一种精抛棉制造技术

本实用新型专利技术涉及磨具技术领域，尤其是指一种精抛棉，其包括依次复合的海绵层、基布层、胶层和研磨层，所述研磨层包括设于胶层上的多个用于研磨抛光的主研磨单元和多个用于协助主研磨单元进行研磨抛光的辅研磨单元，所述主研磨单元呈锥形，所述主研磨单元的尖端设于远离胶层的一侧，所述主研磨单元远离胶层的端部高于所述辅研磨单元远离胶层的端部，具有对产品表面进行研磨抛光处理的功能，且磨料磨损小，研磨抛光效果好。

A Fine Throwing Cotton

【技术实现步骤摘要】
一种精抛棉
本技术涉及磨具
，尤其是指一种精抛棉。
技术介绍
目前，国内大多数玻璃、陶瓷等加工企业都是采用传统的游离磨料研磨工艺，即在冷却水中加入游离磨料进行研磨，这种研磨方式存在稳定性差、切削效率低、加工产品良品率低以及后续加工工序难处理等问题。为了解决上述技术难题，现有技术通过将磨料和结合剂涂覆于无纺布上制成研磨垫，但是采用现有的研磨垫进行研磨时，研磨垫上的磨料消耗速度快，使磨料磨损变钝，研磨后的产品表面存在较多的划痕，研磨抛光效果较差。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种精抛棉，具有对产品表面进行研磨抛光处理的功能，且磨料消耗速度慢，研磨抛光效果好。为了解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案：一种精抛棉，其包括依次复合的海绵层、基布层、胶层和研磨层，所述研磨层包括设于胶层上的多个用于研磨抛光的主研磨单元和多个用于协助主研磨单元进行研磨抛光的辅研磨单元，所述主研磨单元呈锥形，所述主研磨单元的尖端设于远离胶层的一侧，所述主研磨单元远离胶层的端部高于所述辅研磨单元远离胶层的端部。进一步地，所述基布层由经线和纬线交织而成，所述经线包括设于纬线上方的多个施胶部，所述胶层设本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种精抛棉，其特征在于：包括依次复合的海绵层、基布层、胶层和研磨层，所述研磨层包括设于胶层上的多个用于研磨抛光的主研磨单元和多个用于协助主研磨单元进行研磨抛光的辅研磨单元，所述主研磨单元呈锥形，所述主研磨单元的尖端设于远离胶层的一侧，所述主研磨单元远离胶层的端部高于所述辅研磨单元远离胶层的端部。

【技术特征摘要】
1.一种精抛棉，其特征在于：包括依次复合的海绵层、基布层、胶层和研磨层，所述研磨层包括设于胶层上的多个用于研磨抛光的主研磨单元和多个用于协助主研磨单元进行研磨抛光的辅研磨单元，所述主研磨单元呈锥形，所述主研磨单元的尖端设于远离胶层的一侧，所述主研磨单元远离胶层的端部高于所述辅研磨单元远离胶层的端部。2.根据权利要求1所述的一种精抛棉，其特征在于：所述基布层由经线和纬线交织而成，所述经线包括设于纬线上方的多个施胶部，所述胶层设于施胶部上。3.根据权利要求1所述的一种精抛棉，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：卞振伟，方红，刘宜彪，
申请(专利权)人：东莞金太阳研磨股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44