用于检查集成电路的关注区域生成制造技术

提供了用于检查集成电路的方法和系统，包括：生成每个都包括至少一个潜在缺陷的关注区域；基于第一组空间关系来组织所生成的所述关注区域，以提供相邻关注区域的列表，其中所述相邻关注区域中的每个都是所述列表内的条目；和生成所述列表的配置方案文件，其中所述相邻关注区域中的每个都使用高分辨率检查系统被顺序地检查。该系统包括存储器，该存储器包括指令，所述指令能够由处理器执行以：生成每个都包括至少一个潜在缺陷的关注区域；基于第一组空间关系来组织所生成的所述关注区域，以提供相邻关注区域的列表，所述相邻关注区域中的每个都是所述列表内的条目；和生成所述列表的配置方案文件，其中所述相邻关注区域中的每个都使用高分辨率检查系统被顺序地检查。

Region of Concern Generation for Checking Integrated Circuits

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于检查集成电路的关注区域生成
本专利技术总体涉及检查在晶片上制作的集成电路，并且更具体地涉及生成用于检查集成电路的关注区域。
技术介绍
微芯片器件的制造是在诸如晶片的衬底上执行的多步骤工艺。通常在晶片上制造多个集成电路(IC)。每个IC被称为“DIE”或管芯。“DIE”检查是制造过程的一个步骤。检查系统可以检测在制造过程期间发生的缺陷。光学晶片检查系统通常已用于晶片和/或“DIE”检查。
技术实现思路
本文披露了用于生成用于检查集成电路的关注区域的方法和系统的方面、特征、元件和实施方式。在第一方面中，提供了一种用于检查集成电路的方法，所述方法包括：生成每个都包括至少一个潜在缺陷的关注区域；基于第一组空间关系来组织所生成的所述关注区域，以提供相邻关注区域的列表，其中所述相邻关注区域中的每个都是所述列表内的条目；和生成所述列表的配置方案文件，其中所述相邻关注区域中的每个都使用高分辨率检查系统被顺序地检查。可选地，生成每个都包括至少一个潜在缺陷的关注区域的步骤包括：生成潜在缺陷；确定所述潜在缺陷之间的第二组空间关系；和使用所述第二组空间关系在帧内对所述潜在缺陷进行分组，其中所述帧中的每个都对应于所生成的所述关注区域中的一个关注区域。可选地，基于第一组空间关系组织来关注区域以提供相邻关注区域的列表的步骤包括：确定所生成的所述关注区域之间的第一组空间关系；使用所述第一组空间关系在视场内对所生成的所述关注区域进行分组，其中每个视场都包括所生成的所述关注区域中的至少一个关注区域；和对所述视场进行排序以提供相邻关注区域的列表。可选地，使用所述第二组空间关系在帧内对所述潜在缺陷进行分组的步骤包括：使用所述第二组空间关系来确定使得所述帧的总面积最小化的所述帧的尺寸。可选地，使用所述第一组空间关系在视场内对所生成的所述关注区域进行分组包括：使用第一组空间关系来确定包括所生成的所述关注区域的视场的最小数量。可选地，在每个视场内所生成的所述关注区域被连续地写入到所述配置方案文件中。可选地，所述方法还包括：确定所述视场之间的第三组空间关系；和使用所述第三组空间关系确定所述视场之间的路径，其中所述路径最小化所述高分辨率检查系统的台移动。可选地，确定所述视场之间的路径的步骤包括：在每对视场之间分配相应的权重；和基于所述相应的权重来确定所述视场之间的最短距离。在第二方面中，提供了一种用于检查集成电路的系统，所述系统包括：处理器、和联接到所述处理器的存储器。存储器包括指令，所述指令可由所述处理器执行以：生成每个都包括至少一个潜在缺陷的关注区域；基于第一组空间关系来组织所生成的所述关注区域，以提供相邻关注区域的列表，其中所述相邻关注区域中的每个都是所述列表内的条目；和生成所述列表的配置方案文件，其中所述相邻关注区域中的每个都使用高分辨率检查系统被顺序地检查。