【技术实现步骤摘要】
一种粉体处理设备
本技术涉及等离子体处理
，具体地说是一种粉体处理设备。
技术介绍
等离子体表面处理：在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，产生等离子体。等离子体是物质的第四态，其中含有大量的电子、离子和自由基等各种活性粒子，活性粒子与材料表面发生物理和化学反应，从而使材料表面的结构、成分和基团发生变化，得到满足实际使用要求的表面。等离子体反应速度快、处理效率高，而且改性仅发生在材料表面，对材料内部本体材料的性能没有影响，是理想的表面改性手段。粉体是一种由干燥、分散的固体颗粒组成的细微粒子，由于粉体分子间的作用力，当粉末颗粒粒径很小时，极易在空气中粘结成团，特别是微米、亚微米级的超细粉末，这种现象对粉体的加工过程极为不利。用等离子体处理粉体和颗粒已有多年实践，等离子体处理可改善粉体和颗粒材料的各种化学和/或物理特性，例如氧化、还原、交联、解吸、蚀刻、接枝和/或聚合等性能。由于粉体物料的特殊性质，在对其进行等离子体表面处理时，由于微粒间的团聚和颗粒间的堆积，使得...
【技术保护点】
1.一种粉体处理设备，其特征在于，包括真空腔(1)、U型电极(2)、转料鼓(3)、电源(4)、传动装置、进气孔(5)、出气孔(6)及格架(7)；所述U型电极(2)、转料鼓(3)均设置在所述真空腔(1)内；所述传动装置带动所述转料鼓(3)转动；所述U型电极(2)与所述真空腔(1)之间设有绝缘层，所述绝缘层厚度为2～5mm；所述U型电极(2)与所述电源(4)正极连接，所述真空腔(1)接地；所述格架(7)设置在所述转料鼓(3)内，所述转料鼓(3)四周均匀设置交换孔。
【技术特征摘要】
1.一种粉体处理设备，其特征在于，包括真空腔(1)、U型电极(2)、转料鼓(3)、电源(4)、传动装置、进气孔(5)、出气孔(6)及格架(7)；所述U型电极(2)、转料鼓(3)均设置在所述真空腔(1)内；所述传动装置带动所述转料鼓(3)转动；所述U型电极(2)与所述真空腔(1)之间设有绝缘层，所述绝缘层厚度为2～5mm；所述U型电极(2)与所述电源(4)正极连接，所述真空腔(1)接地；所述格架(7)设置在所述转料鼓(3)内，所述转料鼓(3)四周均匀设置交换孔。2.根据权利要求1所述的粉体处理设备，其特征在于，所述进气孔(5)和出气孔(6)分别设置在所述真空腔(1)上，且在所述U型电极(2)与真空腔(1)相对的位置也分别设置与所述进气孔(5)和出气孔(6)相同大小的孔径。3.根据权利要求1所述的粉体处理设备，其特征在于，所述转料鼓(3)前、后两端均设有端盖，方便盛装和取出待处理的粉体。4.根据权利要求1-3任一项所述的粉体处理设备，其特征在于，所述传动装置包括电机(8)、第一转辊(9)、第二转辊(10)，所述电机(8)带动第一转辊(9)转动，所述第一转辊(9)带动第二转辊(10)转动，所述第一转辊(9)和第二转辊(10)均设置在所述转料鼓(3)的下端，带动转料鼓(3)缓慢转动。5.根据权利要求4所述的粉体处理设备，其特征在于，所述传动装置还包括密封装置，所述电机(8)位于...
【专利技术属性】
技术研发人员：孙敏，刘鑫培，王文韵，
申请(专利权)人：苏州科技大学，苏州奥米格材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32
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