一种低摩擦特大型双列圆锥滚子回转支承制造技术

技术编号:22214490 阅读:29 留言:0更新日期:2019-09-29 23:26
本发明专利技术公开了一种低摩擦特大型双列圆锥滚子回转支承,包括内圈、外圈、圆锥滚子和保持架,保持架置于内圈与外圈之间的位置,保持架的数量为两个,保持架为锥形环状结构,保持架的厚度方向开设有多个绕保持架中心均匀分布的锥形孔,保持架的一端一体连接有厚度大于保持架壁厚的凸起部,凸起部的侧面与内圈内侧端面的台阶相接触,本发明专利技术结构简单、设计合理、使用方便,将保持架与回转支承内外圈接触的部位设计为凹坑状结构,使用时,由于凹坑的出现,会在保持架与内外圈接触部位形成油膜,大大降低了该部位受到磨损的几率,有利于延长回转支承的使用寿命。

A Low Friction Super Large Double-row Tapered Roller Rotary Bearing

【技术实现步骤摘要】
一种低摩擦特大型双列圆锥滚子回转支承
本专利技术属于回转支承
,具体涉及一种低摩擦特大型双列圆锥滚子回转支承。
技术介绍
回转支承又叫转盘轴承,在现实工业中应用很广泛,被人们称为“机器的关节”,是两物体之间需作相对回转运动,又需同时承受轴向力、径向力、倾翻力矩的机械所必需的重要传动部件。随着机械行业的迅速发展,回转支承在船舶设备、工程机械、轻工机械、冶金机械、医疗机械、工业机械等行业得到了广泛的应用。由于现有的特大型双列圆锥滚子回转支承在使用时,承受的作用力较大,其内部的保持架与内圈或外圈接触面大,造成内圈、外圈与保持架接触部位磨损严重,影响了回转支承的正常使用,效果不理想。
技术实现思路
本专利技术为了解决上述技术问题,提供一种低摩擦特大型双列圆锥滚子回转支承,将保持架与回转支承内外圈接触的部位设计为凹坑状结构,使用时,由于凹坑的出现,会在保持架与内外圈接触部位形成油膜,大大降低了该部位受到磨损的几率,有利于延长回转支承的使用寿命。本专利技术所采用的技术方案是:一种低摩擦特大型双列圆锥滚子回转支承,包括内圈、外圈、圆锥滚子和保持架,保持架置于内圈与外圈之间的位置,保持架的数量为两个,保持架为锥形环状结构,保持架的厚度方向开设有多个绕保持架中心均匀分布的锥形孔,保持架的一端一体连接有厚度大于保持架壁厚的凸起部,凸起部的侧面与内圈内侧端面的台阶相接触,且凸起部与台阶相接触的侧面表面设有多个绕保持架中心均匀分布的V型凹槽。所述V型凹槽的最低点与凸起部表面的距离为2.5mm。所述V型凹槽的夹角为170°。所述内圈包括第一内圈与第二内圈,第一内圈与第二内圈通过连接螺栓相连。所述圆锥滚子的数量与锥形孔的数量相等,且每个圆锥滚子对应安装在锥形孔的位置上,圆锥滚子的外侧圆周面分别与外圈的滚道、内圈的滚道相接触。工作时,保持架上的凸起部一侧紧贴内圈上的台阶表面,由于保持架凸起部表面设有多个V型凹槽,可在工作时在V型凹槽内加入润滑油脂,使得在该凸起部表面与内圈、外圈之间形成一层油膜,通过油膜来降低工作时保持架与滚道表面产生的摩擦力,可延长保持架、内圈、外圈的使用寿命,并保证回转支承的工作稳定。所述保持架的一端一体连接有厚度大于保持架壁厚的凸起部,凸起部的侧面与内圈内侧端面的台阶相接触,且凸起部与台阶相接触的侧面表面设有多个绕保持架中心均匀分布的V型凹槽;这样设置的目的是:凸起部在工作时,与内圈相接触,因此,其厚度方向尺寸大于保持架的壁厚能够在凸起部受到一定磨损的情况下,也能够正常的进行使用,V型凹槽可以使得凸起部与内圈之间的接触面减小,并且能够在V型凹槽内添加润滑油脂,使得在回转支承工作时,其接触面上形成油膜,降低保持架与内圈之间的摩擦阻力,使回转支承工作稳定,延长回转支承的使用寿命。