一种蒸镀腔室内衬装置及其蒸发系统、蒸镀装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及半导体工艺技术领域，具体涉及一种蒸镀腔室内衬装置及其蒸发系统、蒸镀装置。本发明专利技术提供的蒸镀腔室内衬装置，包括腔室组件，所述腔室组件，包括，第一壳体，具有相对设置的第一开口端和第二开口端，所述第一开口端外接蒸发装置，所述第一壳体内形成适于蒸汽流通的蒸汽通道；第二壳体，与所述第二开口端连通，所述第二壳体内形成用于留存来自所述蒸汽通道蒸汽的材料留存区。本发明专利技术提供的蒸镀腔室内衬装置可保证蒸发装置可以提前对有机材料进行升温，而无需担心蒸发的材料进入蒸镀区域对基板造成干扰。

A kind of indoor lining device of evaporation chamber and its evaporation system and evaporation device

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀腔室内衬装置及其蒸发系统、蒸镀装置
本专利技术涉及半导体工艺
，具体涉及一种蒸镀腔室内衬装置及其蒸发系统、蒸镀装置。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)，又称为有机电激光显示、有机发光半导体，是一种利用多层有机薄膜结构产生电致发光的器件，OLED以广视角、高对比、低耗电、响应速度快、工作温度范围广等优点，在显示领域引起人们的广泛关注。OLED发光需在基板与封装机构间蒸镀数层有机材料，其中蒸镀装置分为点源蒸镀设备和线源蒸镀设备，二者都是通过在大气环境中对蒸镀腔体内的坩埚添加有机材料，抽真空至高真空环境后，加热坩埚使有机材料蒸发气化，从而制备OLED器件的有机薄膜。针对点源蒸镀设备，由于点源(蒸镀用蒸发源)中一次性添加的材料有限，存在材料耗尽需要切换蒸发源的过程，在此过程中，由于无法提前将材料进行升温及保持材料蒸发速率稳定，从而使得在换源过程中易导致屏体颜色和均匀性波动，产生生产损失，然而如果仅仅在蒸镀腔室内设置蒸发装置对材料进行提前升温，蒸发的材料易对正在蒸镀的基板造成干扰和污染。因此，需要在蒸镀腔室内设置一个与蒸发装置相连的内衬装置，以用来阻镉蒸发的材料进入蒸镀区域对基板造成干扰，同时吸附蒸发的材料，现有技术中所述内衬装置为一个单通道直筒结构，为了保证有机材料蒸发速率的稳定性，通常通过该单通道直筒结构将蒸发的有机材料引导至一个晶振装置以对有机材料的蒸发速率进行监控，然而晶振装置的安装费用较高，且存在较高的损耗费用，泄露的材料易干扰晶振装置的监控过程。综上，现有技术中针对点源蒸发设备，在材料耗尽需要换源的过程中存在材料升温时间久，材料蒸发速率稳定时间长，使用晶振装置费用高，且易出现材料泄露从而干扰晶振装置对材料蒸发速率进行监控的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术中针对点源蒸发设备，在材料耗尽需要换源的过程中存在材料升温时间久，材料蒸发速率稳定时间长，使用晶振装置费用高，易出现材料泄露从而干扰晶振装置对材料蒸发速率进行监控的问题。为达到上述目的，本专利技术采用如下技术方案：一种蒸镀腔室内衬装置，包括腔室组件，所述腔室组件，包括，第一壳体，具有相对设置的第一开口端和第二开口端，所述第一开口端外接蒸发装置，所述第一壳体内形成适于蒸汽流通的蒸汽通道；第二壳体，与所述第二开口端连通，所述第二壳体内形成用于留存来自所述蒸汽通道蒸汽的材料留存区。进一步的，所述第一壳体倾斜设置形成倾斜的蒸汽通道，以使蒸汽沿所述第一开口端至第二开口端的方向上在蒸汽通道内流通时呈上升趋势。进一步的，所述蒸汽通道与水平面夹角为30-45°；所述蒸汽通道为筒状蒸汽通道。进一步的，所述材料留存区与所述第二开口端正对的内壁上设置若干朝向所述第二开口端凸出的凸起；优选地，所述凸起为圆形凸起。进一步的，还包括，回收装置，与所述第二壳体的底部连通，以使所述材料留存区内的材料回收至所述回收装置内；优选地，所述回收装置与第二壳体之间可拆卸连通；加热组件，设置于所述蒸汽通道上，以加热所述蒸汽通道内壁上留存的材料并使其进入所述材料留存区。进一步的，所述加热组件为环状加热组件，所述环状加热组件缠绕于所述第一壳体上，以对所述蒸汽通道加热。进一步的，所述第一壳体的形状为长方体；所述第二壳体的形状为长方体或正方体；所述回收装置的形状为长方体。