显影装置及其显影方法制造方法及图纸

技术编号:22329449 阅读:34 留言:0更新日期:2019-10-19 12:08
本发明专利技术提供一种显影装置及其显影方法,所述显影装置包括显影单元和清洗单元,所述清洗单元包括清洗液单元和二流体单元,所述清洗液单元包括:壳体、传送平台、喷淋机构以及控制器,所述喷淋机构包括多个喷淋模组,所述控制器分别控制所述多个喷淋模组。相较于现有技术,本发明专利技术通过将原喷淋管单一的统一开断模式改造为各喷淋管独立的单独开断模式,保证在局部区域清洗效率不变的同时,降低喷淋机构的总流量,解决了现有技术的清洗单元中,残存少量显影液的清洗液在基板上形成水滴圆斑Mura的技术问题,降低了生产成本,提高了产品良率。

Developing device and developing method

【技术实现步骤摘要】
显影装置及其显影方法
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种显影装置及其显影方法。
技术介绍
在平板显示行业中,阵列制程主要包括成膜、黄光与刻蚀,成膜是将金属沉积到玻璃基板上,形成一定厚度的金属膜层;黄光是将掩模版上的图形转印到玻璃基板的金属膜层上,该图形由光阻构成;最后刻蚀制程将该光阻图形未覆盖的部分刻蚀掉,然后通过光阻剥离单元,留下相应的金属图案。黄光制程包括清洗、去水干燥、涂布、预烘烤、曝光、显影和后烘烤,显影制程包括:显影单元、清洗单元、缓冲单元等单元,其中,清洗单元包括清洗液单元和二流体单元,显影单元分为第一显影段、第二显影段、第三显影段,清洗液单元分为第一清洗液段、第二清洗液段、第三清洗液段。显影单元的作用是进行光刻胶剥离,清洗液单元的作用是除去残留的光刻胶与药液,二流体单元的作用是除去杂质。在清洗液一段中下喷淋的水会汇聚在显影机上盖板,形成液滴滴落在基板上,由于此时的水中含有少量显影液,会在基板上形成圆形水滴Mura(斑),对产品造成不良影响。目前的处理办法是降低基板下方的上喷液体流量压力,但是缺点是同时降低了基板下表面的清洗效率,严重时同样会产生基板下表面的赃物Mura,也对产品造成不良影响。
技术实现思路
本专利技术提供一种显影装置及其显影方法,能够解决清洗单元中下喷淋的水会汇聚在显影机上盖板,形成液滴滴落在基板上,由于水中残存少量显影液,在基板上形成水滴圆斑Mura的技术问题。为解决上述问题,本专利技术提供的技术方案如下:本专利技术提供一种显影装置,包括:显影单元和清洗单元,所述清洗单元包括清洗液单元和二流体单元,所述清洗液单元包括:壳体,内部具有空间且两侧具有开口;传送平台,用于传动基板;喷淋机构,所述喷淋机构包括多个喷淋模组,每个喷淋模组包括喷淋管、设置于喷淋管进水处的气动阀以及设置于所述喷淋管出水处的喷嘴,所述喷嘴设置于所述传送平台的上方或下方;控制器,分别与所述多个喷淋模组中的气动阀电性连接,以分别控制所述多个喷淋模组中的气动阀的开启或关闭。在本专利技术的一些实施例中,所述显影装置还包括至少一个传感器,所述至少一个传感器用于在所述基板与所述喷嘴之间发生相对运动时,确定所述基板的位置。在本专利技术的一些实施例中,所述至少一个传感器设置于所述壳体的表面或设置于所述传送平台上。在本专利技术的一些实施例中,所述至少一个传感器的数量与所述多个喷淋模组相等,所述至少一个传感器与所述多个喷淋模组一一对应。在本专利技术的一些实施例中,所述传送平台所在平面相对水平面倾斜。在本专利技术的一些实施例中,所述传送平台所在平面与水平面夹角的范围为5~30°。在本专利技术的一些实施例中,所述壳体的上板为三角形。在本专利技术的一些实施例中,所述喷嘴喷淋出的液体为去离子水。在本专利技术的一些实施例中,所述喷淋机构还包括固定装置,所述固定装置与所述壳体相连接以固定所述喷嘴的高度和喷淋方向。依据本专利技术的上述目的,提出一种显影方法,应用于以上的显影装置,包括:将基板传送至显影单元,进行光刻胶刻蚀;将基板传送至清洗单元,清洗残留的显影液和光刻胶;将基板传送至二流体单元,除去含杂质的清洗液。本专利技术的有益效果为:相较于现有的显影装置及其显影方法,本专利技术的显影装置及其显影方法通过将原喷淋管单一的统一开断模式改造为各喷淋管独立的单独开断模式,单独开断模式可以实现仅部分气动阀开启,相对应的部分喷嘴喷淋,保证在局部区域清洗效率不变的同时,剩余部分气动阀关闭,相对应的部分喷嘴关闭,降低喷淋机构的总流量,即避免了多余的清洗液在壳体的上板处汇聚,进而避免了清洗液滴落,在基板处积聚,解决了现有技术的清洗单元中,残存少量显影液的清洗液在基板上形成水滴圆斑Mura的技术问题,降低了生产成本,提高了产品良率。附图说明为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的显影装置的一个实施例制程示意图;图2为本专利技术实施例提供的显影装置的一个实施例结构示意图;图3为本专利技术实施例提供的显影装置的另一个实施例结构示意图;图4为本专利技术实施例提供的显影方法的一个实施例流程图。