可选地，生成每个都包括至少一个潜在缺陷的关注区域的步骤包括：生成潜在缺陷；确定所述潜在缺陷之间的第二组空间关系；和使用所述第二组空间关系在帧内对所述潜在缺陷进行分组，其中所述帧中的每个都对应于所生成的所述关注区域中的一个关注区域。可选地，基于第一组空间关系组织关注区域以提供相邻关注区域的列表的步骤包括：确定所生成的所述关注区域之间的第一组空间关系；使用所述第一组空间关系在视场内对所生成的所述关注区域进行分组，其中每个视场都包括所生成的所述关注区域中的至少一个关注区域；和对所述视场进行排序以提供相邻关注区域的列表。可选地，使用所述第二组空间关系在帧内对上述潜在缺陷分组的步骤包括：使用所述第二组空间关系来确定使得所述帧的总面积最小化的所述帧的尺寸。可选地，使用所述第一组空间关系在视场内对生成的所述关注区域进行分组包括：使用第一组空间关系来确定包括所生成的所述关注区域的视场的最小数量。可选地，在每个视场内的所生成的所述关注区域中的至少一个关注区域被连续地写入到所述配置方案文件中。在第三方面中，提供了一种用于检查集成电路的非暂时性计算机可读存储介质，所述非暂时性计算机可读存储介质包括可执行指令，所述可执行指令当由所述处理器执行时促成下述操作的执行，所述操作包括：生成每个都包括至少一个潜在缺陷的关注区域；基于第一组空间关系来组织所生成的所述关注区域，以提供相邻关注区域的列表，其中所述相邻关注区域中的每个都是所述列表内的条目；和生成所述列表的配置方案文件，其中所述相邻关注区域中的每个都使用高分辨率检查系统被顺序地检查。可选地，用于生成每个都包括至少一个潜在缺陷的关注区域的所述操作包括：生成潜在缺陷；确定所述潜在缺陷之间的第二组空间关系；和使用所述第二组空间关系在帧内对所述潜在缺陷进行分组，其中所述帧中的每个都对应于所生成的所述关注区域中的一个关注区域。可选地，用于使用所述第二组空间关系在帧内对所述潜在缺陷进行分组的所述操作包括：使用所述第二组空间关系来确定使得所述帧的总面积最小化的所述帧的尺寸。可选地，用于基于第一组空间关系组织关注区域以提供相邻关注区域的列表的操作包括：确定所生成的所述关注区域之间的第一组空间关系；使用所述第一组空间关系在视场内对所生成的所述关注区域进行分组，其中每个视场都包括所生成的所述关注区域中的至少一个关注区域；和对所述视场进行排序以提供相邻关注区域的列表。可选地，用于使用所述第一组空间关系在视场内对所生成的关注区域进行分组的操作包括：使用第一组空间关系来确定包括所生成的关注区域的视场的最小数量。可选地，在每个视场内的所生成的所述关注区域中的至少一个关注区域被连续地写入所述配置方案文件中。本公开的这些和其它方面在以下详细描述、所附权利要求书和附图中公开。附图说明当结合附图阅读时，从以下详细描述中可以最佳地理解本公开。图1是根据本公开的实施方式的用于生成和优化关注区域的示例性系统的框图。图2是根据本公开的实施方式的用于缺陷检查的操作的示例。图3是根据本公开的实施方式的用于生成关注区域的技术的示例。图4A-4B是根据本公开的实施方式的用于确定关注区域和关注区域尺寸的技术的示例。图5A-5B是根据本公开的实施方式的用于布置关注区域和视场的技术的示例。图6A-6B是根据本公开的实施方式的用于确定视场之间的路径的技术的示例。图7是根据本公开的实施方式的用于确定视场之间的最短路径的技术的示例。图8是根据本公开的实施方式的用于优化所生成的关注区域以加速受引导的带电粒子束检查的技术的示例。图9是根据本公开的实施方式的用于最小化高分辨率检查系统的台移动的技术的示例。图10是根据本专利技术的实施方案的用于检查集成电路的方法。具体实施方式微芯片器件的制造不断地努力使更小尺寸的元件在目标晶片上实现更高密度的集成电路(IC)设计。晶片，也称为衬底，是用于制作集成电路的半导体材料的薄片。例如，在微芯片半导体制作中，对于逻辑电路和阵列(例如，鳍式场效应管(finFET)、动态随机存取存储器(DRAM)、3DNAND等)的特征，现在存在对10纳米(nm)分辨率和超过10纳米的分辨率的需求。