一种双排离子刻蚀微调机构及离子刻蚀设备制造技术

本实用新型专利技术涉及离子刻蚀技术领域，具体是一种双排离子刻蚀微调机构及离子刻蚀设备，双排离子刻蚀微调机构包括双排测试头、双排测试探针、离子枪、双排挡板机构、工件托盘和双排石墨分流板，双排挡板机构上位于离子枪的上方设置有双排石墨分流板，离子枪的底部设置有氩离子进口，双排挡板机构的上方设置有工件托盘，工件托盘的上方设置有双排测试头，双排测试头的下方设置有双排测试探针，双排测试头与测量系统电性连接进行信号传输，本实用新型专利技术，在原有基础增加一倍挡板数量，能刻蚀和测量双排晶振，很大提高了测试系统的利用率，使测试效率提高了一倍，使得离子枪使用效率大幅度提高，生产效率比原有基础大大提高。

A Double-row Ion Etching Fine-tuning Mechanism and Ion Etching Equipment

【技术实现步骤摘要】
一种双排离子刻蚀微调机构及离子刻蚀设备
本技术涉及离子刻蚀
，具体是一种双排离子刻蚀微调机构及离子刻蚀设备。
技术介绍
现有的离子刻蚀微调系统，如图1～3所示，包括单排挡板机构1、传动机构2、微调挡板3、单排石墨分流板4、单排挡板传动轴承5、氩离子6、单排测试探针8和工件托盘13，单排挡板机构1的中部下方设置有离子枪11，离子枪11设置有氩离子进口12，单排挡板机构1的上方设置有工件托盘13，工件托盘13的上方设置有测试头7，测试头7的下方设置有单排测试探针8，单排挡板机构1位于离子枪11的正上方设置有单排石墨分流板4，单排挡板机构1与单排石墨分流板4之间设置有微调挡板3，微调挡板3和传动机构2传动连接，传动机构2设置于单排挡板传动轴承5上方，单排挡板机构1的两侧设置有单排挡板传动轴承5，单排挡板传动轴承5与单排挡板机构1底部设置的单排挡板电机10驱动连接，工件依次单排摆放到工件托盘13上，通过传送机构传送至离子枪11正上方，氩离子6从氩离子进口12处进入离子枪11中，离子枪11使氩离子6加速，加速后的氩离子6经过单排石墨分流板4被分成单排离子束9。现有机构正常工作只能刻蚀、测本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种双排离子刻蚀微调机构，包括双排测试头（21）、双排测试探针（22）、离子枪（11）、双排挡板机构（14）、工件托盘（13）和双排石墨分流板（25），所述离子枪（11）设置于双排挡板机构（14）的中部下方，其特征在于，所述双排挡板机构（14）上位于离子枪（11）的上方设置有双排石墨分流板（25），所述离子枪（11）的底部设置有氩离子进口（12），所述双排挡板机构（14）的上方设置有工件托盘（13）。

【技术特征摘要】
1.一种双排离子刻蚀微调机构，包括双排测试头（21）、双排测试探针（22）、离子枪（11）、双排挡板机构（14）、工件托盘（13）和双排石墨分流板（25），所述离子枪（11）设置于双排挡板机构（14）的中部下方，其特征在于，所述双排挡板机构（14）上位于离子枪（11）的上方设置有双排石墨分流板（25），所述离子枪（11）的底部设置有氩离子进口（12），所述双排挡板机构（14）的上方设置有工件托盘（13）。2.根据权利要求1所述的双排离子刻蚀微调机构，其特征在于，所述双排挡板机构（14）包括双排挡板基座（15），所述双排挡板基座（15）和双排石墨分流板（25）之间安装有挡板挡片（17），所述双排挡板基座（15）下方安装有双排挡板电机（24），所述双排挡板电机（24）与设置在双排挡板基座（15）两侧的双排挡...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖占武，
申请(专利权)人：北京精恒工控科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11