单层电容器用无氰镀金设备制造技术

本发明专利技术公开了一种单层电容器用无氰镀金设备，包括托盘，托盘上安装有主体、PH碱性添加桶、PH酸性添加桶、镀金液添加桶；主体的内腔通过工作台面分隔为上腔室和下腔室。通过PH探头、镀金液添加桶等结构，节省了分析人工、完全不需要分析用的原液及分析药品，极大提高了药液稳定性，降低了人力物力成本；通过氮气的保护，延迟镀液寿命数倍，大大降低镀金液使用成本；设计了可调节速率的阴极移动装置和可调节的变频过滤泵，可对不同产品进行对应调整，达到最佳镀金效果；在镀金液回收槽中增加加热器、比重探头，通过加热将金回收液进行浓缩，通过比重感应计算金含量，可随意对回收的镀金液浓度进行控制，以达到最大的金回收效率。

Cyanide-free gold plating equipment for single-layer capacitors

【技术实现步骤摘要】
单层电容器用无氰镀金设备
本专利技术涉及单层电容器制造
，尤其涉及一种单层电容器用无氰镀金设备。
技术介绍
普通电镀设备镀液控制都是定期靠人工分析后补加，需要很多人力物力，并且不能及时的对药液进行补充调整，会导致药液组分的异常波动，同时分析过程还会浪费昂贵的镀金药液和分析用药品，从而提高成本。当今因环保原因氰化物镀金体系已经取消，无氰镀金体系已经逐步完善，但因其药液特性，药液寿命短是一个很大的问题，从而提高了生产成本。电镀过程产品的移动、药液的循环都是影响镀层分布的重要因素，不合适的设定均会导致镀层性能异常。电镀台在结构、布局、操作等设计方面不合理则会造成空间浪费、成本浪费、操作不便捷。镀金液价格昂贵，因此回收是每个镀金工艺中必不可少的一个工艺步骤，但是因回收浓度不便于监控，很难达到最佳的回收浓度。
技术实现思路
本专利技术为解决上述问题，提供一种单层电容器用无氰镀金设备。为解决上述技术问题，本专利技术的技术方案是：单层电容器用无氰镀金设备，包括托盘，托盘上安装有主体、PH碱性添加桶、PH酸性添加桶、镀金液添加桶；主体的内腔通过工作台面分隔为上腔室和下腔室；下腔室内安装有储液槽、变本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.单层电容器用无氰镀金设备，其特征在于，包括托盘(1)，托盘(1)上安装有主体(2)、PH碱性添加桶(10)、PH酸性添加桶(11)、镀金液添加桶(12)；主体(2)的内腔通过工作台面(14)分隔为上腔室和下腔室；下腔室内安装有储液槽(5)、变频过滤泵(7)、排放缓冲槽(18)，储液槽(5)分别与PH碱性添加桶(10)、PH酸性添加桶(11)、镀金液添加桶(12)相连，储液槽(5)上安装有储液槽盖，储液槽盖上安装有下氮气进气管(19)，下氮气进气管(19)与储液槽(5)相连通；变频过滤泵(7)通过进液管与储液槽(5)连接；上腔室的工作台面(14)内开设有主镀槽、镀金液回收槽(16)、清洗槽(...

【技术特征摘要】
1.单层电容器用无氰镀金设备，其特征在于，包括托盘(1)，托盘(1)上安装有主体(2)、PH碱性添加桶(10)、PH酸性添加桶(11)、镀金液添加桶(12)；主体(2)的内腔通过工作台面(14)分隔为上腔室和下腔室；下腔室内安装有储液槽(5)、变频过滤泵(7)、排放缓冲槽(18)，储液槽(5)分别与PH碱性添加桶(10)、PH酸性添加桶(11)、镀金液添加桶(12)相连，储液槽(5)上安装有储液槽盖，储液槽盖上安装有下氮气进气管(19)，下氮气进气管(19)与储液槽(5)相连通；变频过滤泵(7)通过进液管与储液槽(5)连接；上腔室的工作台面(14)内开设有主镀槽、镀金液回收槽(16)、清洗槽(17)，主镀槽上可拆卸式安装有主镀槽盖(4)，主镀槽盖(4)上安装有上氮气进气管(6)，上氮气进气管(6)与主镀槽相连通；镀金液回收槽(16)内安装有加热器(1601)、比重探头(1602)；变频过滤泵(7)通过出液管与主镀槽盖(4)连接，出液管上设置有过滤芯(8)、PH探头(9)，主镀槽盖(4)通过溢流管与储液槽(5)连接；上腔室的后部内壁安装有排风(3)、摆动器(13)，摆动器(13)与连接杆的上端连接，连接...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘云志，吴继伟，杨国兴，王迪，郝泳鑫，
申请(专利权)人：大连达利凯普科技有限公司，
类型：发明
国别省市：辽宁,21