阻气性层合体制造技术

本发明专利技术涉及阻气性层合体，该层合体具有：基材层、直接或者经由其他层层合于上述基材层的一个面(A)上而形成的阻气层、直接层合于上述阻气层上而形成的保护膜(α)、以及直接或者经由其他层层合于与上述基材层的面(A)相反的面(B)上而形成的保护膜(β)，其中，上述阻气层含有特定的无机化合物，在特定条件下剥离上述保护膜(α)和上述保护膜(β)时的粘合力分别为特定值以下。根据本发明专利技术，提供阻气性层合体，其是具有基材层、阻气层和保护膜的阻气性层合体，可以剥离除去保护膜而不会对暴露面的外观产生不良影响，并且，即使剥离除去保护膜，在剩下的层合体中也可维持当初的水蒸气阻隔性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】阻气性层合体
本专利技术涉及阻气性层合体，该层合体具有基材层、阻气层和保护膜，可以剥离除去保护膜而不会对暴露面的外观产生不良影响，并且，即使剥离除去保护膜，在剩下的层合体中也可维持当初的水蒸气阻隔性。
技术介绍
近年来，具有基材层和由无机膜等构成的阻气层的阻气性层合体作为基板材料或密封材料而广泛使用。在工业上，阻气性层合体往往是以长条体的形式制造后卷成滚筒状，作为卷绕体进行保管、运输。在这样的阻气性层合体中，为了保护阻气层等，有时会设置保护膜作为单侧或两侧的最外层。例如，专利文献1中记载着功能性膜(层合体)，该功能性膜具有：功能层，所述功能层包含支撑体和交替配置于上述支撑体的一个面的各至少一层的有机膜和无机膜；第1层叠膜，其配置于上述支撑体的另一个面；以及第2层叠膜，其配置于上述功能层的最上层，其中，上述第2层叠膜与上述最上层间的粘合力小于上述第1层叠膜与上述支撑体的粘合力。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2011-207125号公报(US2011/0206900A1、US2013/0224435A1)。
技术实现思路
专利技术所要解决的课题在使用如专利文献1所记载的层合体时，要剥离除去保护膜(层叠膜)，对剩下的层合体施行规定的加工等。然而，若为了提高产率而快速剥离除去保护膜，则剩下的层合体的暴露面有时会产生伤痕。而且，在该暴露面为阻气层等功能层的情况下，其功能有时会因产生伤痕而大幅下降。关于这一点，如专利文献1的实施例中制造的层合体那样，在于无机膜上具有有机膜、再于其上具有保护膜的层合体中，由于有机膜起到无机膜的保护层的作用，所以在剥离除去保护膜时可以防止无机膜产生伤痕。然而，在利用该方法的阻气性层合体中，通常需要在阻气层上设置有机膜，阻气性层合体的制造工序变得繁杂。因此，迫切期待一种阻气性层合体，其是阻气层和保护膜直接接合的阻气性层合体，可以剥离除去保护膜而不会对暴露面的外观产生不良影响，并且，即使剥离除去保护膜，在剩下的层合体中也可维持当初的水蒸气阻隔性。用于解决课题的手段为了解决上述课题，本专利技术人对于具有基材层、阻气层和保护膜的阻气性层合体进行了深入研究。其结果，发现了一种阻气性层合体，其是具有基材层、直接或者经由其他层层合于上述基材层的一个面(A)上而形成的阻气层、直接层合于上述阻气层上而形成的保护膜(α)、直接或者经由其他层层合于与上述基材层的面(A)相反的面(B)上而形成的保护膜(β)的阻气性层合体，其中，在特定条件下剥离上述保护膜(α)和上述保护膜(β)时的粘合力分别为特定值以下，该阻气性层合体可以剥离除去其中的保护膜而不会对暴露面的外观产生不良影响，并且，即使剥离除去保护膜，在剩下的层合体中也可维持当初的水蒸气阻隔性，从而完成了本专利技术。如此，根据本专利技术，提供下述[1]～[6]的阻气性层合体。[1]阻气性层合体，其特征在于：其是具有基材层、直接或者经由其他层层合于上述基材层的一个面(A)上而形成的阻气层、直接层合于上述阻气层上而形成的保护膜(α)、以及直接或者经由其他层层合于与上述基材层的面(A)相反的面(B)上而形成的保护膜(β)的阻气性层合体，其中，在剥离速度10m/分钟、剥离角度180°的条件下剥离上述保护膜(α)时的粘合力为0.1N/50mm以下，在剥离速度10m/分钟、剥离角度180°的条件下剥离上述保护膜(β)时的粘合力为1.5N/50mm以下。[2][1]所述的阻气性层合体，其中，上述阻气层是含有选自硅氧化物、硅氮化物、硅氟化物、硅碳化物、金属氧化物、金属氮化物、金属氟化物、金属碳化物和包含构成这些化合物的元素的复合化合物的至少一种的层。[3][1]或[2]所述的阻气性层合体，其中，上述保护膜(α)是具有支撑体(α1)和粘合剂层(α2)的层合膜。[4][1]～[3]中任一项所述的阻气性层合体，其中，上述保护膜(β)是具有支撑体(β1)和粘合剂层(β2)的层合膜。[5][1]～[4]中任一项所述的阻气性层合体，其中，在剥离速度10m/分钟、剥离角度180°的条件下剥离上述保护膜(α)后，在剥离速度10m/分钟、剥离角度180°的条件下剥离上述保护膜(β)时，剩下的层合体的水蒸气透过率不足0.2g·m-2·天-1。