【技术实现步骤摘要】
X射线产生装置和X射线分析装置
本专利技术涉及一种X射线产生装置和X射线分析装置，尤其涉及一种提供聚焦X射线电子束的技术。
技术介绍
目前，正在使用能够使电子束尺寸小的聚焦X射线电子束照射到所期望的位置(例如供试料配置的位置)的X射线产生装置。日本特表2015-520384号公报公开了一种双模式散射或衍射系统。如日本特表2015-520384号公报的图3A所记载的那样，放射线源214为射线放射源，来自放射线源214的X射线电子束通过光圈236的第2开口，与KB光学系统的第1表面222以及第2表面224双方彼此作用，例如形成了成为点电子束的2维电子束232。日本特表2015-522809号公报的图1中记载了2维动作模式下的双模式小角X射线散射系统。日本特开2008-96180号公报中公开了一种使用聚毛细管36可获得点状X射线电子束的X射线光学系统。在该X射线光学系统中，可实现获得截面聚焦为点状的聚焦电子束的第3状态。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特表2015-520384号公报专利文献2：日本特表2015-522809号公报专利文献3：日本特开2008-961...
【技术保护点】
1.一种X射线产生装置，具备：线状X射线源；多层膜镜；以及并排反射镜，其以2片凹面镜共用接合线的方式彼此接合，所述X射线产生装置的特征在于，所述多层膜镜的反射面的截面具有抛物线形状，并且该抛物线形状的焦点位于所述线状X射线源，所述并排反射镜的2片凹面镜的反射面的截面各自具有抛物线形状，并且该抛物线形状的焦点分别位于所述多层膜镜的相反侧。
【技术特征摘要】
2018.03.01 JP 2018-0362081.一种X射线产生装置，具备：线状X射线源；多层膜镜；以及并排反射镜，其以2片凹面镜共用接合线的方式彼此接合，所述X射线产生装置的特征在于，所述多层膜镜的反射面的截面具有抛物线形状，并且该抛物线形状的焦点位于所述线状X射线源，所述并排反射镜的2片凹面镜的反射面的截面各自具有抛物线形状，并且该抛物线形状的焦点分别位于所述多层膜镜的相反侧。2.根据权利要求1所述的X射线产生装置，其特征在于，在俯视观察下，所述并排反射镜的接合线的延长线贯穿多层膜镜以及线状X射线源。3.根据权利要求1所述的X射线产生装置，其特征在于，...
【专利技术属性】
技术研发人员：表和彦，刑部刚，小泽哲也，姜立才，鲍里斯·韦尔曼，
申请(专利权)人：株式会社理学，
类型：发明
国别省市：日本,JP
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