对象体研磨装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种对象体研磨装置。所述对象体研磨装置包括：工作台，其能够移动且能够用于配置对象体；研磨单元，其可旋转地位于工作台上，具有外壳部、设置于外壳部内且利用至少一个永磁铁向供应到对象体上的磁流变流体施加磁场以排列磁流变流体的磁场发生部及与磁场发生部相邻且利用电磁铁将永磁铁的磁场限制在外壳部内部的磁场限制部；磁流变流体供应部，其能够向对象体上供应磁流变流体；以及研磨液供应部，其向磁流变流体与对象体之间供应研磨用研磨液。因此，能够将大面积的对象体整体研磨均匀。

Object grinding device

【技术实现步骤摘要】
对象体研磨装置
本技术的实施例涉及对象体研磨装置。更具体来讲，涉及一种能够利用磁流变流体研磨对象体的边缘或表面的对象体研磨装置。
技术介绍
磁流变流体是被施加磁场时具有数毫秒的反应速度的敏感物质。所述磁流变流体由羰基铁(carbonyliron)及用于分散羰基铁粉末的非磁性传递流体(carrierfluid)混合而成。所述磁流变流体应用于多种领域，尤其用于阻尼器(damper)、研磨(polishing)等领域。对现有的机械研磨装置及研磨方法来讲，研磨片在用相对高的压力加压对象体的表面的同时对所述对象体进行研磨。因此，可能出现所述对象体的表面出现划痕或对象体遭到残留应力破坏的情况。为了解决这些问题，利用磁流变流体的研磨装置使轮形态的部件以预定的速度旋转，并且在其上面涂布磁流变流体使得同时旋转。在此，向对象体及磁流变流体之间供应研磨液(slurry)。因此，随着所述研磨液接触所述对象体表面发生剪切力，以此执行研磨工程。但现有的利用磁流变流体的研磨方法可能会受到对象体形状的限制，将具有大面积的对象体整体研磨均匀需要大量的工程时间。并且，利用电磁铁形成磁场的情况下，用于驱动电磁铁的构成复杂，具有发热方面的问题。
技术实现思路
技术问题本技术的实施例提供一种能够将具有大面积的对象体整体研磨均匀的对象体研磨装置。本技术的实施例提供一种能够将具有大面积的对象体整体研磨均匀的对象体研磨方法。技术方案用于达成上述目的的本技术的一个实施例的对象体研磨装置包括：工作台，其能够移动且能够用于配置对象体；研磨单元，其可旋转地位于所述工作台上，具有外壳部、设置于所述外壳部内且利用至少一个永磁铁向供应到所述对象体上的磁流变流体施加磁场以排列所述磁流变流体的磁场发生部及与所述磁场发生部相邻且利用电磁铁将所述永磁铁的磁场限制在所述外壳部的内部的磁场限制部；磁流变流体供应部，其能够向所述对象体上供应所述磁流变流体；以及研磨液供应部，其向所述磁流变流体与所述对象体之间供应研磨用研磨液。根据本技术的一个实施例，所述永磁铁可包括向水平方向排列的多个永磁铁。根据本技术的一个实施例，所述研磨单元还可以包括：轭部，其支撑所述永磁铁及所述电磁铁；以及磁场通道部，其起到所述永磁铁与所述电磁铁之间的磁场通道的功能。在此，所述永磁铁有多个，多个所述永磁铁排列成隔着向垂直方向延长的轭部具有相同极性。并且，多个所述永磁铁分别具有环形圈形状，可以排列成同心圆形态。根据本技术的一个实施例，所述永磁铁垂直地排列成永磁铁的不同极性交替配置。根据本技术的一个实施例，所述研磨单元还可以包括：旋转轴；集电环，其包围所述旋转轴；以及电源供应部，其向所述电磁铁供应电源。根据本技术的一个实施例，所述研磨液供应部可包括：研磨液储存槽，其储存所述研磨液；泵，其从所述研磨液储存槽泵出所述研磨液供应到所述对象体；以及搅拌机，其在所述研磨液储存槽内搅拌从所述对象体回收的研磨液。根据用于达成上述目的的本技术的一个实施例的对象体研磨方法，将对象体配置在能够移动的工作台上后，利用永磁铁向供应到所述对象体上的磁流变流体施加磁场以排列所述磁流变流体。之后，向所述磁流变流体与所述对象体之间供应研磨用研磨液研磨所述对象体，通过接通/断开施加到与所述永磁铁邻近的电磁铁的电源限制所述永磁铁的磁场。之后，限制所述永磁铁的磁场期间，从所述永磁铁解除所述磁流变流体。根据本技术的一个实施例，研磨所述对象体的过程中，可通过断开施加到所述电磁铁的电源使得所述永磁铁周围形成磁场。根据本技术的一个实施例，为了限制所述永磁铁的磁场，接通施加到所述电磁铁的电源。在此，为了限制所述永磁铁的磁场，可以根据所述电磁铁的极性排列所述永磁铁的极性以在内部形成磁场环。技术效果根据上述本技术的实施例的对象体研磨装置及研磨方法，能够为了结合电磁铁与永磁铁而水平或垂直配置，因此能够将大面积的对象体整体研磨均匀。尤其，一方面利用永磁铁向磁流变流体施加磁场，另外能够利用电磁铁从所述磁流变流体解除所述磁场。