【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于化学气相沉积(CVD)反应器的处理室以及在该室中执行的热化方法
本专利技术涉及一种用于化学气相沉积(CVD)反应器的处理室。本专利技术还包括在该室中实施的热化方法。领域更具体地是CVD反应器中的气体分配系统的热调节以及这种反应器中的热传递的优化。
技术介绍
CVD型沉积在局部真空状态下在反应器中进行。在这些反应器的一些反应器中，反应性物质(例如反应物和前体)通过通常被称为喷头的室(room)喷射到处理室中，该喷头面向待处理的基板并且包括多个通道以将反应性物质均匀喷射到基板上方的空间中。例如，文献WO2009/0136019描述了这种具有喷射喷淋器(injectionshower)的反应器，该喷射喷淋器包括两组不同的通道，以分别喷射反应性物质。这些类型的配备有喷射喷淋器的反应器能够用于实施CVD型沉积技术。例如文献WO2015/140261中所述，它们还能够用于实施脉冲CVD技术。在这种情况下，使用具有两个不同通道组的喷淋器，并且以相移脉冲来喷射反应性物质。这例如允许以高度的一致性(即在图案的所有侧面上都具有高的厚度均匀性)，以高生长速率形成沉积物。这些喷头是必...
【技术保护点】
1.一种用于化学气相沉积(CVD)反应器(R)的处理室(C)，包括：系统(3)，所述系统(3)在限定局部真空封腔(E)的主体(B)内，所述系统(3)用于喷射反应性物质以便沉积在被放置于支撑元件(5)上的基板(8)上；和热控制系统(2)，所述热控制系统(2)用于控制所述喷射系统(3)的温度或者使所述喷射系统(3)的温度维持基本恒定，所述热控制系统(2)具有与所述喷射系统(3)的界面区域(ZI)，其特征在于，所述处理室还在所述界面区域(ZI)中包括至少一个热传递区域(ZT)，所述热传递区域(i)通过将压力和污染物质的扩散隔离的隔离屏障而与处于局部真空下的所述封腔(E)隔离，并且...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.01.16 FR 17503161.一种用于化学气相沉积(CVD)反应器(R)的处理室(C)，包括：系统(3)，所述系统(3)在限定局部真空封腔(E)的主体(B)内，所述系统(3)用于喷射反应性物质以便沉积在被放置于支撑元件(5)上的基板(8)上；和热控制系统(2)，所述热控制系统(2)用于控制所述喷射系统(3)的温度或者使所述喷射系统(3)的温度维持基本恒定，所述热控制系统(2)具有与所述喷射系统(3)的界面区域(ZI)，其特征在于，所述处理室还在所述界面区域(ZI)中包括至少一个热传递区域(ZT)，所述热传递区域(i)通过将压力和污染物质的扩散隔离的隔离屏障而与处于局部真空下的所述封腔(E)隔离，并且(ii)填充有热界面材料(10)。2.根据权利要求1所述的室(C)，其特征在于，所述热界面材料具有低热阻系数。3.根据权利要求1或2中的一项所述的室(C)，其特征在于，所述热界面材料具有等于或大于空气的热导率的热导率。4.根据权利要求1所述的室(C)，其特征在于，热调节系统(2)是所述反应器(R)的盖子(L)的一体部分，所述盖子(L)设置有用于使反应性物质进入的入口孔口(1)。5.根据权利要求4所述的室(C)，其特征在于，所述喷射系统(3)经由所述界面区域(ZI)和所述热调节系统(2)而与所述盖子(L)成一体，从而能够通过移除所述盖子而接触所述喷射系统(3)。6.根据前述权利要求中的任一项所述的室(C)，其特征在于，所述处理室包括由至少两个互锁的隔离屏障界定的热传递区域。7.根据权利要求6所述的室(C)，其特征在于，如此界定的所述热传递区域是环形区域。8.根据前述权利要求中的任一项所述的室(C)，其特征在于，所述处理室包括分布在所述界面区域中的数个热传递区域，并且每个热传递区域均由隔离屏障界定。9.根据权利要求6至8中的一项所述的室，其特征在于，所述隔离屏障被布置成围绕所述热传递区域(ZT)提供一个或多个密封区域，以允许在所述局部真空封腔(E)和所述热传递区域(ZT)之间施加不同的压力。10.根据权利要求6至9中的一项所述的室，其特征在于，所述隔离屏障包括一排或多排密封件，所述一排或多排密封件被布置成将大气压力的所述热传递区域(ZT)与所述局部真空封腔(E)隔开。11.根据前述权利要求中的任一项所述的室(C)，其特征在于，所述热控制系统(2)...
【专利技术属性】
技术研发人员：帕特里斯·纳尔，克里斯托弗·博雷安，
申请(专利权)人：库伯斯股份有限公司，
类型：发明
国别省市：法国,FR
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