显示面板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

技术编号:22264854 阅读:17 留言:0更新日期:2019-10-10 16:15
本申请提供一种显示面板及其制备方法、显示装置,所述显示面板包括:基板;薄膜晶体管层,设置于所述基板上;发光层,设置于所述薄膜晶体管层上;其中,所述发光层包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、覆盖层以及无机层。有益效果:在本申请提供的显示面板中,所述发光层中的无机层的制备时间短,利于显示面板的量产。

Display panel, its preparation method and display device

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制备方法、显示装置
本申请涉及显示面板的封装技术,尤其涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
OLED(OrganicLightEmittingDiode,简称有机发光二极管)器件因其较传统LCD相比具有重量轻巧,广视角,响应时间快,耐低温,发光效率高等优点,因此在显示行业一直被视其为下一代新型显示技术,特别是OLED面板可以在柔性基板上做成能弯曲的柔性显示屏,这更是OLED显示面板的巨大优势。当前OLED显示面板主要包括基板、薄膜晶体管层、发光层和薄膜封装结构,然而,其发光层的蒸镀成膜的制程时间很长,不利于显示面板的量产。
技术实现思路
本申请提供一种显示面板及其制备方法、显示装置,所述显示面板包括:基板;薄膜晶体管层,设置于所述基板上;发光层,设置于所述薄膜晶体管层上;其中,所述发光层包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、覆盖层以及无机层;其中,所述发光层中的无机层的制备时间短,利于显示面板的量产。本申请提供的技术方案如下:本申请提供一种显示面板,所述显示面板包括:基板;薄膜晶体管层,设置于所述基板上;发光层,设置于所述薄膜晶体管层上;其中,所述发光层包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、覆盖层以及无机层。在本申请提供的显示面板中,所述无机层的材质为氧化硅、氮化硅或者氮氧化硅。在本申请提供的显示面板中,所述显示面板还包括封装膜层;所述封装膜层覆盖所述发光层,所述封装膜层包覆所述发光层、所述薄膜晶体管层与所述基板。在本申请提供的显示面板中,所述封装膜层的材料为有机绝缘材料,所述有机绝缘材料为阵列有机绝缘膜、亚克力树脂或者硅氧烷树脂中的一种或者多种。本申请还提供一种显示面板的制备方法,所述方法包括:提供基板;在所述基板上制备薄膜晶体管层;在所述薄膜晶体管层上制备发光层;其中,所述发光层包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、覆盖层以及无机层。在本申请提供的一种显示面板的制备方法中,所述在所述薄膜晶体管层上制备发光层之后,还包括:在所述发光层上制备封装膜层,所述封装膜层覆盖所述发光层,所述封装膜层包覆所述发光层、所述薄膜晶体管层与所述基板。在本申请提供的一种显示面板的制备方法中,所述在所述薄膜晶体管层上制备发光层,具体包括:在所述薄膜晶体管层上制备空穴注入层;在所述空穴注入层上制备空穴传输层;在所述空穴传输层上制备电子传输层;在所述电子传输层上制备电子注入层;在所述电子注入层上制备阴极膜层;在所述阴极膜层上蒸镀无机层。在本申请提供的一种显示面板的制备方法中,所述显示装置包括上述所述的显示面板。本申请的有益效果为:在本申请提供的显示面板中,所述发光层中的无机层的制备时间短,利于显示面板的量产。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本申请实施例提供的显示面板的结构示意图。图2本申请实施例所提供的发光层的结构示意图。图3为本申请实施例提供的显示面板的另一种结构示意图。图4为本申请实施例所提供的显示面板的制备方法示意图。图5为本申请实施例提供的显示面板制备方法中S30的流程示意图。具体实施方式本申请提供一种显示面板及其制备方法、显示装置,所述显示面板包括:基板;薄膜晶体管层,设置于所述基板上;发光层,设置于所述薄膜晶体管层上;其中,所述发光层包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、覆盖层以及无机层,其中,所述发光层中的无机层的蒸镀时间短,利于显示面板的量产。以下各实施例的说明是参考附加的图示,用以例示本申请可用以实施的特定实施例。本申请所提到的方向用语,例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本申请,而非用以限制本申请。在图中,结构相似的单元是用以相同标号表示。需要说明的是,本专利技术附图中各层的厚度和形状不反映真实比例,目的只是示意说明本申请实施例内容。请参见图1,该图1为本申请实施例所提供的显示面板的结构示意图。