【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】混合式开关控制器相关申请的交叉引用本申请要求2017年03月02日提交的美国临时申请号62/466,326('326申请)的权益,该'326申请通过引用并入本文,如同本文中完全阐述一样。
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a.
本公开大体上涉及电力电子系统,并且更特别地涉及一种用于控制混合式开关的设备,该混合式开关包括:第一(快速)半导体切换装置,诸如快速GaN高电子迁移率晶体管(HEMT);和第二(较慢)半导体切换装置,诸如硅(Si)金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)。b.
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下文仅出于提供背景的目的阐述了此
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描述。因此,此
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描述的任何方面(就在其它方面称为现有技术的意义上)既不明确也不隐含地被承认是本公开的现有技术。在电力电子电路中,可通过以并联布置结构电气连接多个半导体开关来提供高电流电力容量,以便允许一起承载负载电流。并联布置结构是期望的,因为这种并联布置结构与单个开关相比可共同地具有低得多的传导电阻。降低的传导电阻可减少传导损耗,这可以提高总系统效率。已知硅开关(例如MOSFET)用于电力应用;然而,这种开关由于相对高的切换损耗而不在非常高切换频率下操作。与传统硅(Si)装置相比,宽带隙(WBG)装置(诸如碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)装置)由于其更高的切换频率能力、更低的切换损耗和更高的热能力而变得越来越流行。然而,WBG装置仍具有其自身的挑战。首先,与硅装置相比,其电流能力对于一些应用而言仍不够高。对于这种高电流应用而言,需要并联多个WBG开关,这增加了系统成本。其次,特别是对于所谓的GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)装置而言,在开关 ...
【技术保护点】
1.一种设备,包括:用于产生如下信号的装置,其用于(i)在第一栅极驱动输出上产生第一栅极驱动信号,其中,所述第一栅极驱动信号包括ON状态和OFF状态,并且(ii)在第二栅极驱动输出上产生第二栅极驱动信号,其中,所述第二栅极驱动信号包括ON状态和OFF状态;第一半导体切换装置,其具有第一栅极、第一漏极和第一源极;第二半导体切换装置,其具有第二栅极、第二漏极和第二源极,所述第二半导体切换装置具有第一接通时间,所述第一接通时间小于与所述第一半导体切换装置相关联的第二接通时间;所述第一和第二半导体切换装置以并联布置结构连接,其中,(i)所述第一漏极和所述第二漏极电气连接,并且(ii)所述第一源极和所述第二源极电气连接,其中,所述第一半导体切换装置的所述第一栅极连接到所述产生装置的所述第一栅极驱动输出,以接收所述第一栅极驱动信号,所述第二半导体切换装置的所述第二栅极连接到所述产生装置的所述第二栅极驱动输出,以接收所述第二栅极驱动信号;并且其中,所述产生装置包括脉冲形成器,所述脉冲形成器构造成:(i)在所述第一栅极驱动信号从所述OFF状态转变到所述ON状态时生成所述第二栅极驱动信号作为第一脉冲,( ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.03.02 US 62/4663261.一种设备,包括:用于产生如下信号的装置,其用于(i)在第一栅极驱动输出上产生第一栅极驱动信号,其中,所述第一栅极驱动信号包括ON状态和OFF状态,并且(ii)在第二栅极驱动输出上产生第二栅极驱动信号,其中,所述第二栅极驱动信号包括ON状态和OFF状态;第一半导体切换装置,其具有第一栅极、第一漏极和第一源极;第二半导体切换装置,其具有第二栅极、第二漏极和第二源极,所述第二半导体切换装置具有第一接通时间,所述第一接通时间小于与所述第一半导体切换装置相关联的第二接通时间;所述第一和第二半导体切换装置以并联布置结构连接,其中,(i)所述第一漏极和所述第二漏极电气连接,并且(ii)所述第一源极和所述第二源极电气连接,其中,所述第一半导体切换装置的所述第一栅极连接到所述产生装置的所述第一栅极驱动输出,以接收所述第一栅极驱动信号,所述第二半导体切换装置的所述第二栅极连接到所述产生装置的所述第二栅极驱动输出,以接收所述第二栅极驱动信号;并且其中,所述产生装置包括脉冲形成器,所述脉冲形成器构造成:(i)在所述第一栅极驱动信号从所述OFF状态转变到所述ON状态时生成所述第二栅极驱动信号作为第一脉冲,(ii)在所述第一栅极驱动信号从所述ON状态转变到所述OFF状态时生成所述第二栅极驱动信号作为第二脉冲,并且(iii)在所述第一与第二脉冲之间生成处于所述OFF状态的所述第二栅极驱动信号。2.根据权利要求1所述的设备,其中,所述第二切换装置包括硅(Si)半导体开关和宽带隙(WBG)装置中的一者,所述硅半导体开关具有小于与所述第一半导体切换装置相关联的所述第二接通时间的第三接通时间,所述宽带隙装置包括GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)装置、GaN共源共栅装置、SiC装置和基于GaN的切换装置。3.根据权利要求1所述的设备,其中,所述第一半导体切换装置包括硅(Si)MOSFET装置。4.根据权利要求3所述的设备,其中,所述SiMOSFET装置在所述第一源极与所述第一漏极之间包括体二极管。5.根据权利要求1所述的设备,其中,所述产生装置包括栅极驱动电路,所述栅极驱动电路具有所述第一栅极驱动输出并且被构造成生成所述第一栅极驱动信号。6.根据权利要求5所述的设备,其中,所述栅极驱动电路和所述脉冲形成器包括单独的部件。7.根据权利要求6所述的设备,其中,所述脉冲形成器包括所述第二栅极驱动输出,并且响应于所述第一栅极驱动信号,以用于生成包括所述第一和第二脉冲的所述第二栅极驱动信号。8.根据权利要求6所述的设备,其中,除了所述第一栅极驱动输出之外,所述栅极驱动电路包括另外的输出,所述另外的输出产生对应于所述第一栅极驱动信号的控制信号,所述脉冲形成器响应于所述控制信号,以用于生成包括所述第一和第二脉冲的所述第二栅极驱动信号。9.根据权利要求5所述的设备...
【专利技术属性】
技术研发人员:A克尔纳,
申请(专利权)人:黑拉有限责任两合公司,
类型:发明
国别省市:德国,DE
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