感光性膜层积体及其固化物、以及电子部件制造技术

提供一种适于中空结构的形成的感光性膜层积体及其固化物、以及电子部件，该感光性膜层积体在SAW滤波器等具有中空结构的电子部件中能够抑制中空结构的接近部的镀层等的剥落。形成一种感光性膜层积体，其为依次具备支撑膜、由感光性组合物形成而成的感光性膜、和保护膜的感光性膜层积体，其中，将上述保护膜从上述感光性膜层积体剥离而使上述感光性膜表面露出，在23℃、相对湿度42％的环境下放置1分钟后的上述感光性膜表面的算术平均表面粗糙度设为Ra1，将上述保护膜从上述感光性膜层积体剥离而使上述感光性膜表面露出，在23℃、相对湿度42％的环境下放置180分钟后的上述感光性膜表面的算术平均表面粗糙度设为Ra2，此时满足下式：Ra1≥0.10μm且0.40≤Ra2/Ra1＜1.00。

Photosensitive film laminates and their cures, as well as electronic components

【技术实现步骤摘要】
感光性膜层积体及其固化物、以及电子部件
本专利技术涉及感光性膜层积体，更详细而言，涉及在具有中空结构的电子部件中能够适合用于该中空结构的形成的感光性膜层积体及其固化物、以及电子部件。
技术介绍
近年来，对电子设备的小型化、高功能化的要求日益提高，因此对所使用的电子部件也进一步要求小型化、薄型化、复合功能化。其中，以CMOS、CCD传感器为代表的图像传感器、应用了通过半导体微细加工技术将机械要素和电子电路要素集成在一个基板上的MEMS(MicroElectroMechanicalSystems，微电子机械系统)技术的陀螺仪传感器、以声表面波(SAW)滤波器为代表的在单晶晶片表面形成电极图案或微细结构而发挥出特定的电气功能的元件的封装等微细电子部件的开发受到关注。在这些微细电子部件中形成了下述结构：为了使传感器元件的活动面(可动部分)不与其它物体接触，并且为了保护传感器元件免受湿气、灰尘等的影响而形成中空结构，在其中配置了传感器等。以往，上述电子部件通过无机材料的加工、接合而形成中空结构体。但是，希望降低制造成本及进一步小型化，开始研究代替无机材料而利用感光性树脂等来形成中空结构的方法，例如提出了下述方案：层积永久抗蚀剂，通过光刻技术形成壁部(壁面)及盖部而形成中空结构(例如WO2009/151050号)。
技术实现思路
另外，对上述SAW滤波器等具有中空结构的电子部件来说，为了进行向搭载基板的安装而作为封装结构被制造，该封装结构具有与压电基板的配线电极进行了电连接的外部端子或外部电极。此时，在形成中空结构的壁部或盖部的接近部，为了获得与外部配线的连接可靠性，利用镀覆法等形成内部导体。另外，为了在保护元件的同时提高操作性，通过传递模塑法等对中空结构或接近部进行树脂密封。但是，在利用永久抗蚀剂形成中空结构的情况下，确认到：若在接近部形成内部导体则会产生镀层等的剥落，或密封材料从中空结构的壁部或盖部的表面剥落。因此，本专利技术的目的在于提供一种适于中空结构的形成的感光性膜层积体，该感光性膜层积体在SAW滤波器等具有中空结构的电子部件中能够抑制中空结构的接近部的镀层等的剥落。另外，本专利技术的另一目的在于提供使用上述感光性膜层积体形成的固化物和具有中空结构的电子部件。作为通过使用树脂来形成上述中空结构的方法，将感光性膜层积若干层，并通过曝光、显影预先形成壁部，在壁部的上端载置其它感光性膜，按照形成规定形状的方式进行曝光、显影而形成盖部，使感光性树脂热固化，由此能够形成中空结构。本专利技术人对上述课题进行了深入研究，结果发现：如上所述使用感光性膜形成中空结构的情况下，显影工序中使用的显影液会略微残存于构成中空结构的壁部或盖部，该显影液会从界面渗出，由此抑制与镀层等的密合性，从而容易剥落。进一步研究的结果发现，在具备保护膜的感光性膜层积体中，通过将剥离保护膜而使感光性膜表面露出后的该表面形态的经时变化为特定范围的感光性膜层积体用于中空结构的形成，可抑制与镀层等的密合性受到阻碍，能够制造具有高品质的中空结构的电子部件。本专利技术如下所述。[1]一种感光性膜层积体，其为依次具备支撑膜、由感光性组合物形成而成的感光性膜、和保护膜的感光性膜层积体，其特征在于，将上述保护膜从上述感光性膜层积体剥离而使上述感光性膜表面露出，在23℃、相对湿度42％的环境下放置1分钟后的上述感光性膜表面的算术平均表面粗糙度设为Ra1，将上述保护膜从上述感光性膜层积体剥离而使上述感光性膜表面露出，在23℃、相对湿度42％的环境下放置180分钟后的上述感光性膜表面的算术平均表面粗糙度设为Ra2，此时满足下式：Ra1≥0.10μm且0.40≤Ra2/Ra1<1.00。[2]如[1]所述的感光性膜层积体，其中，将上述保护膜从上述感光性膜层积体剥离而使上述感光性膜表面露出，在23℃、相对湿度42％的环境下放置1分钟后的上述感光性膜表面的最大高度设为Ry1，将上述保护膜从上述感光性膜层积体剥离而使上述感光性膜表面露出，在23℃、相对湿度42％的环境下放置180分钟后的上述感光性膜表面的最大高度设为Ry2，此时满足下式：Ry1≥1.00μm且0.30≤Ry2/Ry1<1.00。