在该图1中,所述显示面板包括:基板1;薄膜晶体管层2,设置于所述基板1上;发光层3,设置于所述薄膜晶体管2层上。在一些实施例中,基板1可选地为柔性基板,柔性基板与薄膜晶体管层2、发光层3相配合形成柔性显示面板。柔性基板的材料本申请不限制,可选地为有机聚合物,作为示例,有机聚合物可以是聚酰亚胺(Polyimide,PI)、聚酰胶(PolyamideAdhesive,PA)、聚碳酸酯(Polycarbonate,PC)、聚苯醚砜(Polyethersulfone,PES)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PolyethyleneglycolTerephthalate,PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PolyethyleneNaphthalatetwoformicacidglycolester,PEN)、聚甲基丙烯酸甲酯(PolyMethylMethacrylate,PMMA)、环烯烃共聚物(COC)中的一种。具体的,请参见图2,该图2本申请实施例所提供的发光层的结构示意图。在该图2中,该发光层3包括依次层叠设置的空穴注入层31(HoleInjectLayer,HIL)、空穴传输层32(HoleTransportLayer,HTL)、电致发光层33(EmittingMaterialLayer,EML)、电子传输层34(ElectronTransportLayer,EHL)、电子注入层35(ElectronInjectLayer,EIL)、阴极38(Cathode)、覆盖层36(CapingLayer,CPL)以及无机层37。具体的,该空穴注入层31作为该显示面板中的缓冲层,可以平滑该显示面板中薄膜晶体管层2和空穴传输层32之间的空穴注入势垒,有效解决该发光层3界面功函数失配的问题。同理,该电子注入层35作为该显示面板中的缓冲层,可以平滑该显示面板中阴极和电子传输层34之间的电子注入势垒,有效解决该发光层3界面功函数失配的问题。且该电致发光层33在该薄膜晶体管层2中的阳极38、空穴注入层31、空穴传输层32、电子传输层34以及电子注入层35和阴极38的作用下发光显示。在一些实施例中,所述无机层37的材质为氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)或者氮氧化硅(SiON)的一种或多种组合。所述无机层37的折射率低于所述覆盖层36的折射率。除此之外,该无机层37的材质还可以为金属氧化物、金属氮化物、金属硫化物、氧化物半导体或氮化物半导体等材料的一种或多种组合。需要指出的是,在现有技术的显示面板中,现有技术显示面板的发光层中为依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、覆盖层以及氟化锂层(LiF)。该氟化锂层一般采用蒸镀的形式形成于该覆盖层表面,但是在显示面板的制程中,该氟化锂的蒸镀时本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括:基板;薄膜晶体管层,设置于所述基板上;发光层,设置于所述薄膜晶体管层上;其中,所述发光层包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、覆盖层以及无机层。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括:基板;薄膜晶体管层,设置于所述基板上;发光层,设置于所述薄膜晶体管层上;其中,所述发光层包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、覆盖层以及无机层。2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述无机层的材质为氧化硅、氮化硅或者氮氧化硅。3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述无机层的折射率低于所述覆盖层的折射率。4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括封装膜层;所述封装膜层覆盖所述发光层,所述封装膜层包覆所述发光层、所述薄膜晶体管层与所述基板。5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述封装膜层的材料为有机绝缘材料,所述有机绝缘材料为阵列有机绝缘膜、亚克力树脂或者硅氧烷树脂中的一种或者多种。6.一种显示面板的制备方法,其特征在于,所述方法包括:提供基板;在所述基板上制备薄膜晶体管层;在所述薄膜晶体管层上制备发光层,其中,所述发光层包括依次层...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙佳佳
申请(专利权)人:武汉华星光电半导体显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:湖北,42

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