模块及其制造方法技术

技术编号:22598900 阅读:23 留言:0更新日期:2019-11-20 13:04
功率模块(1)具备平板状的厚铜基板(2)、配置在厚铜基板(2)上的导电性的应力缓和金属层(24U)、配置在应力缓和金属层(24U)上的半导体器件(22)和配置在应力缓和金属层(24U)上的镀层(30),半导体器件(22)隔着镀层(30)与应力缓和金属层(24U)接合。厚铜基板(2)具备第1厚铜层(14)和配置在第1厚铜层(14)上的第2厚铜层(18),应力缓和金属层(24U)配置在第2厚铜层(18)上。半导体器件(22)的一部分嵌入应力缓和金属层(24U)并固着。半导体器件(22)与应力缓和金属层(24U)的接合面通过扩散接合或固相扩散接合而一体化。提供一种能够不增加热阻而提高接合的可靠性的功率模块。

Power module and its manufacturing method

The power module (1) has a flat thick copper substrate (2), a conductive stress relief metal layer (24u) arranged on the thick copper substrate (2), a semiconductor device (22) arranged on the stress relief metal layer (24u) and a coating (30) arranged on the stress relief metal layer (24u), and the semiconductor device (22) is connected with the stress relief metal layer (24u) through the coating (30). The thick copper substrate (2) has a first thick copper layer (14) and a second thick copper layer (18) arranged on the first thick copper layer (14), and the stress relief metal layer (24u) is arranged on the second thick copper layer (18). A part of the semiconductor device (22) is embedded in a stress relieving metal layer (24u) and is fixed. The interface between the semiconductor device (22) and the stress relief metal layer (24u) is integrated by diffusion bonding or solid-phase diffusion bonding. A power module capable of improving the reliability of engagement without increasing thermal resistance is provided.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】功率模块及其制造方法
本实施方式涉及功率模块及其制造方法。
技术介绍
作为功率模块的一种,以往已知下述功率模块:在包含绝缘栅双极晶体管(IGBT:InsulatedGateBipolarTransistor)那样的功率元件(芯片)的半导体器件外围,用树脂成型。工作状态下,半导体器件发热,因此一般在基板的背面侧配置散热片、散热鳍等散热器而散热,将半导体器件冷却。尤其是近年来,为了低热阻化,基板部的厚铜化正在不断推进。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2015-195415号公报非专利文献非专利文献1:梨子田典弘、日向裕一朗、堀尾真史,“All-SiC模块技术”,富士电机技报,2012,第85卷,第6号,第403(15)-407(19)页。
技术实现思路
专利技术所要解决的课题然而,基板的厚铜化中,接合的可靠性堪忧。本实施方式提供能够不增加热阻而提高接合的可靠性的功率模块及其制造方法。用于解决课题的方法根据本实施方式的一个方式,提供一种功率模块,其特征在于,具备平板状的厚铜基板、配置在前述厚铜基板上的导电性的应力缓和金属层和配置在前述应力缓和金属层上的半导体器件,前述半导体器件与前述应力缓和金属层接合。根据本实施方式的另一方式,提供一种功率模块,具备平板状的第1厚铜层、配置在前述第1厚铜层上的绝缘片层、配置在前述绝缘片层上且形成有图案的第2厚铜层、配置在前述第2厚铜层上的第1铝缓和层和配置在前述第1铝缓和层上的半导体器件,前述半导体器件与前述应力缓和金属层接合。根据本实施方式的另一方式,提供一种功率模块的制造方法,具有:在第2厚铜层上形成第1铝缓和层的工序,在第1厚铜层上隔着绝缘片层配置前述第2厚铜层的工序,在前述第1铝缓和层上配置半导体器件、通过一边加热一边加压的加热-加压工艺使前述半导体器件与前述第1铝缓和层接合的工序,以及使前述半导体器件的电极与外部端子连接的工序。