[3]如[1]所述的感光性膜层积体，其中，上述感光性组合物包含光固化性化合物。[4]如[1]所述的感光性膜层积体，其中，上述感光性组合物进一步包含光聚合引发剂。[5]如[1]所述的感光性膜层积体，其用于具有中空结构的电子部件中的构成上述中空结构的盖部或壁部的形成。[6]一种固化物，其特征在于，其是使[1]～[5]中任一项所述的感光性膜层积体的感光性膜固化而得到的。[7]一种电子部件，其特征在于，其具有[6]所述的固化物。[8]如[7]所述的电子部件，其具有包括壁部和盖部的中空结构，上述壁部和盖部中的任一者或两者由上述固化物构成。根据本专利技术，可以提供一种适于中空结构的形成的感光性膜层积体，该感光性膜层积体在具有中空结构的电子部件中能够抑制中空结构的接近部的镀层等的剥落。另外，根据本专利技术的另一方式，可以提供使用上述感光性膜层积体形成的固化物和电子部件。附图说明图1是示出实施例4和实施例5中制作的试验基板的制作步骤的示意性截面图。图2是示出实施例4和实施例5中制作的试验基板的制作步骤的示意性截面图。图3是示出实施例4和实施例5中制作的试验基板的制作步骤的示意性截面图。图4是示出实施例4和实施例5中制作的试验基板的制作步骤的示意性截面图。具体实施方式＜感光性膜层积体>本专利技术的感光性膜层积体依次具备支撑膜、由感光性组合物形成而成的感光性膜、和保护膜。以下，对构成本专利技术的感光性膜层积体的各构成要素进行说明。需要说明的是，只要没有特别记载，在本说明书中，使用符号“～”表示的数值范围是指包含其上限和下限的数值在内的范围(即，其下限以上、其上限以下的范围)。[支撑膜]构成本专利技术的感光性膜层积体的支撑膜对感光性膜进行支撑，只要是能够实现该功能的公知的支撑膜，就可以没有特别限制地使用，例如，可以适当使用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等的聚酯膜、聚酰亚胺膜、聚酰胺酰亚胺膜、聚丙烯膜、聚苯乙烯膜等由热塑性树脂构成的膜。另外，在使用上述热塑性树脂膜的情况下，在膜的成膜时可以向树脂中添加填料(混入处理)，进行消光被覆加工(涂布处理)，对膜表面进行喷砂处理之类的喷射处理，或者实施发纹加工或化学蚀刻等处理。这些之中，从耐热性、机械强度、处理性等方面出发，可以适当使用聚酯膜。支撑膜可以为单层，也可以层积2层以上。出于提高强度的目的，上述的热塑性树脂膜优选使用在单轴方向或双轴方向进行了拉伸的膜。另外，出于提高强度的目的，上述的热塑性树脂膜优选使用在单轴方向或双轴方向进行了拉伸的膜。对支撑膜的厚度没有特别限制，大致在10μm以上3,000μm以下的范围根据用途适当选择。[感光性膜]构成本专利技术的感光性膜层积体的感光性膜由感光性组合物形成。即，在支撑膜的一个面涂布包含后述各成分的感光性组合物并使其干燥，由此可以形成。感光性膜在通过曝光、显影而形成规定的形状后，使感光性组合物固化，由此成为固化物。因此，在将保护膜从感光性膜层积体剥离而使感光性膜的表面露出的状态下，感光性组合物为未固化的状态，因此感光性膜的表面形态本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种感光性膜层积体，其为依次具备支撑膜、由感光性组合物形成而成的感光性膜、和保护膜的感光性膜层积体，其特征在于，将所述保护膜从所述感光性膜层积体剥离而使所述感光性膜表面露出，在23℃、相对湿度42％的环境下放置1分钟后的所述感光性膜表面的算术平均表面粗糙度设为Ra1，将所述保护膜从所述感光性膜层积体剥离而使所述感光性膜表面露出，在23℃、相对湿度42％的环境下放置180分钟后的所述感光性膜表面的算术平均表面粗糙度设为Ra2，此时满足下式：Ra1≥0.10μm且0.40≤Ra2/Ra1<1.00。

【技术特征摘要】
2018.03.30 JP 2018-0696691.一种感光性膜层积体，其为依次具备支撑膜、由感光性组合物形成而成的感光性膜、和保护膜的感光性膜层积体，其特征在于，将所述保护膜从所述感光性膜层积体剥离而使所述感光性膜表面露出，在23℃、相对湿度42％的环境下放置1分钟后的所述感光性膜表面的算术平均表面粗糙度设为Ra1，将所述保护膜从所述感光性膜层积体剥离而使所述感光性膜表面露出，在23℃、相对湿度42％的环境下放置180分钟后的所述感光性膜表面的算术平均表面粗糙度设为Ra2，此时满足下式：Ra1≥0.10μm且0.40≤Ra2/Ra1<1.00。2.如权利要求1所述的感光性膜层积体，其中，将所述保护膜从所述感光性膜层积体剥离而使所述感光性膜表面露出，在23℃、相对湿度42％的环境下放置1分钟后的所述感光性膜表面的最大...

【专利技术属性】
技术研发人员：荒井康昭，舟越千弘，佐藤和也，
申请(专利权)人：太阳油墨制造株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP