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本发明公开了一种单层电容器用无氰镀金设备，包括托盘，托盘上安装有主体、PH碱性添加桶、PH酸性添加桶、镀金液添加桶；主体的内腔通过工作台面分隔为上腔室和下腔室。通过PH探头、镀金液添加桶等结构，节省了分析人工、完全不需要分析用的原液及分析药...
该专利属于大连达利凯普科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过大连达利凯普科技有限公司授权不得商用。

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