用于温度梯度法生长稀土倍半氧化物晶体的热场装置制造方法及图纸

技术编号:21774007 阅读:23 留言:0更新日期:2019-08-03 22:13
本实用新型专利技术提供用于温度梯度法生长稀土倍半氧化物晶体的热场装置,包括基座、保温桶、石墨硬毡保温层、第一支架、第二支架、坩埚、上保温层、感应加热线圈;保温桶固定于基座上;石墨硬毡保温层设置于保温桶内,且石墨硬毡保温层中部设有坩埚放置孔;第一支架穿过基座和石墨硬毡保温层,且第一支架顶部位于坩埚放置孔内;第二支架设于第一支架底部;坩埚置于坩埚放置孔内,且底部与第一支架顶部接触;上保温层设于保温桶的顶部;感应加热线圈环设于保温桶外侧壁上。该热场装置使用中频感应的加热方式,设计了合适的保温层为基础的热场环境,使得温度梯度呈现一个上热下冷的渐变过程,保证了晶体的定向生长。

A Thermal Field Device for Growth of Rare Earth Sesquioxide Crystals by Temperature Gradient Method

【技术实现步骤摘要】
用于温度梯度法生长稀土倍半氧化物晶体的热场装置
本技术涉及晶体生长领域,是对温度梯度法的创新式设计技术,主要涉及于高熔点稀土元素倍半氧化物晶体生长工艺的热场装置及生长方法。
技术介绍
稀土倍半氧化物晶体基质(Lu2O3、Sc2O3、Y2O3等)具有一系列优点:立方晶系、无双折射;易实现各种稀土掺杂、高分凝系数;高热导率12.5-16.5W/mK;低声子能量~430cm-1,低无辐射跃迁、高量子效率;具有强场耦合特性、Yb掺杂基态能级分裂大达1112cm-1;高抗冲击因子、高破坏阈值。在高功率、微片、超快、中红外和可见光波段激光等方面具有重要应用前景。但,该类晶体熔点高(>2400℃)、很难生长。目前,科学家使用光浮区(Floatingzone)晶体生长法进行了一系列的稀土离子倍半氧化物晶体性能的研究。然而,光浮区法晶体生长过程中的固熔界面处的温度梯度极大。依据熔体2400℃和石英套管的相变转化温度(1100℃)的温差来计算,浮区法生长的稀土倍半氧化物晶体的熔体边缘处的温度梯度可达500℃/mm,导致晶体应力较大并引发系列的生长难题和质量问题,难以突破φ20mm的尺寸上限。为了获本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.用于温度梯度法生长稀土倍半氧化物晶体的热场装置,其特征在于:包括基座(1)、保温桶(2)、石墨硬毡保温层(3)、第一支架(4)、第二支架(5)、坩埚(6)、上保温层(7)、感应加热线圈(8);所述保温桶(2)固定于基座(1)上;所述石墨硬毡保温层(3)设置于保温桶(2)内,且石墨硬毡保温层(3)中部设有坩埚放置孔(9);所述第一支架(4)穿过基座(1)和石墨硬毡保温层(3),且第一支架(4)顶部位于坩埚放置孔(9)内;所述第二支架(5)设于第一支架(4)底部;所述坩埚(6)置于坩埚放置孔(9)内,且底部与第一支架(4)顶部接触;所述上保温层(7)设于保温桶(2)的顶部;所述感应加热线圈(8...

【技术特征摘要】
1.用于温度梯度法生长稀土倍半氧化物晶体的热场装置,其特征在于:包括基座(1)、保温桶(2)、石墨硬毡保温层(3)、第一支架(4)、第二支架(5)、坩埚(6)、上保温层(7)、感应加热线圈(8);所述保温桶(2)固定于基座(1)上;所述石墨硬毡保温层(3)设置于保温桶(2)内,且石墨硬毡保温层(3)中部设有坩埚放置孔(9);所述第一支架(4)穿过基座(1)和石墨硬毡保温层(3),且第一支架(4)顶部位于坩埚放置孔(9)内;所述第二支架(5)设于第一支架(4)底部;所述坩埚(6)置于坩埚放置孔(9)内,且底部与第一支架(4)顶部接触;所述上保温层(7)设于保温桶(2)的顶部;所述感应加热线圈(8)环设于保温桶(2)外侧壁上。2.根据权利要求1所述的用于温度梯度法生长稀土倍半氧化物晶体的热场装置,其特征在于:所述保温桶(2)为石英保温桶或石墨硬毡保...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐军赵衡煜徐晓东李东振王东海
申请(专利权)人:南京同溧晶体材料研究院有限公司
类型:新型
国别省市:江苏,32

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1