X射线产生装置和X射线分析装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种X射线产生装置和X射线分析装置，其能够利用简单的结构来实现电子束尺寸小的聚焦X射线电子束。X射线产生装置具备：线状X射线源；多层膜镜；以及并排反射镜，其以2片凹面镜共用接合线的方式彼此接合，所述X射线产生装置的特征在于，多层膜镜的反射面的截面具有抛物线形状，并且该抛物线形状的焦点位于线状X射线源，并排反射镜的2片凹面镜的反射面的截面各自具有抛物线形状，并且该抛物线形状的焦点分别位于多层膜镜的相反侧，在俯视观察下，所述并排反射镜的接合线的延长线贯穿多层膜镜以及线状X射线源。

X-ray Generator and X-ray Analysis Device

【技术实现步骤摘要】
X射线产生装置和X射线分析装置
本专利技术涉及一种X射线产生装置和X射线分析装置，尤其涉及一种提供聚焦X射线电子束的技术。
技术介绍
目前，正在使用能够使电子束尺寸小的聚焦X射线电子束照射到所期望的位置(例如供试料配置的位置)的X射线产生装置。日本特表2015-520384号公报公开了一种双模式散射或衍射系统。如日本特表2015-520384号公报的图3A所记载的那样，放射线源214为射线放射源，来自放射线源214的X射线电子束通过光圈236的第2开口，与KB光学系统的第1表面222以及第2表面224双方彼此作用，例如形成了成为点电子束的2维电子束232。日本特表2015-522809号公报的图1中记载了2维动作模式下的双模式小角X射线散射系统。日本特开2008-96180号公报中公开了一种使用聚毛细管36可获得点状X射线电子束的X射线光学系统。在该X射线光学系统中，可实现获得截面聚焦为点状的聚焦电子束的第3状态。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特表2015-520384号公报专利文献2：日本特表2015-522809号公报专利文献3：日本特开2008-96180号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题一直以来，在X射线衍射测定中，根据分辨率与试料尺寸的平衡，可广泛使用线状X射线源。在日本特表2015-520384号公报以及特表2015-522809号公报所公开的双模式散射或衍射系统中，包含因上述的理由而广泛使用的线状X射线源(放射线源214)，但是，为了形成聚焦X射线电子束(2维电子束)，来自放射线源214的X射线电子束例如会因作为正方形孔的第2开口而受到局限地选择(缩选)，因此即使让通过了第2开口的X射线电子束聚焦，也无法实现高亮度的聚焦X射线电子束。由于在日本特开2008-96180号公报中所公开的X射线光学系统中使用聚毛细管36以实现聚焦X射线电子束，因此X射线电子束的发散角大，进而会导致X射线衍射测定中的分辨率的降低。用于解决课题的手段本专利技术是鉴于上述课题而完成的，其目的在于提供一种利用简单的结构便能够实现电子束尺寸小且发散角小的聚焦X射线电子束的X射线产生装置、以及X射线分析装置。(1)为了解决上述课题，本专利技术所涉及的X射线产生装置具备：线状X射线源；多层膜镜；并排反射镜，其以2片凹面镜共用接合线的方式彼此接合，所述X射线产生装置的特征在于，所述多层膜镜的反射面的截面具有抛物线形状，并且该抛物线形状的焦点位于所述线状X射线源，所述并排反射镜的2片凹面镜的反射面的截面各自具有抛物线形状，并且该抛物线形状的焦点分别位于所述多层膜镜的相反侧。(2)上述(1)所述的X射线产生装置，也可以采用如下方式，即，在俯视观察下，所述并排反射镜的接合线的延长线贯穿多层膜镜以及线状X射线源。(3)上述(1)或(2)所述的X射线产生装置，也可以采用如下方式，即，所述线状X射线源、所述多层膜镜、所述并排彼此的相对位置被固定，还具备移动机构，其将所述线状X射线源、所述多层膜镜、所述并排设为一体，并且使其向与X射线电子束的光轴方向交叉的方向并排移动。(4)本专利技术所涉及的X射线分析装置也可具备：上述(1)至(3)中任一项所述的X射线产生装置；以及支承台，其用于支承配置成包含所述并排反射镜的2片凹面镜各自的焦点的的试料。(5)本专利技术所涉及的X射线分析装置也可具备：上述(1)至(3)中任一项所述的X射线产生装置；检测器，其配置成所述并排反射镜的2片凹面镜各自的焦点包含将检测面连结的线上的任意的点；和支承台，其用于支承配置成使所述并排反射镜所射出的X射线照射在所述并排反射镜与所述检测器之间的方式配置的试料。专利技术效果根据本专利技术，提供一种利用简单的结构便能够实现电子束尺寸小的聚焦X射线电子束的X射线产生装置和X射线分析装置。附图说明图1为表示本专利技术的实施方式所涉及的X射线分析装置的结构的示意图。