【技术实现步骤摘要】
图像像素件及图像像素阵列
本技术整体涉及成像传感器,并且更具体地讲,涉及具有包括不止一个光敏区的像素的成像传感器。
技术介绍
现代电子设备(诸如移动电话、相机和计算机)通常使用数字图像传感器。成像器件(即,图像传感器)可由二维图像感测像素阵列形成。每个像素可包括用于接收入射光子(入射光)并把光子转变为电荷的光传感器,诸如光电二极管。常规图像像素阵列包括前照式图像像素或背照式图像像素。图像像素是通过使用互补金属氧化物半导体(CMOS)技术或电荷耦合器件(CCD)技术在半导体衬底上制造而成。图像传感器可包括在衬底前表面中形成的光电二极管和其他操作电路(例如晶体管)。二维图像感测像素阵列中的单个图像感测像素包括单个光敏区、形成在光敏区上方的滤色器以及形成在滤色器上方的单个圆顶形微透镜。某些图像感测像素可包括两个或更多个光敏区。当从整体上看时,与图像传感器中的图像感测像素阵列相关联的滤色器阵列被称为滤色器阵列。许多成像器使用拜耳滤色器阵列,其中阵列中的纵向和横向相邻的滤色器为不同颜色。拜耳滤色器阵列包括红色、绿色和蓝色滤色器。理想的是,与具有红色滤色器的像素相关联的光敏区 ...
【技术保护点】
1.一种图像像素件,其特征在于,包括:呈现不同光敏感度的第一子像素组和第二子像素组;形成在所述图像像素的外边界处的像素间光屏蔽结构;以及形成在所述第一子像素组的外周边上方的像素内光屏蔽结构。
【技术特征摘要】
2017.10.31 US 15/799,8331.一种图像像素件,其特征在于,包括:呈现不同光敏感度的第一子像素组和第二子像素组;形成在所述图像像素的外边界处的像素间光屏蔽结构;以及形成在所述第一子像素组的外周边上方的像素内光屏蔽结构。2.根据权利要求1所述的图像像素件,其特征在于,还包括:形成在所述第一子像素组和所述第二子像素组中的至少一者上方的滤光器层。3.根据权利要求2所述的图像像素件,其特征在于,其中所述滤光器层仅形成在所述像素间光屏蔽结构和所述像素内光屏蔽结构之间。4.根据权利要求3所述的图像像素件,其特征在于,其中所述像素内光屏蔽结构在所述第一子像素组的光收集区域上方延伸。5.根据权利要求4所述的图像像素件,其特征在于,其中所述滤光器层是透明滤光器。6.根据权利要求2所述的图像像素件,其特征在于,其中所述滤光器层在所述像素内光屏蔽结构内以及在所述像素间光屏蔽结构和所述像素内光屏蔽结构之间形成,并...
【专利技术属性】
技术研发人员:S·伯萨库尔,M·A·苏弗里德格,
申请(专利权)人:半导体元件工业有限责任公司,
类型:新型
国别省市:美国,US
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