进一步的，所述第一壳体、第二壳体和回收装置的材质均为不锈钢材质。本专利技术还提供一种蒸发系统，包括蒸发装置及与所述蒸发装置连通的上述所述的蒸镀腔室内衬装置。本专利技术还提供一种蒸镀装置，其特征在于，包括上述所述的蒸发系统。本专利技术的有益效果：本专利技术提供的蒸镀腔室内衬装置，包括腔室组件，所述腔室组件，包括，第一壳体，具有相对设置的第一开口端和第二开口端，所述第一开口端外接蒸发装置，所述第一壳体内形成适于蒸汽流通的蒸汽通道；第二壳体，与所述第二开口端连通，所述第二壳体内形成用于留存来自所述蒸汽通道蒸汽的材料留存区。通过上述设置，蒸发装置可以提前对有机材料进行升温，以及达到稳定的蒸发速率，蒸发的有机材料可以不断通过腔室组件内的蒸汽通道进入材料留存区，而无需担心蒸发的材料进入蒸镀区域对基板造成干扰，在这一过程中无需晶振装置对材料的蒸发速率进行监控，可以减少晶振装置较高的安装费用和晶振装置损耗费用，当点源中材料耗尽需要换源时，将提前进行加热升温的有机材料转移至该点源处，无需再对有机材料进行升温以及等待材料蒸发速率稳定，节约了大量的时间成本，提高了产品产能，在保证材料蒸发速率稳定性的同时有效克服了在材料耗尽需要换源的过程中存在的材料升温时间久，材料蒸发速率稳定时间长，使用晶振装置费用高，易出现材料泄露从而干扰晶振装置对材料蒸发速率进行监控的问题。附图说明为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术蒸镀腔室内衬装置结构示意图。图2为本专利技术蒸发系统装置结构示意图。1、腔室组件；2、蒸汽通道；3、圆形凸起；4、材料留存区；5、回收装置；6、蒸发装置。具体实施方式下面将对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。此外，下面所描述的本专利技术不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。本专利技术提供一种蒸镀腔室内衬装置，如图1和图2所示，包括腔室组件1，所述腔室组件1，包括，第一壳体，具有相对设置的第一开口端和第二开口端，所述第一开口端外接蒸发装置6，所述第一壳体内形成适于蒸汽流通的蒸汽通道2；第二壳体，与所述第二开口端连通，所述第二壳体内形成用于留存来自所述蒸汽通道2蒸汽的材料留存区4。通过上述设置，蒸发装置6可以提前对有机材料进行升温，蒸发的有机材料可以不断通过腔室组件1内的蒸汽通道2进入材料留存区4，而无需担心蒸发的材料进入蒸镀区域对基板造成干扰，因此在这一过程中有足够的时间使有机材料达到稳定的蒸发速率，无需晶振装置对材料的蒸发速率进行监本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀腔室内衬装置，其特征在于，包括腔室组件，所述腔室组件，包括，第一壳体，具有相对设置的第一开口端和第二开口端，所述第一开口端外接蒸发装置，所述第一壳体内形成适于蒸汽流通的蒸汽通道；第二壳体，与所述第二开口端连通，所述第二壳体内形成用于留存来自所述蒸汽通道蒸汽的材料留存区。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀腔室内衬装置，其特征在于，包括腔室组件，所述腔室组件，包括，第一壳体，具有相对设置的第一开口端和第二开口端，所述第一开口端外接蒸发装置，所述第一壳体内形成适于蒸汽流通的蒸汽通道；第二壳体，与所述第二开口端连通，所述第二壳体内形成用于留存来自所述蒸汽通道蒸汽的材料留存区。2.根据权利要求1所述的蒸镀腔室内衬装置，其特征在于，所述第一壳体倾斜设置形成倾斜的蒸汽通道，以使蒸汽沿所述第一开口端至第二开口端的方向上在蒸汽通道内流通时呈上升趋势。3.根据权利要求2所述的蒸镀腔室内衬装置，其特征在于，所述蒸汽通道与水平面夹角为30-45°；所述蒸汽通道为筒状蒸汽通道。4.根据权利要求1-3任一项所述的蒸镀腔室内衬装置，其特征在于，所述材料留存区与所述第二开口端正对的内壁上设置若干朝向所述第二开口端凸出的凸起；优选地，所述凸起为圆形凸起。5.根据权利要求1-4任一项所述的蒸镀腔室内衬装置，其特征在于，还包...

【专利技术属性】
技术研发人员：于子洋，葛鹏程，廖明富，
申请(专利权)人：昆山维信诺科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32