一种射束检验、测量方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种射束检验方法。该射束检验方法适于检验辐射设备的射束，所述辐射设备至少包括辐射源、准直器和与所述辐射源相对设置的成像装置，所述辐射源用于产生所述射束，所述准直器用于对所述射束限束，所述方法包括：基于所述成像装置在至少一个源像距获取的至少一张图像确定所述射束的射束轴和所述准直器的旋转轴在所述成像装置上投影之间的至少一个偏移距离；以及将所述至少一个偏移距离与预设值进行比较，确定所述至少一个偏移距离是否在预设值以内。本发明专利技术的射束检验方法能够快速、准确地对射束进行检验。

A Beam Inspection, Measurement Method and Device

【技术实现步骤摘要】
一种射束检验、测量方法及装置优先权声明本申请要求2018年9月12日提交的申请号为201811063410.5的中国申请的优先权，上述申请的内容以引用方式被包含于此。
本专利技术主要涉及辐射设备的校准，尤其涉及射束检验、测量方法及装置。
技术介绍
作为治疗恶性肿瘤的一种常用手段，放射治疗(radiationtherapy)是利用放射治疗设备发射出的高能射束产生的能量来破坏肿瘤细胞里的染色体，使肿瘤细胞停止生长。当然，正常细胞若遭受放射治疗设备发射出的高能射束的照射，同样会被杀死。因此，有必要使放射治疗设备发射出的高能射束尽可能地只照射肿瘤区域。现有的放射治疗设备的治疗头通常设置有用于射束成形的准直器，以使出射的射束与治疗计划的孔径一致。一般而言，准直器可以绕一旋转轴转动，并且要求射束的射束轴与准直器的旋转轴一致。这就需要对放射治疗设备进行调整、校准和验证，以保证射束的射束轴与准直器的旋转轴一致。然而，现有的对放射治疗设备进行调整、校准和验证的方法通常较慢、不准确、需要额外的硬件(例如水箱)并且/或者需要依赖于人的判断。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种射束检验、测量方法及装置，其能够快速、准确地对射束进行检验、测量。为解决上述技术问题，本专利技术的一方面提供了一种射束检验方法，适于检验辐射设备的射束，所述辐射设备至少包括辐射源、准直器和与所述辐射源相对设置的成像装置，所述辐射源用于产生所述射束，所述准直器用于对所述射束限束，所述方法包括：基于所述成像装置在至少一个源像距获取的至少一张图像确定所述射束的射束轴和所述准直器的旋转轴在所述成像装置上投影之间的至少一个偏移距离；以及基于所述至少一个偏移距离和预设值，确定所述射束轴相对于所述旋转轴的偏离是否在预设值以内。在一些实施例中，当所述射束轴相对于所述旋转轴的偏离在预设值以外时，调整所述辐射设备中与所述偏离相关的部件的位置；否则，对所述辐射设备中与所述偏离相关的部件不作调整。在一些实施例中，所述至少一个源像距为一个源像距。在一些实施例中，基于所述成像装置在至少一个源像距分别获取的至少一张图像确定所述射束的射束轴和所述准直器的旋转轴在所述成像装置上投影之间的至少一个偏移距离包括：在每个源像距处：基于所述成像装置在所述源像距获取的至少一张第一图像确定所述旋转轴在所述成像装置上投影的旋转轴位置；基于所述成像装置在所述源像距获取的至少一张第二图像确定所述射束轴在所述成像装置上投影的射束轴位置；以及根据所述旋转轴位置和所述射束轴位置计算所述偏移距离。在一些实施例中，所述第一图像通过如下方式获取：旋转所述准直器至不同角度，通过所述成像装置采集不同角度下的图像作为所述第一图像；和/或所述第二图像为通过所述成像装置采集的校正模体的投影图像。本专利技术的一方面提供了一种射束检验系统，适于检验辐射设备的射束，所述辐射设备至少包括辐射源、准直器和与所述辐射源相对设置的成像装置，所述辐射源用于产生所述射束，所述准直器用于对所述射束限束，所述系统包括：确定模块，用于基于所述成像装置在至少一个源像距获取的至少一张图像确定所述射束的射束轴和所述准直器的旋转轴在所述成像装置上投影之间的至少一个偏移距离；以及判断模块，用于基于所述至少一个偏移距离和预设值，确定所述射束轴相对于所述旋转轴的偏离是否在预设值以内。在一些实施例中，所述系统还包括：调整模块，用于当所述射束轴相对于所述旋转轴的偏离在预设值以外时，调整所述辐射设备中与所述偏离相关的部件的位置；否则，对所述辐射设备中与所述偏离相关的部件不作调整。