流体控制器制造技术

技术编号:2247968 阅读:169 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种流体控制器(1),其包含:具有形成流体进口和出口的流体通道的阀体(4),固定地设置在该阀体和阀帽(5)之间的隔膜(6),以及沿垂直方向移动隔膜的操作机构(7),其中所述阀体的流体通道通过一无突起的连接通道(8)彼此相互连通,所形成的隔膜,当其处于下部位置时,与连接通道紧密地接触,以关闭流体通道,而当隔膜升起时,其中心部分被形成凹口,以致靠近外围部分的部分突起,在所述阀帽上的隔膜固定部分(51)的内部下表面处形成弯曲表面(52),所述突起部分的外部上表面(63)与弯曲表面(52)紧密地配合。(*该技术在2019年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种流体控制器,而本专利技术的目的是提供在可加工性能方面出众的流体控制器;即使该流体控制器在管路中处于倾斜位置的条件下,在流体管路中容易形成分支管路,而很难产生流体的积存。在图23中的流体控制器包含具有一进口流体通道A和一出口流体通道B的一阀体C,一隔膜D,固定该隔膜外围部分的一阀帽E,和沿垂直方向移动该隔膜的一操作机构G;其中通过操作该操作机构G,而使该隔膜D与一阀座F相互接触或分离,从而使进口流体通道A和出口流体通道B彼此处于关闭状态或联通状态。在如图23所示的传统流体控制器中,然而,当加工内腔时,对于如进口流体通道A、出口流体通道B的孔和阀体C的中心加工必须很好地精确调节,因此其可加工性能非常不好,这是因为所提供地阀座F是作为在进口流体通道A和出口流体通道B之间的突起,在阀体C的表面上是弯曲和断开的。同时,存在一个在管路内部容易产生流体积存的问题,这是因为流体通道在阀座F的部份是弯曲的。此外,在管路中如果使用这种具有阀座F的分支型的流体控制器,将带来许多问题,整个管路的设置空间将变大,因为阀体需要沿倾斜的方向设置,以防止流体积存的产生;同时操作性能和维修性能也不好,这是由于操作机构是倾斜设置的。日本专利(tokukaihei 1-320378)所公开的内容是作为在管路中防止流体积存的新专利技术技术的一个例子。在日本专利(tokukaihei 1-320378)中公开的专利技术包含设置在同一条轴线上的一进口流体通道和一出口流体通道,该进口流体通道和出口流体通道与没有突起的连接通道相连接,其中一隔膜与该连接通道下面的内部接触或分离。由于设置在同一条轴线上的进口流体通道和出口流体通道与没有突起的连接通道相连接,该专利技术所公开的内容在流体通道的可加工性能方面与传统流体控制器相比是非常出众的,并且因为在流体通道中没有弯曲,所以在管路内部流体的积存是很难产生的。但是,当不能精确地进行调节隔膜的中心与连接流体通道在宽度方向上的中心以使它们相适应时,该流体通道将不能完全地关闭,因此还需要进行精确的调节工作。另一方面,在如管线系统的管路中,通常使用在平面图中呈一字母“T”形的、具有一主通道和与该主通道成直角的分支通道的流体控制器,来连接管路以对流体进行取样。在具有一传统分支通道的流体控制器中,然而,当使其分支通道基本水平设置、而主通道向下设置时,在凸块处将产生流体的积存,并且这将导致如各种各样细菌的繁殖,这是由于在从分支管路到密封座的联通表面上存在凸块的原因,因此这是不可取的。在日本专利No.2591876(PCT/GB91/01025)中所公开的专利技术是现有技术中为了解决上述问题的专利技术。在日本专利No.2591876(PCT/GB91/01025)中公开的专利技术包含在平面图中呈一字母“T”形的流体控制器,其中,当分支通道的方向基本水平设置、而主通道的方向向下设置时,从分支通道到密封基座的联通表面改成相对于主通道水平或倾斜设置。通过上述专利技术,可以防止在凸块处有流体积存的产生,因为这里没有凸块(而过去是有的),然而,其可加工性能非常不好,并且在实际中,很难完全地取消凸块结构。因此,在先申请PCT/JP99/04544中,申请人提供了一种在流体通道中很难产生流体积存的、并在可加工性能方面优秀的流体控制器。图24是申请人提供的流体控制器的一剖视图,图25是该流体控制器的阀体的一平面图,以及图26是沿图25中A-A线的剖视图。在流体控制器中,该进口流体通道和出口流体通道与没有突起的连接通道相连接,因此在流体通道中很难产生流体的积存,并且出口流体通道的加工和阀体的中心加工可以独立地进行,因此该流体控制器的可加工性能是非常好的。此外,该流体控制器具有这样一个结构特征,当隔膜升起时,隔膜突出部分的外部上表面与形成在阀帽的隔膜固定部分的内部下表面的弯曲表面紧密地接触,在制造时,可以花费很短的时间就非常容易地调节阀体和阀帽以使它们相适应,并且在装配中不容易产生间隙。