过滤装置及过滤在半导体制造中使用的流体的方法制造方法及图纸

本申请提供一种过滤装置及过滤在半导体制造中使用的流体的方法，该过滤装置包括一壳体、一过滤元件、及一温度控制单元。壳体具有一入口及一出口，其中入口允许一流体流入壳体，而出口允许流体流出壳体。过滤元件设置于入口与出口之间，用以经由一吸附方式过滤流过过滤元件的流体中的杂质。温度控制单元配置用以控制过滤元件的温度，以改变过滤元件的吸收率。

【技术实现步骤摘要】
过滤装置及过滤在半导体制造中使用的流体的方法
本专利技术实施例涉及一种半导体技术，特别涉及一种用于过滤在半导体制造中使用到的各种流体的过滤装置及过滤方法。
技术介绍
半导体装置被用于多种电子应用，例如个人电脑、移动电话、数码相机、及其他电子设备。半导体装置的制造通常涉及多道处理程序，例如包括光刻、蚀刻、离子注入、掺杂、退火、及封装等制造过程(以下简称作工艺)。在这些工艺中，可能使用到各种不同类型的流体或化学品，例如包括水、光阻剂、显影液、蚀刻液、研磨液、工艺或清洁用气体等。这些流体通常经过过滤之后才被输送至半导体制造设备以供使用。虽然现有的过滤系统及过滤方法已经足以应付其需求，然而仍未全面满足。因此，需要提供一种可以改善过滤流体中杂质的效果的方案。
技术实现思路
本申请部分实施例提供一种过滤装置。上述过滤装置包括一壳体、一过滤元件、及一温度控制单元。壳体具有一入口及一出口，其中入口允许一流体流入壳体，而出口允许流体流出壳体。过滤元件设置于入口与出口之间，用以经由一吸附方式过滤流过过滤元件的流体中的杂质。温度控制单元配置用以控制过滤元件的温度，以改变过滤元件对流体中的杂质的一吸收率。本申请本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种过滤装置，包括：一壳体，具有一入口及一出口，该入口允许一流体流入该壳体，而该出口允许该流体流出该壳体；一过滤元件，设置于该入口与该出口之间，用以经由一吸附方式过滤流过该过滤元件的该流体中的杂质；以及一温度控制单元，配置用以控制该过滤元件的温度，以改变该过滤元件对该流体中的杂质的一吸收率。

【技术特征摘要】
1.一种过滤装置，包括：一壳体，具有一入口及一出口，该入口允许一流体流入该壳体，而该出口允许该流体流出该壳体；一过滤元件，设置于该入口与该出口之间，用以经由一吸附方式过滤流过该过滤元件的该流体中的杂质；以及一温度控制单元，配置用以控制该过滤元件的温度，以改变该过滤元件对该流体中的杂质的一吸收率。2.如权利要求1所述的过滤装置，其中该温度控制单元包括一温度调控件，该温度调控件相对该过滤元件设置且与该过滤元件相隔一间距，其中该温度调控件配置用于产生一热辐射以改变该过滤元件的温度。3.如权利要求1所述的过滤装置，其中该温度控制单元包括一温度调控件，该温度调控件直接接触该过滤元件，其中该温度调控件配置用于透过热传导的方式改变该过滤元件的温度。4.如权利要求1所述的过滤装置，其中该温度控制单元包括：一检测器，配置用于检测该流体的种类，并根据检测的结果发出一检测信号；一控制器，电性连结该检测器并配置用于根据该检测信号发出一控制信号；以及一温度调控件，电性连结该控制器并根据该控制信号改变该过滤元件的温度。5.如权利要求1所述的过滤装置，其中该流体由该入口流入该壳体后，至少通过位于该过滤元件上的一第一流动路线与一第二流动路...

【专利技术属性】
技术研发人员：王建惟，杨立柏，张庆裕，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71