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本申请提供一种过滤装置及过滤在半导体制造中使用的流体的方法，该过滤装置包括一壳体、一过滤元件、及一温度控制单元。壳体具有一入口及一出口，其中入口允许一流体流入壳体，而出口允许流体流出壳体。过滤元件设置于入口与出口之间，用以经由一吸附方式过滤...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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