具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图示,用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语,例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术,而非用以限制本专利技术。在图中,结构相似的单元是用以相同标号表示。本专利技术针对现有的显影装置及其显影方法,在清洗单元中下喷淋的水会汇聚在显影机上盖板,形成液滴滴落在基板上,由于此时的水中含有少量显影液,会在基板上形成圆形水滴Mura,对产品造成不良影响的技术问题,本实施例能够解决该缺陷。在目前的显示行业中,阵列制程主要包括成膜、黄光与刻蚀,成膜是将金属沉积到基板上,形成一定厚度的金属膜层;黄光是将掩模版上的图形转印到玻璃基板的金属膜层上,该图形由光阻构成;最后刻蚀制程将该光阻图形未覆盖的部分刻蚀掉,然后通过光阻剥离单元,留下相应的金属图案。具体地,黄光制程包括清洗、去水干燥、涂布、预烘烤、曝光、显影和后烘烤。基于此,本专利技术实施例提供一种显影装置及其显影方法。以下分别进行详细说明。首先,本专利技术实施例提供一种显影装置,所述显影装置包括显影单元和清洗单元,所述清洗单元包括清洗液单元和二流体单元。其中,如图1所示,为本专利技术实施例提供的显影装置的一个实施例制程示意图,基板依次经过所述显影单元、所述清洗液单元和所述二流体单元,分别依次完成图1中第一显影段、第二显影段、第三显影段、第一清洗液段、第二清洗液段、第三清洗液段以及二流体单元等制程,所述显影单元用于对传送平台上的所述基板喷淋显影液,所述显影液溶解由曝光造成的光刻胶的可溶解区域;所述清洗单元用于对所述基板喷淋清洗液和二流体,清洗残留的所述显影液和所述光刻胶,进一步地,所述清洗单元包括清洗液单元和二流体单元,所述清洗液单元用于对所述基板喷淋所述清洗液,冲洗掉所述基板上残留的所述显影液和所述光刻胶,然而,此处基板上残留的所述清洗液不可避免地混合有所述显影液,故采用二流体单元,所述二流体单元喷淋出压缩的空气和清洗液,所述空气和清洗液的混合物可大大提高清洁速率与均匀度,但挥发较快,消耗量过大,所述喷嘴喷淋出的液体优选地为去离子水,可替换地,所述喷嘴喷淋出的液体还可以是其他可将所述显影液和所述光刻胶冲洗干净且不对所述基板造成损伤的其他液体,例如,蒸馏水或高纯水。本专利技术实施例中,如图2所示,为本专利技术实施例提供的显影装置的一个实施例结构示意图,所述清洗液单元包括:壳体、传送平台10、喷淋机构20和控制器,所述壳体和所述控制器图中未画出。所述壳体,内部具有内空间,形状不做具体限定,通常接近立方体且两侧具有开口;所述传送平台10,设置于所述内空间内,用于传动基板30,实现所述基板30的自动运输,所述传送平台10两端分别通过所述壳体两侧的开口与其他单元相连接,所述传送平台10可以为皮带传送或滚筒传送,此处以皮带传送举例,所述皮带中间本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显影装置,其特征在于,包括显影单元和清洗单元,所述清洗单元包括清洗液单元和二流体单元,所述清洗液单元包括:壳体,内部具有内空间;传送平台,设置于所述内空间内,所述传送平台用于传动基板;喷淋机构,设置于所述内空间内,所述喷淋机构包括多个喷淋模组,每个喷淋模组包括喷淋管、设置于喷淋管进水处的气动阀以及设置于所述喷淋管出水处的喷嘴,所述喷嘴设置于所述传送平台的上方或下方;控制器,分别与所述多个喷淋模组中的气动阀电性连接,以分别控制所述多个喷淋模组中的气动阀的开启或关闭。

【技术特征摘要】
1.一种显影装置,其特征在于,包括显影单元和清洗单元,所述清洗单元包括清洗液单元和二流体单元,所述清洗液单元包括:壳体,内部具有内空间;传送平台,设置于所述内空间内,所述传送平台用于传动基板;喷淋机构,设置于所述内空间内,所述喷淋机构包括多个喷淋模组,每个喷淋模组包括喷淋管、设置于喷淋管进水处的气动阀以及设置于所述喷淋管出水处的喷嘴,所述喷嘴设置于所述传送平台的上方或下方;控制器,分别与所述多个喷淋模组中的气动阀电性连接,以分别控制所述多个喷淋模组中的气动阀的开启或关闭。2.根据权利要求1所述的显影装置,其特征在于,所述显影装置还包括至少一个传感器,所述至少一个传感器用于在所述基板与所述喷嘴之间发生相对运动时,确定所述基板的位置。3.根据权利要求2所述的显影装置,其特征在于,所述至少一个传感器设置于所述壳体的表面或设置于所述传送平台上。4.根据权利要求2所述的显影装置...

【专利技术属性】
技术研发人员:涂乐志
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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