然而,在由申请人提供的流体控制器中,当管路如图27中所示倾斜时,存在流体通道中产生流体积存T的问题。本专利技术是为了解决上述问题,并试图提供流体控制器,当其在管路中倾斜时,仍可以防止流体的积存并控制在最小程度,同时它具有很好的可加工性能。权利要求2中所述的专利技术是关于如权利要求1所述的流体控制器,其特征在于,所述进口流体通道和所述出口流体通道包含设置在同一条轴线上的进口流体通道和出口流体通道。权利要求3中所述的专利技术是关于如权利要求1所述的流体控制器,其特征在于,所述进口流体通道和所述出口流体通道是字母“T”形的流体通道,它包含贯穿阀体的一贯穿流体通道,和从贯穿流体通道分支出来的一分支流体通道,并且贯穿流体通道的一底部表面与连接通道的一底部表面位于相同的水平位置。权利要求4中所述的专利技术是关于如权利要求1所述的流体控制器,其特征在于,所述进口流体通道和所述出口流体通道是字母“T”形的流体通道,它包含贯穿阀体的一贯穿流体通道,和从贯穿流体通道分支出来的一分支流体通道,贯穿流体通道位于其中心轴线低于所述连接通道的一底面的位置上,并且当贯穿流体通道水平设置、而分支流体通道向下设置时,从贯穿流体通道到连接通道的一联通表面形成作为一水平或向下设置的倾斜面。权利要求5中所述的专利技术是关于如权利要求4所述的流体控制器,其特征在于,所述贯穿流体通道的直径大于分支流体通道的直径。本专利技术的最佳实施例下面,将在附图的基础上说明关于本专利技术的用于流体控制器的优选实施例。附图说明图1是关于本专利技术的流体控制器的第一个实施例的剖视图,而图2是其侧视图。关于第一个实施例的流体控制器1包含具有一进口流体通道2和一出口流体通道3的一阀体4;固定地设置在阀体4的上表面和阀帽5的下表面之间的一隔膜6;以及在垂直方向上移动该隔膜6的一操作机构7。如图所示,进口流体通道2和出口流体通道3设置在同一条轴线上,并且该进口流体通道2和出口流体通道3通过一无突起的连接通道8彼此相互联通。在关于第一个实施例的流体控制器1中,由于进口流体通道2和出口流体通道3通过上述无突起的连接通道8彼此相互联通,因此在流体通道中从不产生流体的积存。图3是关于第一个实施例的流体控制器1中阀体4的平面图,图4是沿图3中A-A线的剖视图,图5是沿图3中B-B线的剖视图,图6是沿图3中C-C线的剖视图,图7是沿图3中D-D线的剖视图。该阀体4设置成进口流体通道2和出口流体通道3位于同一轴线上,并且进口流体通道2和出口流体通道3通过一无突起的连接通道8彼此相互联通。在进口流体通道侧的一孔91是沿进口流体通道2的方向从阀体的上表面穿通的,而在出口流体通道侧的一孔92是沿出口流体通道3的方向也从阀体的上表面穿通的。该阀体4在可加工性能方面是非常出众的,并且分支管路也可很容易地形成;这是由于用于进口流体通道2和出口流体通道3的孔腔的加工,和用于阀体4的中心加工可以独立地进行。关于本专利技术的流体控制器的大部分特征如图6和图7所示。其中垂直于流体通道轴线(进口流体通道2的中心轴线)的、在进口流体通道侧的一孔91的一底面91a,沿着进口流体通道2的底面2a的方向向下倾斜;而垂直于流体通道(出口流体通道3的中心轴线)的、在出口流体通道侧的一孔92的一底面92a,本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种流体控制器,该流体控制器(1)包含:具有用作流体进口和出口的流体通道的一阀体(4);固定地设置在该阀体和一阀帽(5)之间的一隔膜(6);以及沿垂直方向移动该隔膜的一操作机构(7),其中所述阀体的流体通道通过一无突起的连接通道(8)彼此相互联通,所述隔膜当其处于下部位置时与连接通道紧密地配合,以关闭流体通道,而当隔膜升起时,隔膜的中心部分被形成凹口,其靠近外围部分的部分被突起,在所述阀帽上的一隔膜固定部分(51)的内部下表面处形成有一弯曲表面(52),所述突起部分的外部上表面(63)与弯曲表面(52)紧密地配合,在所述阀体中,提供有从一上表面向着一进口流体通道穿通的在进口流体通道上的孔(91、94),向着一出口流体通道穿通的在出口流体通道上的孔(92、93),并且,与在进口流体通道上的所述孔的一流入轴线方向垂直的一底面(91a、94a)和/或与在出口流体通道上的一孔的一流入轴线方向垂直的一底面(92a、93a),向着所述进口流体通道的一底面(2a、13a)和/或所述出口流体通道的一底面(3a、12a)方向向下倾斜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:佐藤纯次赤本久敏岩田真
申请(专利权)人:株式会社富士金
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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