图2为表示本专利技术的实施方式所涉及的X射线产生装置的结构的示意图。图3为表示本专利技术的实施方式所涉及的并排反射镜的截面图。图4A为表示本专利技术的实施方式所涉及的X射线产生装置的聚焦X射线的电子束尺寸的图。图4B为表示本专利技术的实施方式所涉及的X射线产生装置的聚焦X射线的电子束尺寸的图。图4C为表示配置缝的x轴方向上的位置的图。图5为表示本专利技术的实施方式所涉及的X射线分析装置的实验结果的图。具体实施方式以下，参照附图对本专利技术的实施方式进行说明。另外，为了使说明更明确，附图有时与实际的方式相比示意性地表示尺寸、形状等，但仅为一个示例，并不对本专利技术的解释进行限定。此外，在本说明书与各附图中，针对已有附图与前述要素相同的要素，有时会标注同一符号并适当省略详细的说明。图1为表示本专利技术的实施方式所涉及的X射线分析装置1的结构的示意图。在此，该实施方式所涉及的X射线分析装置1为X射线衍射测定装置(XRD)，但并不局限于此，既可以是小角X射线散射测定装置(SAXS)，而且也可以是其他的X射线分析装置。该实施方式所涉及的X射线分析装置1具备X射线源部11、CBO单元12、聚焦元件13、光圈14、准直仪15、对试料100进行支承的支承台16、2维检测器18、测角仪21、移动机构22。该实施方式所涉及的X射线产生装置2(未图示)包括X射线源部11、CBO单元12、聚焦元件13、光圈14、准直仪15、移动机构22。本说明书中，X射线产生装置设为：不仅包括射出X射线的X射线源部，还包括形成向试料照射的X射线电子束的X射线光学系统部。在此，X射线光学系统部包括CBO单元12、聚焦元件13、光圈14、准直仪15。另外，准直仪15并不是必要的，根据需要来使用即可。测角仪21为试料水平配置型θ-θ型测角仪。测角仪21能够在水平地保持被支承台16支承的试料100的状态下进行2θ扫描。通过水平地放置试料100，从而能够将因试料100的自重而导致的歪斜的影响降低到最小限度，进而能够抑制相对于试料100的落下的危险性。测角仪21具有以支承台16所支承的试料100为中心进行延伸的2条臂。将从聚焦元件13向试料100传播的X射线电子束的代表性方向作为x轴方向，将与x轴方向垂直的平面设为yz平面。在一条臂上，沿着x轴方向搭载有X射线源部11、CBO单元12、聚焦元件13、光圈14、准直仪15、移动机构22，另一条臂上搭载有2维检测器18。2条臂相对于试料100而彼此向相反的方向旋转θ，从而当相对于向试料100入射的X射线电子束，试料100旋转θ时，能够使2维检测器18旋转2θ。X射线源部11具备转动靶。通过向转动靶照射截面为线状的电子束，从而在转动靶表面产生X射线。通过与转动靶的旋转轴平行配置的缝窗，使转动靶上产生的X射线中的、透过缝窗的X射线向外部射出。可看作所涉及的X射线源部11具有线状X射线源11A。另外，(可看作)X射线源部11包含具有线状X射线源即可，并不局限于转动靶，例如也可以是封入管。CBO单元12(CBO：CrossBeamOptics，聚焦/平行自动切换光学透镜)在入射侧具备具有2条缝31A、31B(未图示)的缝板31(未图示)，而且还具备多层膜镜12A(未图示)。2条缝31A、31B中的、一条缝(31A)供直接电子束使用，另一条缝(31B)供通过多层膜镜12A而被单本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种X射线产生装置，具备：线状X射线源；多层膜镜；以及并排反射镜，其以2片凹面镜共用接合线的方式彼此接合，所述X射线产生装置的特征在于，所述多层膜镜的反射面的截面具有抛物线形状，并且该抛物线形状的焦点位于所述线状X射线源，所述并排反射镜的2片凹面镜的反射面的截面各自具有抛物线形状，并且该抛物线形状的焦点分别位于所述多层膜镜的相反侧。

【技术特征摘要】
2018.03.01 JP 2018-0362081.一种X射线产生装置，具备：线状X射线源；多层膜镜；以及并排反射镜，其以2片凹面镜共用接合线的方式彼此接合，所述X射线产生装置的特征在于，所述多层膜镜的反射面的截面具有抛物线形状，并且该抛物线形状的焦点位于所述线状X射线源，所述并排反射镜的2片凹面镜的反射面的截面各自具有抛物线形状，并且该抛物线形状的焦点分别位于所述多层膜镜的相反侧。2.根据权利要求1所述的X射线产生装置，其特征在于，在俯视观察下，所述并排反射镜的接合线的延长线贯穿多层膜镜以及线状X射线源。3.根据权利要求1所述的X射线产生装置，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：表和彦，刑部刚，小泽哲也，姜立才，鲍里斯·韦尔曼，
申请(专利权)人：株式会社理学，
类型：发明
国别省市：日本,JP