[6][1]～[5]中任一项所述的阻气性层合体，其中，上述阻气层是将通过接受改质处理能够变成含有无机化合物的层的层表面进行改质而得到的层。[7][1]～[6]中任一项所述的阻气性层合体，该阻气性层合体用于传感器元件或光学元件。专利技术效果根据本专利技术，提供阻气性层合体，其是具有基材层、阻气层和保护膜的阻气性层合体，其中，可以剥离除去保护膜而不会对暴露面的外观产生不良影响，并且，即使剥离除去保护膜，在剩下的层合体中也可维持当初的水蒸气阻隔性。附图说明[图1]是表示本专利技术的阻气性层合体的层结构之一例的示意图。[图2]是表示本专利技术的阻气性层合体的层结构之一例的示意图。具体实施方式本专利技术的阻气性层合体的特征在于：其是具有基材层、直接或者经由其他层层合于上述基材层的一个面(A)上而形成的阻气层、直接层合于上述阻气层上而形成的保护膜(α)、以及直接或者经由其他层层合于与上述基材层的面(A)相反的面(B)上而形成的保护膜(β)的阻气性层合体，其中，在剥离速度10m/分钟、剥离角度180°的条件下剥离上述保护膜(α)时的粘合力为0.1N/50mm以下，在剥离速度10m/分钟、剥离角度180°的条件下剥离上述保护膜(β)时的粘合力为1.5N/50mm以下。[基材层]构成本专利技术的阻气性层合体的基材层只要是透明性优异、并且能够担载阻气层等的层即可，没有特别限定。作为基材层，通常使用树脂膜。作为树脂膜的树脂成分，可以列举：聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚苯醚、聚醚酮、聚醚醚酮、聚烯烃、聚酯、聚碳酸酯、聚砜、聚醚砜、聚苯硫醚、丙烯酸系树脂、环烯烃系聚合物、芳族系聚合物等。这些之中，从透明性更优异、并且具有通用性方面考虑，优选聚酯、聚碳酸酯、环烯烃系聚合物或芳族系聚合物。从通用性的角度考虑更优选聚酯，从透明性的角度考虑更优选环烯烃系聚合物。作为聚酯，可以列举：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚芳酯等，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯。作为聚碳酸酯，可以列举：使2,2-双(4-羟苯基)丙烷(别名双酚A)、2,2-双(4-羟苯基)丁烷、1,1-双(4-羟苯基)环己烷、1,1-双(4-羟苯基)异丁烷、1,1-双(4-羟苯基)乙烷等双酚类与碳酰氯(ホスゲン，光气)或碳酸二苯酯反应而得到的聚合物。作为环烯烃系聚合物，可以列举：降冰片烯系聚合物、单环的环状烯烃系聚合物、环状共轭二烯系聚合物、乙烯基脂环式烃聚合物、和它们的氢化物。作为其具体例子，可以列举：APEL(三井化学公司制造的乙烯-环烯烃共聚物)、ARTON(JSR公司制造的降冰片烯系聚合物)、ZEONOR(日本ZEON公司制造的降冰片烯系聚合物)等。作为芳族系聚合物，可以列举：聚苯乙烯等。上述树脂膜可以在不妨碍本专利技术效果的范围含有各种添加剂。作为添加剂，可以列举：紫外线吸收剂、抗静电剂、稳定剂、抗氧化剂、增塑剂、润滑剂、着色颜料等。这些添加剂的含量只要根据目的适当确定即可。树脂膜可以通过调制含有树脂成分和基于需要的各种本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.阻气性层合体，其特征在于，该阻气性层合体具有：基材层；直接或者经由其他层层合于上述基材层的一个面(A)上而形成的阻气层；直接层合于上述阻气层上而形成的保护膜(α)；以及直接或者经由其他层层合于与上述基材层的面(A)相反的面(B)上而形成的保护膜(β)，其中，在剥离速度10m/分钟、剥离角度180°的条件下剥离上述保护膜(α)时的粘合力为0.1N/50mm以下，在剥离速度10m/分钟、剥离角度180°的条件下剥离上述保护膜(β)时的粘合力为1.5N/50mm以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.03.28 JP 2017-0631011.阻气性层合体，其特征在于，该阻气性层合体具有：基材层；直接或者经由其他层层合于上述基材层的一个面(A)上而形成的阻气层；直接层合于上述阻气层上而形成的保护膜(α)；以及直接或者经由其他层层合于与上述基材层的面(A)相反的面(B)上而形成的保护膜(β)，其中，在剥离速度10m/分钟、剥离角度180°的条件下剥离上述保护膜(α)时的粘合力为0.1N/50mm以下，在剥离速度10m/分钟、剥离角度180°的条件下剥离上述保护膜(β)时的粘合力为1.5N/50mm以下。2.权利要求1所述的阻气性层合体，其中，上述阻气层是含有选自硅氧化物、硅氮化物、硅氟化物、硅碳化物、金属氧化物、金属氮化物、金属氟化物、金属碳化物和包含构成这些化合...

【专利技术属性】
技术研发人员：古屋拓己，岩屋涉，大桥健宽，
申请(专利权)人：琳得科株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP