喷射式化学镀装置制造方法及图纸

实用新型专利技术涉及化学镀装置，提供了一种喷射式化学镀装置，包括镀槽和一端封闭的喷射管，所述的喷射管设有喷射孔，所述的喷射管纵向平行、横向平行或其组合中的一种排列，设置在所述的镀槽中，构成喷射管阵列，所述的喷射管另一端与镀槽下部的镀液入口相连接，所述的喷射管阵列处的所述的镀槽的下部设有镀液出口；喷射管之间为设置镀件的镀件腔，相邻两排所述的喷射管上的喷射孔面向镀腔相对设置；本实用新型专利技术的线路板表面吸附的药水膜较薄，因此喷射的药水液流能高速撞击线路板表面使得药水可高效地交换和更新，不仅能够大幅度降低药水用量，而且还有利于提高镀层质量。

Jet Electroless Plating Device

【技术实现步骤摘要】
喷射式化学镀装置
本技术涉及化学镀装置。
技术介绍
现有技术中，采用现有的技术进行化学镀，如在铜的表面镀银，均存在镀膜表面不致密的缺陷，为了克服该缺陷，在镀液加入还原剂是一种有效的方法，但是，目前的化学镀装置均存在两个问题，其一，是敞开的，所述的还原剂与空气中的氧气会进行反应，导致还原剂被快速消耗，使镀液不稳定，影响镀层质量；其二，镀件均置于镀液中，需要大量的镀液，导致成本较高。专利技术人在先的中国专利ZL.2016210626891提供了一种设有封闭机构的化学镀装置，包括化学镀组件，包括封闭机构，封闭机构包括溶液槽和上盖，溶液槽设置在化学镀组件周边，上盖包括顶盖和与所述的顶盖的边缘相连接的上盖边，且所述的上盖边向下延伸，插入所述的溶液槽中，上盖边设有与溶液槽相连接的支撑件，上盖边的下部与所述的溶液槽的槽底之间设有间距。本技术的有益效果是：1、铜基镀件在本专利技术的装置内进行化学镀过程中不会发生氧化，保证了镀件的镀层质量；2、在本专利技术的装置内的化学镀药水不会因空气氧化而变质，从而保证了镀层质量的稳定性。但是，依然没有解决需要大量的镀液的问题，还需要进一步改进。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种喷射式化学镀装置，以克服现有技术存在的缺陷。所述的喷射式化学镀装置，包括镀槽和一端封闭的喷射管，所述的喷射管设有喷射孔，所述的喷射管纵向平行、横向平行或其组合中的一种排列，设置在所述的镀槽中，构成喷射管阵列，所述的喷射管另一端与镀槽下部的镀液入口相连接，所述的喷射管阵列处的所述的镀槽的下部设有镀液出口；喷射管之间为设置镀件的镀件腔，相邻两排所述的喷射管上的喷射孔面向镀件腔相对设置；技术的有益效果是：由于药水是在气相介质中被喷射至垂直悬挂且水平移动的线路板表面，线路板表面吸附的药水膜较薄，因此喷射的药水液流能高速撞击线路板表面使得药水可高效地交换和更新，不仅能够大幅度降低药水用量，而且还有利于提高镀层质量。附图说明图1为喷射式化学镀装置的横截面结构示意图；其中：图1A为设有纵向平行排列的喷射管阵列的喷射式化学镀装置的横截面结构示意图；图1B为具有横向平行排列的喷射管阵列的喷射式化学镀装置的横截面结构示意图；图1C为喷射式化学镀装置的纵截面结构示意图；图2为封闭机构结构示意图。具体实施方式参见图1，所述的喷射式化学镀装置，包括镀槽1和一端封闭的喷射管2，所述的喷射管2设有喷射孔3，所述的喷射管2纵向平行、横向平行或其组合中的一种排列，设置在所述的镀槽1中，构成喷射管阵列200，所述的喷射管2另一端与镀槽1下部的镀液入口101相连接，所述的喷射管阵列处的所述的镀槽1的下部设有镀液出口102；喷射管2之间为设置镀件100的镀件腔4，相邻两排所述的喷射管2上的喷射孔3面向镀件腔4相对设置；优选的，所述的喷射管2垂直平行排列，设置在所述的镀槽1中，构成喷射管阵列，或者所述的喷射管2水平平行排列，设置在所述的镀槽1中，构成喷射管阵列，设置在所述的镀槽1中；优选的，参见图1，所述的镀槽1包括镀槽体103和镀槽盖104，所述的镀槽体103的顶部的侧边设有向外翻折的U型液封槽105，所述的镀槽盖104的侧边设有与所述的液封槽105的形状配合的向下的液封条106，所述的液封条106嵌在所述的液封槽105中，所述的镀槽盖104由小镀槽盖1041组成，所述的小镀槽盖1041的顶部的一个端边的下部设有向外伸展的下密封板108，另一个端边的上部设有向外伸展的上密封板107，前一块所述的小镀槽盖1041的上密封板107压在后一块所述的下密封板108上，采用该结构，可以使得喷射出的镀液被封闭在所述的镀槽1中，避免污染；参见图1C，优选的，相邻两个所述的喷射管阵列200之间的镀槽1的底部，设有向上凸起的隔离条5，所述的隔离条5的两端与所述的镀槽1的两边密封连接，构成两个以上独立的镀槽1，采用该结构，可以使得镀件在前一个镀槽中采用一种镀液进行喷涂后，移动到后一个镀槽中，即可采用另一种镀液进行喷涂，而不同的两种镀液，可以分别通过不同位置的镀液出口102排出而不混淆；优选的，本技术还包括封闭机构，所述的封闭机构包括上部敞开的溶液外槽6、上部敞开的溶液内槽7和上盖8；所述的溶液外槽6套在所述的溶液内槽7外，所述的镀槽1设置在所述的溶液内槽7中；所述的上盖8包括顶盖801和与所述的顶盖801的边缘相连接的上盖边802，且所述的上盖边802向下延伸，插在所述的溶液外槽6和溶液内槽702之间，所述的上盖边802的下部与所述的溶液槽的槽底之间设有间距L，以实现镀件的进出；优选的，所述的溶液外槽6、上部敞开的溶液内槽7和上盖8的横截面均为圆形或者均为矩形；优选的，所述的上盖边802的下部设有支撑件803，所述的支撑件803为支撑脚，所述的支撑脚支撑在所述的溶液外槽6的槽底；本技术在化学镀过程中，首先将溶液如水注入溶液外槽6，水的高度不超过溶液内槽7的高度，然后将上盖边802插在溶液外槽6中，然后将挂有镀件的镀槽体盖104通过液外槽6与上盖边802之间的间隙穿过，再从溶液内槽7中上升后位移至镀槽1的上方，然后安装在所述的镀槽1上，镀槽1通过封闭机构与外界形成液封，镀槽1与空气隔绝，避免镀液中的还原剂被空气中的氧气氧化，确保了化学镀的质量稳定，而镀液通过喷射管2上的喷射孔3喷射而出，被喷涂在镀件100上，从所述的镀件100流下的多余的镀液，从镀液出口102排出，收集后，可循环使用，最后，完成了化学镀的镀件，从喷射式化学镀装置另一端的封闭机构中取出，完成了整个化学镀。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.喷射式化学镀装置，其特征在于，包括镀槽(1)和一端封闭的喷射管(2)，所述的喷射管(2)设有喷射孔(3)，所述的喷射管纵向平行或横向平行或其组合中的一种排列，设置在所述的镀槽1中，构成喷射管阵列(200)，所述的喷射管另一端与镀槽下部的镀液入口(101)相连接，所述的喷射管阵列处的所述的镀槽的下部设有镀液出口(102)；喷射管之间为设置镀件的镀件腔(4)，相邻两排所述的喷射管(2)上的喷射孔(3)面向镀件腔(4)相对设置。