在一些实施例中，所述至少一个源像距为一个源像距。在一些实施例中，所述确定模块，还用于在每个源像距处：基于所述成像装置在所述源像距获取的至少一张第一图像确定所述旋转轴在所述成像装置上投影的旋转轴位置；基于所述成像装置在所述源像距获取的至少一张第二图像确定所述射束轴在所述成像装置上投影的射束轴位置；以及根据所述旋转轴位置和所述射束轴位置计算所述偏移距离。在一些实施例中，所述第一图像通过如下方式获取：旋转所述准直器至不同角度，通过所述成像装置采集不同角度下的图像作为所述第一图像；所述第一图像为标记板、钨门和多叶准直器中至少一者的投影图像；所述第二图像为通过所述成像装置采集的校正模体的投影图像；所述第二图像为所述成像装置在不同机架角下采集的校正模体的投影图像。本专利技术的一方面提供了一种辐射设备的校准方法，所述方法包括：利用所述射束检验方法确定所述射束轴相对于所述旋转轴的偏离；以及根据所述偏离调整所述辐射设备中与所述偏离相关的部件的位置。本专利技术的一方面提供了一种射束测量装置，所述装置包括：计算机可读存储介质，用于存储可由处理器执行的指令；处理器，用于执行所述指令以实现所述射束检验方法。本专利技术的一方面提供了一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机指令，其中当计算机指令被处理器执行时，实现所述射束检验方法。本专利技术的一方面提供了一种射束测量方法，适于测量辐射设备的射束，所述辐射设备至少包括辐射源、准直器和与所述辐射源相对设置的成像装置，所述辐射源用于产生所述射束，所述准直器用于对所述射束限束，所述方法包括：基于所述成像装置在多个不同源像距分别获取的多张图像确定所述射束的射束轴和所述准直器的旋转轴在所述成像装置上投影之间的多个距离；以及根据所述多个不同源像距和所述多个距离确定所述射束轴相对于所述旋转轴的偏离。在一些实施例中，基于所述成像装置在多个不同源像距分别获取的多张图像确定所述射束的射束轴和所述准直器的旋转轴在所述成像装置上投影之间的多个距离包括：在每个源像距处：基于所述成像装置在所述源像距获取的至少一张第一图像确定所述旋转轴在所述成像装置上投影的旋转轴位置；基于所述成像装置在所述源像距获取的至少一张第二图像确定所述射束轴在所述成像装置上投影的射束轴位置；以及根据所述旋转轴位置和所述射束轴位置计算所述距离。在一些实施例中，所述第一图像通过如下方式获取：旋转所述准直器至不同角度，通过所述成像装置采集不同角度下的图像作为所述第一图像。在一些实施例中，所述第一图像为标记板、钨门和多叶准直器中至少一者的投影图像。在一些实施例中，所述第二图像为通过所述成像装置采集的校正模体的投影图像。在一些实施例中，所述第二图像为所述成像装置在不同机架角下采集的校正模体的投影图像。在一些实施例中，所述偏离包括：所述射束轴相对于所述旋转轴的倾斜角；和/或所述射束轴相对于所述旋转轴的偏移。在一些实施例中，所述偏移为所述射束轴与所述旋转轴在靶平面上投影之间的距离。在一些实施例中，基于所述多个不同源像距和所述多个距离，利用几何关系确定所述倾斜角和所述偏移。在一些实施例中，基于所述多个不同源像距和所述多个距离，利用几何关系确定多个倾斜角初值和多个偏移初值，对所述倾斜角初值和所述偏移初值进行拟合确定所述倾斜角和所述偏移。本专利技术的一方面提供了一种射束测量方法，适于测量辐射设备的射束，所述辐射设备至少包括辐射源、准直器和与所述辐射源相对设置的成像装置，所述辐射源用于产生所述射束，所述准直器用于对所述射束限束，所述方法包括：所述成像装置在第一源像距获取至少一张第一图像；所述成像装置在第二源像距获取至少一张所述第一图像，所述第一图像适于确定所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种射束检验方法，适于检验辐射设备的射束，所述辐射设备至少包括辐射源、准直器和与所述辐射源相对设置的成像装置，所述辐射源用于产生所述射束，所述准直器用于对所述射束限束，所述方法包括：基于所述成像装置在至少一个源像距获取的至少一张图像确定所述射束的射束轴和所述准直器的旋转轴在所述成像装置上投影之间的至少一个偏移距离；以及基于所述至少一个偏移距离和预设值，确定所述射束轴相对于所述旋转轴的偏离是否在预设值以内。

【技术特征摘要】
