晶圆旋转装置及晶圆抛光设备制造方法及图纸

本申请提供了一种晶圆旋转装置及晶圆抛光设备，包括：主动机构，主动机构包括主动内旋转部、主动外旋转部和主动电机，主动内旋转部的第一端设有能够抵接晶圆的抵接部，主动内旋转部的第二端中空并嵌入与其同轴的内磁体，主动外旋转部套设于主动内旋转部的第二端侧面，主动外旋转部与柱形磁铁相对应的位置设置有外磁体，主动电机能够带动主动外旋转部旋转，并在内磁体和外磁体的相互作用下，带动主动外旋转部旋转，进而带动晶圆旋转。本申请通过电机驱动主动外旋转部，通过内磁体和外磁体的相互作用将动力传递给主动内旋转部，实现主动内旋转部带动晶圆旋转的效果，装配要求低，能够降低晶圆转速防止清洗槽内的液体因摩擦而升温。

Wafer Rotating Device and Wafer Polishing Equipment

【技术实现步骤摘要】
晶圆旋转装置及晶圆抛光设备
本申请涉及化学机械抛光设备
，尤其是涉及一种晶圆旋转装置及晶圆抛光设备。
技术介绍
典型的CMP后清洗制程包括兆声清洗、刷洗、旋转干燥等，兆声清洗作为其中关键一环，其清洗效果的好坏影响最终的晶圆清洗效果。兆声清洗是由高能频振效应并结合化学清洗剂的化学反应对晶圆表面进行清洗，在清洗时由换能器发出高能声波。溶液分子在这种声波的推动下以高速连续冲击晶圆表面，使得晶圆表面附着的污染物和细小微粒被强制除去。在此过程中，为了使晶圆表面清洗均匀以及清洗效果的一致性，晶圆需匀速旋转，并保证清洗槽内液体的温度稳定。现有技术中，采用的使晶圆旋转的主动机构通常采用，电机、皮带和带轮的传动方式进行传动，并增加皮带压紧装置；正因如此，在现有技术中，电机、皮带和带轮传动组件，有可能出现打滑的情况，而加装压紧装置的装配要求较高，并且在实际应用中，不能有效降低晶圆转速，使得清洗槽内的液体因摩擦而升温。
技术实现思路
有鉴于此，本申请的目的在于提供一种晶圆旋转装置及晶圆抛光设备，用于解决现有技术中传动组件装配要求高、清洗槽内的液体因摩擦而升温的问题。第一方面，本申请实施例提供了一种晶圆旋转装置，包括用于驱动晶圆旋转的主动机构：所述主动机构包括主动内旋转部、主动外旋转部和主动电机，所述主动内旋转部的第一端设有用于抵接晶圆的抵接部，所述主动内旋转部的第二端的内部为中空的并嵌入内磁体，所述主动外旋转部套设于所述主动内旋转部的第二端的外侧部并与所述主动电机固定连接，在所述主动外旋转部的内侧部的与所述内磁体对应的位置处设置有外磁体，随着所述主动电机旋转，所述主动外旋转部同步旋转，并在所述内磁体和所述外磁体的相互作用下，所述主动内旋转部旋转，进而通过所述抵接部驱动所述晶圆旋转。优选地，所述主动内旋转部的第二端的外侧部固定地套设主动内旋转部罩，所述主动内旋转部罩封闭所述主动内旋转部的第二端，所述主动内旋转部罩还形成有从所述主动内旋转部罩的外侧部沿第一方向延伸的限位板，用于与所述主动外旋转部配合以限制所述主动内旋转部在与所述第一方向垂直的第二方向上的位置。优选地，所述主动外旋转部包括主动外旋转部罩，所述主动外旋转部罩的第一端形成有沿所述第一方向延伸的限位板，用于与所述主动内旋转部罩的限位板相配合，所述主动外旋转部罩以间隙配合的方式套设于所述主动内旋转部的第二端的外侧部。优选地，所述主动外旋转部还包括联轴器，所述联轴器固定地套设于所述主动外旋转部罩的外侧部，所述联轴器的第一端与所述主动外旋转部罩的限位板相抵接，所述联轴器的第二端与所述主动电机固定连接。优选地，还包括从动机构，所述从动机构包括从动内旋转部和固定部，所述从动内旋转部的第一端设有用于抵接晶圆的抵接部，所述从动内旋转部的抵接部与所述主动内旋转部的抵接部处于同一预定平面上，所述固定部以间隙配合的方式套设于所述从动内旋转部的第二端的外侧部，所述固定部的第二端固定安装于预定位置，所述从动内旋转部能够抵接所述晶圆并在所述晶圆的带动下旋转；所述从动内旋转部的第二端的外侧部固定地套设从动内旋转部罩，所述从动内旋转部罩的第一端形成有沿第一方向延伸的限位板，用于与所述固定部的第一端相配合从而限制所述从动内旋转部在与所述第一方向垂直的第二方向上的位置。优选地，所述固定部包括固定部罩和外壳，所述固定部罩的第一端形成有沿所述第一方向延伸的限位板，用于与所述从动内旋转部罩的限位板、所述外壳的第一端相抵接，所述外壳固定地套设于所述固定部罩的第二端的外侧部，所述外壳的第二端固定安装于所述预定位置。优选地，所述主动机构的数量至少为两个。优选地，所述主动内旋转部、所述主动内旋转部罩和所述主动外旋转部罩均采用非磁性材料形成，所述主动内旋转部的抵接部采用弹性材料形成并形成有环形凹槽，所述环形凹槽用于抵接晶圆，所述环形凹槽的所述第二方向上的宽度从所述抵接部的外侧向内侧递减。优选地，所述从动内旋转部的抵接部采用弹性材料形成并形成有环形凹槽，所述环形凹槽用于抵接晶圆，所述环形凹槽的所述第二方向上的宽度从所述抵接部的外侧向内侧递减。第二方面本申请实施例提供一种晶圆抛光设备，包括如上述的晶圆旋转装置。根据本申请提供的晶圆旋转装置及晶圆抛光设备，通过电机驱动主动外旋转部，通过内磁体和外磁体的相互作用将动力传递给主动内旋转部，实现主动内旋转部带动晶圆旋转的效果，装配要求低，能够降低晶圆转速防止清洗槽内的液体因摩擦而升温。为使本申请的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1示出了本申请实施例所提供的晶圆旋转装置的装配示意图；图2示出了本申请实施例所提供的第一主动机构的结构示意图；图3示出了本申请实施例所提供的第二主动机构的结构示意图；图4示出了本申请实施例所提供的第一主动机构的剖视示意图；图5示出了本申请实施例所提供的第二主动机构的剖视示意图。附图标记：1-第一主动机构，11-第一主动内旋转部，111-第一内磁体，112-第一抵接部，1121-第一环形凹槽，12-第一主动内旋转部罩，13-第一主动外旋转部，131-第一主动外旋转部罩，1311-第一外磁体，132-第一联轴器，14-第一主动电机；2-第二主动机构，21-第二主动内旋转部，211-第二内磁体，212-第二抵接部，2121-第二环形凹槽，22-第二主动内旋转部罩，23-第二主动外旋转部，231-第二主动外旋转部罩，2311-第二外磁体，232-第二联轴器，24-第二主动电机；3-从动机构，4-晶圆。具体实施方式下面将结合附图对本申请的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。在本申请的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本申请要求的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶圆旋转装置，其特征在于，包括用于驱动晶圆旋转的主动机构，所述主动机构包括主动内旋转部、主动外旋转部和主动电机，所述主动内旋转部的第一端设有用于抵接晶圆的抵接部，所述主动内旋转部的第二端的内部为中空的并嵌入内磁体，所述主动外旋转部套设于所述主动内旋转部的第二端的外侧部并与所述主动电机固定连接，在所述主动外旋转部的内侧部的与所述内磁体对应的位置处设置有外磁体，随着所述主动电机旋转，所述主动外旋转部同步旋转，并在所述内磁体和所述外磁体的相互作用下，所述主动内旋转部旋转，进而通过所述抵接部驱动所述晶圆旋转。

