一种电池片的处理系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种电池片的处理系统，包括容器、支架、检测装置和腐蚀液，所述容器用于盛放腐蚀液，所述支架设置在所述容器内，所述支架用于承载电池片，且使所述电池片的绕镀端浸入所述腐蚀液；所述检测装置用于检测所述电池片的绕镀端浸入所述腐蚀液的深度。电池参数不良的电池片通过该处理系统，能够成功去除电池片边缘绕镀引起的漏电区域，且不会造成电池片本身的外观不良问题。

A Battery Disposal System

【技术实现步骤摘要】
一种电池片的处理系统
本技术涉及太阳能电池
，特别是指一种电池片的处理系统。
技术介绍
SHJ电池片(SiliconHetero-junctionSolarCell，硅异质结太阳能电池片，简称异质结电池片)的基本结构如图1所示，包含单晶硅片1a、本征非晶硅基薄膜层2a、n型掺杂层3a、p型发射极4a、透明导电薄膜层5a和电极栅线6a(通常包括主栅线和细栅线)。其中，单晶硅片1a可以是n型或者p型单晶硅片，厚度为90-300μm；本征非晶硅基薄膜层2a，如非晶硅本征层a-Si:H(i)，非晶硅氧本征层a-SiOx:H(i)，非晶硅碳本征层a-SiCx:H(i)等，厚度<15nm；n型掺杂层3a，如n型非晶硅层a-Si:H(n)，n型非晶硅氧层a-SiOx:H(n)，n型微晶硅氧层μc-SiOx:H(n)等，厚度<25nm；p型掺杂层4a，如p型非晶硅层a-Si:H(p)，p型微晶硅层μc-SiOx:H(p)，p型微晶硅氧层μc-SiOx:H(p)等，厚度<25nm；可选的，3a和4a的位置可以置换。即：如果3a为p型掺杂层，则4a为n型掺杂层；透明导电薄膜层5a本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电池片的处理系统，其特征在于，包括容器、支架、检测装置和腐蚀液，所述容器用于盛放腐蚀液，所述支架设置在所述容器内，所述支架用于承载电池片，且使所述电池片的绕镀端浸入所述腐蚀液；所述检测装置用于检测所述电池片的绕镀端浸入所述腐蚀液的深度。

【技术特征摘要】
1.一种电池片的处理系统，其特征在于，包括容器、支架、检测装置和腐蚀液，所述容器用于盛放腐蚀液，所述支架设置在所述容器内，所述支架用于承载电池片，且使所述电池片的绕镀端浸入所述腐蚀液；所述检测装置用于检测所述电池片的绕镀端浸入所述腐蚀液的深度。2.根据权利要求1所述的电池片的处理系统，其特征在于，所述支架包括立板、侧立板和多个隔离板，两个所述侧立板的相对面上均对应设有等间距排列的隔离板，相邻所述隔离板之间形成齿槽，所述电池片同时与两个相对的所述齿槽插接。3.根据权利要求2所述的电池片的处理系统，其特征在于，所述隔离板远离所述侧立板的一侧设置有倒角。4.根据权利要求1所述的电池片的处理系统，其特征在于，沿所述电池片的边缘设置一周...

【专利技术属性】
技术研发人员：郁操，刘春梅，
申请(专利权)人：君泰创新北京科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11