因此，能够简化对象体研磨装置的构成且减少电能消耗。附图说明图1是说明本技术的一个实施例的对象体研磨装置的构成图；图2是用于说明图1的研磨单元的剖面图；图3a及图3b是用于说明图1的研磨单元发生的磁场的剖面图；图4是说明本技术的一个实施例的对象体研磨装置的构成图；图5是用于说明图4的磁场发生部的剖面图；图6是说明本技术的一个实施例的对象体研磨方法的流程图。附图标记说明100、200：对象体研磨装置110、210：工作台130、245：研磨单元150：研磨液供应部170：磁流变流体供应部具体实施方式以下参见附图对本技术的实施例进行具体说明。但是本技术不必局限于如以下说明的实施例构成，可以具体化为不同于此的多种形态。提供以下实施例是为了向本技术
的普通技术人员充分地传递本技术的范围，而并不只是为了使得能够充分实施本技术而提供。当本技术的实施例说明了一个要素配置或连接在其他要素上的情况下，所述要素可直接配置或连接在所述其他要素上，也可以是其他要素介于他们之间。或者，当提到一个要素直接配置或连接在其他要素上的情况下，它们之间不可能还有另外的要素。为了说明多种要素、组成、区域、层及/或部分等多种项目而可能会使用第一、第二、第三等术语，但所述项目不受这些术语的限制。本技术的实施例中使用的专业术语旨在说明特定实施例，而并非限定本技术。另外，除非另作定义，包括技术及科学术语在内的术语均表示与本领域普通技术人员通常理解相同的意思。通常使用的词典定义过的术语应解释为与本技术的说明文章脉络相一致的意思，除非在本申请中明确定义，不得解释为怪异或过度形式性的意思。以下参见示出本技术优选实施例的概要图说明本技术的实施例。在此，能够充分预想到从所述附图所示的形状的各种变化，例如制造方法及/或允许公差的变化。因此，本技术的实施例并不是按附图说明的区域的特定形状进行说明，而是包括形状的偏差，附图说明的要素只是用于简要示出，而并非旨在说明准确形状，并且也并非对本技术加以限定。图1是说明本技术的一个实施例的对象体研磨装置的构成图，图2是用于说明图1的研磨单元的剖面图。参见图1及图2，本技术的一个实施例的对象体研磨装置100包括工作台110、研磨单元130、研磨液供应部150及磁流变流体供应部170。所述对象体研磨装置100可利用能够通过施加的磁场控制黏度、流动性等流动特性的磁流变流体(magnetorheologicalfluid)向对象体10施加应力和剪切力研磨对象体10的表面或侧面等。所述对象体10可包括玻璃基板、半导体基板、印刷电路板等具有板形状的板材。所述工作台110支撑所述对象体10。即，可在所述工作台110的一面上配置所述对象体10。为了将所述对象体10固定在所述工作台110，可利用真空力或静电力。或者，可以利用设置于所述工作台110的一面上的夹钳之类的固定部件。所述工作台110设置成能够移动。例如，所述工作台110能够向水平方向，即X方向及Y方向移动。为此，可以另外设置工作台驱动部(未示出)用于移动所述工作台110。因此所述工作台本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种对象体研磨装置，其特征在于，包括：工作台，其能够移动且能够用于配置对象体；研磨单元，其可旋转地位于所述工作台上，具有外壳部、设置于所述外壳部内且利用至少一个永磁铁向供应到所述对象体上的磁流变流体施加磁场以排列所述磁流变流体的磁场发生部及与所述磁场发生部相邻且通过接通向电磁铁施加的电源将所述永磁铁的磁场限制在所述外壳部的内部的磁场限制部；磁流变流体供应部，其能够向所述对象体上供应所述磁流变流体；以及研磨液供应部，其向所述磁流变流体与所述对象体之间供应研磨用研磨液。

【技术特征摘要】
2018.06.27 KR 10-2018-00738611.一种对象体研磨装置，其特征在于，包括：工作台，其能够移动且能够用于配置对象体；研磨单元，其可旋转地位于所述工作台上，具有外壳部、设置于所述外壳部内且利用至少一个永磁铁向供应到所述对象体上的磁流变流体施加磁场以排列所述磁流变流体的磁场发生部及与所述磁场发生部相邻且通过接通向电磁铁施加的电源将所述永磁铁的磁场限制在所述外壳部的内部的磁场限制部；磁流变流体供应部，其能够向所述对象体上供应所述磁流变流体；以及研磨液供应部，其向所述磁流变流体与所述对象体之间供应研磨用研磨液。2.根据权利要求1所述的对象体研磨装置，其特征在于：所述永磁铁包括向水平方向排列的多个永磁铁。3.根据权利要求1所述的对象体研磨装置，其特征在于，所述研磨单元还包括：轭部，其支撑所述永磁铁及...

【专利技术属性】
技术研发人员：张道祥，洪侊杓，
申请(专利权)人：株式会社PDT，
类型：新型
国别省市：韩国,KR