石墨烯薄膜转移装置制造方法及图纸

技术编号:22211028 阅读:44 留言:0更新日期:2019-09-29 22:16
本申请涉及石墨烯转移技术领域,具体而言,涉及一种石墨烯薄膜转移装置,用以将石墨烯薄膜转移至目标基底,其包括:壳体,所述壳体具有真空腔体;滚压机构,位于所述真空腔体内,所述滚压机构包括第一辊轴及与所述第一辊轴相对设置的第二辊轴,所述第一辊轴及所述第二辊轴中的至少一者能够转动;其中,所述第一辊轴和/或所述第二辊轴能够在转动过程中对经过所述第一辊轴和所述第二辊轴之间的石墨烯薄膜与目标基底进行滚动贴合,以将石墨烯薄膜转移至目标基底。该技术方案能够提高石墨烯薄膜转移之后的完整度。

Graphene film transfer device

【技术实现步骤摘要】
石墨烯薄膜转移装置
本申请涉及石墨烯转移
,具体而言,涉及一种石墨烯薄膜转移装置。
技术介绍
近年来,作为一种特殊的二维碳材料,石墨烯因其独特的电学、力学、光学、热学性质而备受关注,并在光电、热管理等领域有着广泛的应用前景。目前,石墨烯最为主流的制备方法当属化学气相沉积法(ChemicalVaporDeposition,简称:CVD),人们可以直接在Cu(铜)、Ni(镍)等金属基底上进行石墨烯的生长。尽管利用CVD法可以在金属基底上大规模生长石墨烯,然而,石墨烯往往需要转移到特定的目标基底,如硅基底上,才能更好的应用。但是,石墨烯仅由一层碳原子构成,只有在紧密依附基底的条件下才能稳定存在,同时,剧烈的外部条件容易破坏石墨烯晶格,引入缺陷,进而严重影响石墨烯的性能,这为石墨烯的转移带来了巨大的难题。需要说明的是,在上述
技术介绍
部分公开的信息仅用于加强对本申请的背景的理解,因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
本申请的目的在于提供一种石墨烯薄膜转移装置,能够提高石墨烯薄膜转移之后的完整度。本申请提供了一种石墨烯薄膜转移装置,用以将石墨烯薄膜转移至目标基本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种石墨烯薄膜转移装置,用以将石墨烯薄膜转移至目标基底,其特征在于,包括:壳体,所述壳体具有真空腔体;滚压机构,位于所述真空腔体内,所述滚压机构包括第一辊轴及与所述第一辊轴相对设置的第二辊轴,所述第一辊轴及所述第二辊轴中的至少一者能够转动;其中,所述第一辊轴和/或所述第二辊轴能够在转动过程中对经过所述第一辊轴和所述第二辊轴之间的石墨烯薄膜与目标基底进行滚动贴合,以将石墨烯薄膜转移至目标基底。

【技术特征摘要】
1.一种石墨烯薄膜转移装置,用以将石墨烯薄膜转移至目标基底,其特征在于,包括:壳体,所述壳体具有真空腔体;滚压机构,位于所述真空腔体内,所述滚压机构包括第一辊轴及与所述第一辊轴相对设置的第二辊轴,所述第一辊轴及所述第二辊轴中的至少一者能够转动;其中,所述第一辊轴和/或所述第二辊轴能够在转动过程中对经过所述第一辊轴和所述第二辊轴之间的石墨烯薄膜与目标基底进行滚动贴合,以将石墨烯薄膜转移至目标基底。2.根据权利要求1所述的石墨烯薄膜转移装置,其特征在于,所述滚压机构还包括驱动系统,所述驱动系统与所述第一辊轴连接,用于驱动所述第一辊轴转动,其中,所述第一辊轴在转动过程中能够带动所述第二辊轴转动。3.根据权利要求1所述的石墨烯薄膜转移装置,其特征在于,所述滚压机构还包括调压系统,所述调压系统包括多组调压组件和支撑架,所述第二辊轴的两端分别通过至少一组所述调压组件活动地设置于支撑架,所述调压组件能够驱动所述第二辊轴向靠近或远离所述第一辊轴的方向移动,以调整所述第一辊轴及所述第二辊轴之间的压力。4.根据权利要求3所述的石墨烯薄膜转移装置,其特征在于,所述调压组件包括滑块、连接部件、弹性部件和螺旋器,所述弹性部件设置于所述支撑架,所述连接部件设置于所述滑块并与所述弹性部件相连,所述螺旋器活动地设置于所述支撑架,所述滑块能够在所述螺旋器的压力作用下带动所述第二辊轴向所述第一辊轴移动,以使所述第二辊轴挤压所述第一辊轴。5.根据权利要求1所述的石墨烯薄膜转移装置,其特征在于,所述滚压机构还包括温控系统,所述温控系统与所述第一辊轴和所述第二辊轴中的至少一者连接,用于控制所述第一辊轴和/或所述第二辊轴的温度。6.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘忠范彭海琳王悦晨孙禄钊李杨立志余屹林志威
申请(专利权)人:北京石墨烯研究院北京大学
类型:新型
国别省市:北京,11

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