2018.09.12 CN 20181106341051.一种射束检验方法，适于检验辐射设备的射束，所述辐射设备至少包括辐射源、准直器和与所述辐射源相对设置的成像装置，所述辐射源用于产生所述射束，所述准直器用于对所述射束限束，所述方法包括：基于所述成像装置在至少一个源像距获取的至少一张图像确定所述射束的射束轴和所述准直器的旋转轴在所述成像装置上投影之间的至少一个偏移距离；以及基于所述至少一个偏移距离和预设值，确定所述射束轴相对于所述旋转轴的偏离是否在预设值以内。2.根据权利要求1所述的射束检验方法，其特征在于：当所述射束轴相对于所述旋转轴的偏离在预设值以外时，调整所述辐射设备中与所述偏离相关的部件的位置；否则，对所述辐射设备中与所述偏离相关的部件不作调整。3.根据权利要求1所述的射束检验方法，其特征在于，所述至少一个源像距为一个源像距。4.根据权利要求1所述的射束检验方法，其特征在于，基于所述成像装置在至少一个源像距分别获取的至少一张图像确定所述射束的射束轴和所述准直器的旋转轴在所述成像装置上投影之间的至少一个偏移距离包括：在每个源像距处：基于所述成像装置在所述源像距获取的至少一张第一图像确定所述旋转轴在所述成像装置上投影的旋转轴位置；基于所述成像装置在所述源像距获取的至少一张第二图像确定所述射束轴在所述成像装置上投影的射束轴位置；以及根据所述旋转轴位置和所述射束轴位置计算所述偏移距离。5.根据权利要求4所述的射束检验方法，其特征在于：所述第一图像通过如下方式获取：旋转所述准直器至不同角度，通过所述成像装置采集不同角度下的图像作为所述第一图像；和/或所述第二图像为通过所述成像装置采集的校正模体的投影图像。6.一种射束检验系统，适于检验辐射设备的射束，所述辐射设备至少包括辐射源、准直器和与所述辐射源相对设置的成像装置，所述辐射源用于产生所述射束，所述准直器用于对所述射束限束，所述系统包括：确定模块，用于基于所述成像装置在至少一个源像距获取的至少一张图像确定所述射束的射束轴和所述准直器的旋转轴在所述成像装置上投影之间的至少一个偏移距离；以及判断模块，用于基于所述至少一个偏移距离和预设值，确定所述射束轴相对于所述旋转轴的偏离是否在预设值以内。7.根据权利要求6所述的射束检验系统，其特征在于，所述确定模块，还用于在每个源像距处：基于所述成像装置在所述源像距获取的至少一张第一图像确定所述旋转轴在所述成像装置上投影的旋转轴位置；基于所述成像装置在所述源像距获取的至少一张第二图像确定所述射束轴在所述成像装置上投影的射束轴位置；以及根据所述旋转轴位置和所述射束轴位置计算所述偏移距离。8.一种射束测量方法，适于测量辐射设备的射束，所述辐射设备至少包括辐射源、准直器和与所述辐射源相对设置的成像装置，所述辐射源用于产生所述射束，所述准直器用于对所述射束限束，所述方法包括：基于所述成像装置在多个不同源像距分别获取的多张图像确定所述射束的射束轴和所述准直器的旋转轴在所述成像装置上投影之间的多个距离；以及根据所述多个不同源像距和所述多个距离确定所述射束轴相对于所述旋转轴的偏离。9.根据权利要求8所述的射束测量方法，其特征在于，基于所述成像装置在多个不同源像距分别获取的多张图像确定所述射束的射束轴和所述准直器的旋转轴在所述成像装置上投影之间的多个距离包括：在每个源像距处：基于所述成像装置在所述源像距获取的至少一张第一图像确定所述旋转轴在所述成像装置上投影的旋转轴位置；基于所述成像装置在所述源像距获取的至少一张第二图像确定所述射束轴在所述成像装置上投影的射束轴位置；以及根据所述旋转轴位置和所述射束轴位置计算所述距离。10.根据权利要求9所述的射束测量方法，其特征在于，所述第一图像通过如下方式获取：旋转所述准直器至不同角度，通过所述成像装置采集不同角度下的图像作为所述第一图像。11.根据权利要求9所述的射束测量方法，其特征在于，所述第一图像为标记板、钨门和多叶准直器中至少一者的投影图像。12.根据权利要求9所述的射束测量方法，其特征在于，所述第二图像为通过所述成像装置采集的校正模体的投影图像。13.根据权利要求9所述的射束测量方法，其特征在于，所述第二图像为所述成像装置在不同机架角下采集的校正模体的投影图像。14.根据权利要求8所述的射束测量方法，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨宏成，
申请(专利权)人：上海联影医疗科技有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31