根据本实施方式的另一方式,提供一种功率模块的制造方法,具有:在第2厚铜层上形成第1铝缓和层的工序,在前述第1铝缓和层上配置半导体器件、通过一边加热一边加压的加热-加压工艺使前述半导体器件与前述第1铝缓和层接合的工序,在第1厚铜层上隔着绝缘片层配置前述第2厚铜层的工序,以及使前述半导体器件的电极与外部端子连接的工序。专利技术的效果根据本实施方式,可以提供能够不增加热阻而提高接合的可靠性的功率模块及其制造方法。附图说明图1中,(a)为实施方式涉及的功率模块中能够应用的厚铜基板的示意性截面结构图,(b)为实施方式涉及的功率模块中能够应用的另一厚铜基板的示意性截面结构图。图2中,(a)为第1实施方式涉及的功率模块的示意性截面结构图,(b)为第1实施方式的变形例涉及的功率模块的示意性截面结构图。图3中,(a)为第2实施方式涉及的功率模块的示意性截面结构图,(b)为第2实施方式的变形例涉及的功率模块的示意性截面结构图。图4中,(a)为第3实施方式涉及的功率模块的示意性截面结构图,(b)为第3实施方式的变形例涉及的功率模块的示意性截面结构图。图5中,(a)为比较例1涉及的功率模块的示意性截面结构图(厚铜+绝缘层结构例),(b)为比较例2涉及的功率模块的示意性截面结构图(厚铜+陶瓷基板结构例)。图6为实施方式涉及的功率模块的加压加工工序的说明图,(a)为将半导体器件搭载在铝缓和层上的工序图,(b)为加热-加压工序图,(c)为加热-加压工序后的形状的说明图,为半导体器件一部分埋入铝缓和层的形状。图7为实施方式涉及的功率模块中,半导体器件一部分埋入铝缓和层的形状的详细说明图。图8为实施方式涉及的功率模块中,热循环测试中的温度曲线例。图9中,(a)为用于利用超声波探伤装置(SAT:ScanningAcousticTomography(扫描声学层析成像))进行内部观察的实验体系的示意性说明图,(b)为内部观察到的图像的示意图,(c)为样品的示意性截面结构图。图10中,(a)为通过Ag烧成在厚铜基板上搭载了半导体器件的比较例1涉及的功率模块的初始状态的SAT图像例,(b)为用于说明图10(a)的线图,(c)为样品的示意性截面结构图。图11为显示比较例1涉及的功率模块的热循环测试结果的图,(a)为显示200循环(-50℃~+300℃,30分钟)后接合层的劣化的SAT图像例,(b)为用于说明图11(a)的线图,(c)为样品的示意性截面结构图。图12中,(a)为DBA基板上搭载有半导体器件的实施方式涉及的功率模块的初始状态的SAT图像例,(b)为用于说明图12(a)的线图,(c)为样品的示意性截面结构图。图13为显示DBA基板上搭载有半导体器件的实施方式涉及的功率模块的热循环测试结果的图,(a)为200循环(-50℃~+300℃,30分钟)后的SAT图像例,(b)为用于说明图13(a)的线图,(c)为样品的示意性截面结构图。图14中,(a)为显示使陶瓷基板厚铜化、搭载有半导体器件的比较例2涉及的功率模块中,50循环(-50℃~+200℃)后Cu/SiN陶瓷间的劣化的SAT图像例,(b)为用于说明图14(a)的线图,(c)为样品的示意性截面结构图。图15中,(a)为显示使陶瓷基板厚铜化、搭载有半导体器件的比较例2涉及的功率模块中,100循环(-50℃~+200℃)后Cu/SiN陶瓷间的劣化的SAT图像例,(b)为用于说明图15(a)的线图,(c)为样品的示意性截面结构图。图16中,(a)为使陶瓷基板厚铜化、搭载有半导体器件的比较例2涉及的功率模块的初始状态的SAT图像例,(b)为用于说明图16(a)的线图,(c)为样品的示意性截面结构图。图17中,(a)为显示使陶瓷基板厚铜化、搭载有半导体器件的比较例2涉及的功率模块中,200循环(-50℃~+300℃,30分钟)后接合层的劣化的SAT图像例,(b)为用于说明图17(a)的线图,(c)为样品的示意性截面结构图。图18为实施方式涉及的功率模块中,以铝缓和层的厚度tA为参数,热阻RTj-w与Cu厚t1的关系的模拟结果。图19为用于对实施方式涉及的功率模块中铝缓和层的厚度tA和Cu厚t1的模拟条件进行说明的图。图20为用于对实施方式涉及的功率模块中热阻RTj-w的模拟条件进行说明的图,同时,为能够搭载于冷却器的实施方式涉及的功率模块的示意性截面结构图(构成例1)。图21中,(a)为在DBA基板上隔着Ag烧成层形成半导体器件的功率模块的示意性截面结构图,(b)为半导体器件/Ag烧成层/Al层的接合部的截面显微镜照片例(加压压力22MPa),(c)为用于说明图21(b)的线图。图22中,(a)为对应于图21的功率模块中半导体器件/Ag烧成层/Al层的接合部的截面SEM照片例(加压压力22MPa),(b)为用于说明图22(a)的线图。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种功率模块,其特征在于,/n具备平板状的厚铜基板、配置在所述厚铜基板上的导电性的应力缓和金属层、以及配置在所述应力缓和金属层上的半导体器件,/n所述半导体器件与所述应力缓和金属层接合。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170331 JP 2017-0718801.一种功率模块,其特征在于,
具备平板状的厚铜基板、配置在所述厚铜基板上的导电性的应力缓和金属层、以及配置在所述应力缓和金属层上的半导体器件,
所述半导体器件与所述应力缓和金属层接合。


