薄膜的制造方法技术

本发明专利技术目的在于提供一种薄膜的制造方法，其代替现有技术的薄膜制造技术。本发明专利技术的薄膜的制造方法的特征在于，其包括：在所述成膜装置的第1槽中使含有微粒的分散液雾化的工序；将经雾化的分散液沿第1方向供给至第2槽顶部的入口中，并沿与第1方向相反的第2方向从第2槽顶部的出口排出经雾化的分散液，从而将经雾化的分散液经由所述成膜装置的第2槽搬送至第3槽的工序；将经雾化的所述分散液供给至第3槽中的基板上的工序；和使供给至所述基板上的所述分散液干燥的工序。

Manufacturing methods of thin films

【技术实现步骤摘要】
薄膜的制造方法本申请是分案申请，其原申请的国际申请号为PCT/JP2014/078064，国际申请日为2014年10月22日，中国国家申请号为201480052051.7，进入中国国家阶段的进入日为2016年03月22日，专利技术名称为“薄膜的制造方法、透明导电膜”。
本专利技术涉及薄膜的形成方法、透明导电膜。本专利技术要求2013年10月30日申请的日本专利的申请号2013-225549的优先权，对于认可基于文献参照方式的编入的指定国，通过参照方式将该申请所述的内容编入本申请中。
技术介绍
由氧化铟锡(ITO)、氧化锌(ZnO)等构成的透明导电膜作为液晶显示器、太阳能电池的透明电极被广泛使用。这些透明导电膜通常利用溅射法生成。此外，作为溅射法以外的方法，例如专利文献1中公开了利用金属氧化膜的成膜装置进行金属氧化膜的成膜，“该成膜装置的特征在于，其具备加入有含有金属的材料溶液(10)的第一容器(5A)、加入有过氧化氢的第二容器(5B，18)、配置基板(2)且具有加热所述基板的加热器(3)的反应容器(1)、连接所述第一容器与所述反应容器，将所述材料溶液从所述第一容器供给至所述反应容器的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种利用成膜装置制造薄膜的方法，其中，所述方法包括：在成膜装置的第1槽中使含有微粒的分散液雾化的工序；将经雾化的分散液沿第1方向供给至所述成膜装置的第2槽顶部的入口中，并沿与第1方向相反的第2方向从第2槽顶部的出口排出经雾化的分散液，从而将经雾化的分散液经由第2槽搬送至第3槽的工序；将经雾化的所述分散液供给至第3槽中的基板上的工序；和使供给至所述基板上的所述分散液干燥的工序。

【技术特征摘要】
2013.10.30 JP 2013-2255491.一种利用成膜装置制造薄膜的方法，其中，所述方法包括：在成膜装置的第1槽中使含有微粒的分散液雾化的工序；将经雾化的分散液沿第1方向供给至所述成膜装置的第2槽顶部的入口中，并沿与第1方向相反的第2方向从第2槽顶部的出口排出经雾化的分散液，从而将经雾化的分散液经由第2槽搬送至第3槽的工序；将经雾化的所述分散液供给至第3槽中的基板上的工序；和使供给至所述基板上的所述分散液干燥的工序。2.如权利要求1所述的制造薄膜的方法，其中，所述经雾化的分散液中所含有的微粒的粒径均为100nm以下。3.如权利要求1或2所述的制造薄膜的方法，其中，所述基板含有树脂，并且具有可挠性。4.如权利要求1或2所述的制造薄膜的方法，其中，所述干燥工序在低于所述基板的软化点的温度下进行。5.如权利要求1或2所述的制造薄膜的方法，其中，所述干燥工序在10℃以上40℃以下的温度下进行。6.如权利要求1或2所述的制造薄膜的方法，其中，所述方法还包括：在所述基板上形成由亲水部与斥水部构成的亲斥水图...

【专利技术属性】
技术研发人员：西康孝，中积诚，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本,JP