【技术实现步骤摘要】
喷洒装置、显影系统和显影方法
本专利技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种喷洒装置、显影系统和显影方法。
技术介绍
在半导体集成电路行业及薄膜晶体管液晶显示器行业，显影工艺是指将曝光后的基片置于适当的显影液里，将应去除的胶膜溶解干净，以获得腐蚀或注入时所需的保护图形掩膜。显影工序中的时间、腔体温度和湿度、流量、均匀性直接影响了细微光刻电路图形的精度和均匀性，对电子产品的集成度和合格率有着极为重要的影响，而显影工序利用显影液供给装置(装有显影液的腔室)对基板涂敷显影液的方式即该工序可通过使基板/基片经由盛装有显影液的腔室，或者通过喷射装置向基板喷射显影液的方式来完成。进行显影工序的腔体内相对密闭，聚集着显影液溶剂气体及光刻胶在显影过程中挥发出的有机溶剂气体，其中大部分气体通过腔体内的抽排装置排出，但在实际的生产过程中在显影液的喷刀上容易产生结晶或者药剂沾污，导致显影液喷出不均匀，而显影液喷出不均匀，可能导致显影后图形的不均匀或者产生色差效应。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种喷洒装置、显影系统和显影方法，解决喷洒装置喷刀口大小颗粒的沾污堵塞问题，提高显影液喷...
【技术保护点】
1.一种喷洒装置，其特征在于，所述喷洒装置包括：喷刀、喷刀控制单元，所述喷刀用于喷洒液体，所述喷刀包括第一刀片和第二刀片，所述第一刀片的刀口和所述第二刀片的刀口相对以形成所述喷刀的出口，所述第一刀片的刀口能够相对所述第二刀片的刀口移动以调节所述出口的大小，所述喷刀控制单元用于控制所述第一刀片的移动。
【技术特征摘要】
1.一种喷洒装置，其特征在于，所述喷洒装置包括：喷刀、喷刀控制单元，所述喷刀用于喷洒液体，所述喷刀包括第一刀片和第二刀片，所述第一刀片的刀口和所述第二刀片的刀口相对以形成所述喷刀的出口，所述第一刀片的刀口能够相对所述第二刀片的刀口移动以调节所述出口的大小，所述喷刀控制单元用于控制所述第一刀片的移动。2.如权利要求1所述的喷洒装置，其特征在于，所述喷洒装置还包括位置检测单元，所述位置检测单元用于检测所述第一刀片是否移动到预设位置。3.如权利要求2所述的喷洒装置，其特征在于，所述位置检测单元为光栅尺传感器，所述位置检测单元位于所述喷刀的一侧。4.如权利要求1所述的喷洒装置，其特征在于，所述喷刀控制单元包括驱动器和执行器，所述驱动器用于提供所述第一刀片移动的动力，所述执行器用于控制所述驱动器的动力输出。5.一种显影系统，其特征在于，所述显影系统包括：液体供应单元及如权利要求1～4中任一项所述的喷洒装置；所述液体供应单元用于向所述喷洒装置提供喷洒的液体；所述喷洒装置用于喷洒液体。6.如权利要求5所述的显影系统，其特征在于，所述液体供应单元包括液体存储装置和与所述液体存储装置连通的液体传输管路，所述液体存储装置用于存储液体，所述液体传输管路用于将所述液体存储装置内的液体提供给所述喷洒装置。7.如权利要求6所述的显影系统，其特征在于，所述液体传输管路上设置有流量控制器，所述流量控制器用于控制所述液体传输管路内的液体的流量。8.如权利要求5所述的显影系统，其特征在于，所述显影系统还包括气体供应单元，所述气体供应单元用于向所述喷洒装置提供气体。9.如权利要求8所述的显影系统，其特征在于，所述气体供应单元包括气体存储装置和与所述气体存储装置连通的气体传输管路，所述气体存储装置用于存...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵俊，任书铭，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31
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