【技术特征摘要】
1.一种晶圆旋转装置，其特征在于，包括用于驱动晶圆旋转的主动机构，所述主动机构包括主动内旋转部、主动外旋转部和主动电机，所述主动内旋转部的第一端设有用于抵接晶圆的抵接部，所述主动内旋转部的第二端的内部为中空的并嵌入内磁体，所述主动外旋转部套设于所述主动内旋转部的第二端的外侧部并与所述主动电机固定连接，在所述主动外旋转部的内侧部的与所述内磁体对应的位置处设置有外磁体，随着所述主动电机旋转，所述主动外旋转部同步旋转，并在所述内磁体和所述外磁体的相互作用下，所述主动内旋转部旋转，进而通过所述抵接部驱动所述晶圆旋转。2.根据权利要求1所述的晶圆旋转装置，其特征在于，所述主动内旋转部的第二端的外侧部固定地套设主动内旋转部罩，所述主动内旋转部罩封闭所述主动内旋转部的第二端，所述主动内旋转部罩还形成有从所述主动内旋转部罩的外侧部沿第一方向延伸的限位板，用于与所述主动外旋转部配合以限制所述主动内旋转部在与所述第一方向垂直的第二方向上的位置。3.根据权利要求2所述的晶圆旋转装置，其特征在于，所述主动外旋转部包括主动外旋转部罩，所述主动外旋转部罩的第一端形成有沿所述第一方向延伸的限位板，用于与所述主动内旋转部罩的限位板相配合，所述主动外旋转部罩以间隙配合的方式套设于所述主动内旋转部的第二端的外侧部。4.根据权利要求3所述的晶圆旋转装置，其特征在于，所述主动外旋转部还包括联轴器，所述联轴器固定地套设于所述主动外旋转部罩的外侧部，所述联轴器的第一端与所述主动外旋转部罩的限位板相抵接，所述联轴器的第二端与所述主动电机固定连接。5.根据权利要求1所述的晶圆旋转装置，其特征在于，还包括从动机构，所述从动机构包括从动内旋转部和固定部，...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊朋，费玖海，李婷，
申请(专利权)人：北京半导体专用设备研究所中国电子科技集团公司第四十五研究所，
类型：发明
国别省市：北京,11