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本实用新型涉及离子刻蚀技术领域，具体是一种双排离子刻蚀微调机构及离子刻蚀设备，双排离子刻蚀微调机构包括双排测试头、双排测试探针、离子枪、双排挡板机构、工件托盘和双排石墨分流板，双排挡板机构上位于离子枪的上方设置有双排石墨分流板，离子枪的底部...
该专利属于北京精恒工控科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京精恒工控科技有限公司授权不得商用。

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