本专利技术的有益效果为:本专利技术结构简单、设计合理、使用方便,将保持架与回转支承内外圈接触的部位设计为凹坑状结构,使用时,由于凹坑的出现,会在保持架与内外圈接触部位形成油膜,大大降低了该部位受到磨损的几率,有利于延长回转支承的使用寿命。附图说明图1为本专利技术的结构示意图;图2为本专利技术保持架的立体图;图3为本专利技术保持架的局部立体结构图。图中标记:1、外圈;2、第一内圈;3、第二内圈;4、圆锥滚子;5、保持架;501、凸起部;502、V型凹槽;503、锥形孔。具体实施方式以下结合附图对本专利技术的具体实施方式做进一步的详细说明。如图所示,一种低摩擦特大型双列圆锥滚子回转支承,包括内圈、外圈1、圆锥滚子4和保持架5,保持架5置于内圈与外圈1之间的位置,保持架5的数量为两个,保持架5为锥形环状结构,保持架5的厚度方向开设有多个绕保持架5中心均匀分布的锥形孔503,保持架5的一端一体连接有厚度大于保持架5壁厚的凸起部501,凸起部501的侧面与内圈内侧端面的台阶相接触,且凸起部501与台阶相接触的侧面表面设有多个绕保持架5中心均匀分布的V型凹槽502,其中,V型凹槽502的最低点与凸起部501表面的距离为2.5mm,V型凹槽502的夹角为170°,2.5mm的深度与170°的夹角能够保证油脂贮存在该V型凹槽502内,并且在回转支承工作时,在外力作用下,油脂沿着夹角的两个边向两侧扩散,最终在保持架5与相邻的滚道之间形成油膜,可降低保持架5与相邻滚道在工作时的摩擦阻力,降低保持架5的磨损。所述内圈包括第一内圈2与第二内圈3,第一内圈2与第二内圈3通过连接螺栓相连。所述圆锥滚子4的数量与锥形孔503的数量相等,且每个圆锥滚子4对应安装在锥形孔503的位置上,圆锥滚子4的外侧圆周面分别与外圈1的滚道、内圈的滚道相接触。工作时,保持架5上的凸起部501一侧紧贴内圈上的台阶表面,由于保持架5凸起部501表面设有多个V型凹槽502,可在工作时在V型凹槽502内加入润滑油脂,使得在该凸起部501表面与内圈、外圈1之间形成一层油膜,通过油膜来降低工作时保持架5与滚道表面产生的摩擦力,可延长保持架5、内圈、外圈1的使用寿命,并保证回转支承的工作稳定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低摩擦特大型双列圆锥滚子回转支承,其特征在于:包括内圈、外圈、圆锥滚子和保持架,保持架置于内圈与外圈之间的位置,保持架的数量为两个,保持架为锥形环状结构,保持架的厚度方向开设有多个绕保持架中心均匀分布的锥形孔,保持架的一端一体连接有厚度大于保持架壁厚的凸起部,凸起部的侧面与内圈内侧端面的台阶相接触,且凸起部与台阶相接触的侧面表面设有多个绕保持架中心均匀分布的V型凹槽。

【技术特征摘要】
1.一种低摩擦特大型双列圆锥滚子回转支承,其特征在于:包括内圈、外圈、圆锥滚子和保持架,保持架置于内圈与外圈之间的位置,保持架的数量为两个,保持架为锥形环状结构,保持架的厚度方向开设有多个绕保持架中心均匀分布的锥形孔,保持架的一端一体连接有厚度大于保持架壁厚的凸起部,凸起部的侧面与内圈内侧端面的台阶相接触,且凸起部与台阶相接触的侧面表面设有多个绕保持架中心均匀分布的V型凹槽。2.根据权利要求1所述的一种低摩擦特大型双列圆锥滚子回转支承,其特征在于:V型凹槽的最低点与...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵俊飞
申请(专利权)人:洛阳新强联回转支承股份有限公司
类型:发明
国别省市:河南,41

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