2.根据权利要求1所述的功率模块,其特征在于,
具备配置在所述应力缓和金属层上的镀层,
所述半导体器件隔着所述镀层与所述应力缓和金属层接合。


3.根据权利要求1所述的功率模块,其特征在于,
具备配置在所述应力缓和金属层上的Ag烧成层,
所述半导体器件隔着所述Ag烧成层与所述应力缓和金属层接合。


4.根据权利要求2所述的功率模块,其特征在于,
具备配置在所述镀层上的Ag烧成层,
所述半导体器件隔着所述Ag烧成层和所述镀层与所述应力缓和金属层接合。


5.根据权利要求2或4所述的功率模块,其特征在于,
所述半导体器件的一部分嵌入所述应力缓和金属层或所述镀层并固着。


6.根据权利要求5所述的功率模块,其特征在于,
所述半导体器件与所述应力缓和金属层或所述镀层的接合面是一体化的。


7.根据权利要求6所述的功率模块,其特征在于,
所述半导体器件按所述半导体器件的厚度的1/3~1/2嵌入所述应力缓和金属层或所述镀层而接合。


8.根据权利要求1~7中任一项所述的功率模块,其特征在于,
所述应力缓和金属层具备第1铝缓和层。


9.根据权利要求1~8中任一项所述的功率模块,其特征在于,
所述厚铜基板具备第1厚铜层和配置在所述第1厚铜层上的第2厚铜层,
所述应力缓和金属层配置在所述第2厚铜层上。


10.根据权利要求9所述的功率模块,其特征在于,
具备配置在所述第1厚铜层上的绝缘片层,
所述第2厚铜层配置在所述绝缘片层上。


11.根据权利要求9或10所述的功率模块,其特征在于,
具备配置在所述绝缘片层上的第2铝缓和层,
所述第2厚铜层轧制粘接在所述第2铝缓和层上。


12.根据权利要求9或10所述的功率模块,其特征在于,
具备配置在所述绝缘片层上的第2铝缓和层,
所述第2厚铜层使用溅射技术、冷喷技术或熔射技术粘接在所述第2铝缓和层上。


13.根据权利要求9~11中任一项所述的功率模块,其特征在于,
具备冷却器和配置在所述冷却器上的第1热复合物层,
所述厚铜基板隔着所述第1热复合物层配置在所述冷却器上。


14.根据权利要求9~11中任一项所述的功率模块,其特征在于,
具备冷却器、配置在所述冷却器上的焊锡层、银烧成层或扩散接合层,
所述厚铜基板隔着所述焊锡层、所述银烧成层或所述扩散接合层中的任一种配置在所述冷却器上。


15.根据权利要求8所述的功率模块,其特征在于,
具备夹着所述厚铜基板而与所述第1铝缓和层相对地配置的第2铝缓和层。


16.根据权利要求15所述的功率模块,其特征在于,
具备冷却器和配置在所述冷却器上的绝缘片,
所述厚铜基板配置在所述绝缘片上。


17.根据权利要求15所述的功率模块,其特征在于,
具备绝缘基板和配置在所述绝缘基板上的第2热复合物层,
所述厚铜基板配置在所述第2热复合物层上。


18.根据权利要求17所述的功率模块,其特征在于,
具备冷却器和配置在所述冷却器上的第2热复合物层,
所述厚铜基板隔着所述第2热复合物层配置在所述冷却器上。


19.根据权利要求17或18所述的功率模块,其特征在于,所述绝缘基板具备DBC基板、DBA基板、AMB基板或陶瓷基板中的任一种。


20.根据权利要求13、14、16或18中任一项所述的功率模块,其特征在于,所述冷却器为水冷式或气冷式,用于车载设备。


21.根据权利要求8所述的功率模块,其特征在于,所述第1铝缓和层的厚度具有0.01mm~0.5mm的范围。


22.根据权利要求9~13中任一项所述的功率模块,其特征在于,所述第2...

【专利技术属性】
技术研发人员:畑野舞子大塚拓一
申请(专利权)人:罗姆股份有限公司
类型:发明
国别省市:日本;JP

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