制造集成电路(IC)的过程涉及几个阶段，包括设计阶段、制造阶段和检查阶段。在检查阶段期间，检查在制造阶段期间制造的IC的潜在缺陷。检查的结果能够用于改良或调整设计阶段、制造阶段、和检查阶段及其任意组合。检测这种器件中本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于检查集成电路的方法，所述方法包括：生成每个都包括至少一个潜在缺陷的关注区域；基于第一组空间关系来组织所生成的所述关注区域以提供相邻关注区域的列表，其中所述相邻关注区域中的每个都是所述列表内的条目；和生成所述列表的配置方案文件，其中所述相邻关注区域中的每个都使用高分辨率检查系统被顺序地检查。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.01.30 US 15/419,6501.一种用于检查集成电路的方法，所述方法包括：生成每个都包括至少一个潜在缺陷的关注区域；基于第一组空间关系来组织所生成的所述关注区域以提供相邻关注区域的列表，其中所述相邻关注区域中的每个都是所述列表内的条目；和生成所述列表的配置方案文件，其中所述相邻关注区域中的每个都使用高分辨率检查系统被顺序地检查。2.根据权利要求1所述的方法，其中，生成每个都包括至少一个潜在缺陷的关注区域的步骤包括：生成潜在缺陷；确定所述潜在缺陷之间的第二组空间关系；和使用所述第二组空间关系在帧内对所述潜在缺陷进行分组，其中所述帧中的每个都对应于所生成的所述关注区域中的一个关注区域。3.根据权利要求2所述的方法，其中，使用所述第二组空间关系在帧内对所述潜在缺陷进行分组的步骤包括：使用所述第二组空间关系来确定使得所述帧的总面积最小化的所述帧的尺寸。4.根据权利要求1所述的方法，其中，基于第一组空间关系来组织关注区域以提供相邻关注区域的列表的步骤包括：确定所生成的所述关注区域之间的第一组空间关系；使用所述第一组空间关系在视场内对所生成的所述关注区域进行分组，其中每个视场都包括所生成的所述关注区域中的至少一个关注区域；和对所述视场进行排序以提供相邻关注区域的列表。5.根据权利要求4所述的方法，其中，使用所述第一组空间关系在视场内对所生成的所述关注区域进行分组的步骤包括：使用第一组空间关系来确定包括所生成的所述关注区域的视场的最小数量。6.根据权利要求4所述的方法，其中，在每个视场内所生成的所述关注区域中的至少一个关注区域被连续地写入到所述配置方案文件中。7.根据权利要求4所述的方法，还包括：确定所述视场之间的第三组空间关系；和使用所述第三组空间关系确定所述视场之间的路径，其中所述路径最小化所述高分辨率检查系统的台移动。8.根据权利要求7所述的方法，其中，确定所述视场之间的路径的步骤包括：在每对视场之间分配相应的权重；和基于所述相应的权重来确定所述视场之间的最短距离。9.一种用于检查集成电路的系统，所述系统包括：处理器；和联接到所述处理器的存储器，其中所述存储器包括指令，所述指令能够由所述处理器执行以：生成每个都包括至少一个潜在缺陷的关注区域；基于第一组空间关系来组织所生成的所述关注区域，以提供相邻关注区域的列表，其中所述相邻关注区域中的每个都是所述列表内的条目；和生成所述列表的配置方案文件，其中所述相邻关注区域中的每个都被使用高分辨率检查系统被顺序地检查。10.根据权利要求9所述的系统，其中，生成每个都包括至少一个潜在缺陷的关注区域的步骤包括：生成潜在缺陷；确定所述潜在缺陷之间的第二组空间关系；和使用所述第二组空间关系在帧内对所述潜在缺陷进行分组，其中所述帧中的每个都对应于所生成的所述关注区域中的一个关注...

【专利技术属性】
技术研发人员：林杰，张兆礼，
申请(专利权)人：东方晶源微电子科技北京有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11