【技术特征摘要】
1.喷射式化学镀装置，其特征在于，包括镀槽(1)和一端封闭的喷射管(2)，所述的喷射管(2)设有喷射孔(3)，所述的喷射管纵向平行或横向平行或其组合中的一种排列，设置在所述的镀槽1中，构成喷射管阵列(200)，所述的喷射管另一端与镀槽下部的镀液入口(101)相连接，所述的喷射管阵列处的所述的镀槽的下部设有镀液出口(102)；喷射管之间为设置镀件的镀件腔(4)，相邻两排所述的喷射管(2)上的喷射孔(3)面向镀件腔(4)相对设置。2.根据权利要求1所述的喷射式化学镀装置，其特征在于，所述的喷射管垂直平行排列，设置在所述的镀槽中，或者所述的喷射管水平平行排列，设置在所述的镀槽中。3.根据权利要求1所述的喷射式化学镀装置，其特征在于，所述的镀槽包括镀槽体(103)和镀槽盖(104)，所述的镀槽体的顶部的侧边设有向外翻折的U型液封槽(105)，所述的镀槽盖的侧边设有与所述的液封槽的形状配合的向下的液封条(106)，所述的液封条嵌在所述的液封槽中，所述的镀槽盖由小镀槽盖(1041)组成，所述的小镀槽盖的顶部的一个端边的下部设有向外伸展的下密封板(108)，另一个端边的上部设有向外伸展的上...

【专利技术属性】
技术研发人员：方斌，赵望，汪庆锋，
申请(专利权)人：厦门银方新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：福建,35