脑压测定装置制造方法及图纸

技术编号:21692660 阅读:38 留言:0更新日期:2019-07-24 16:35
本发明专利技术涉及一种脑压测定装置,其包括:传感部,用于测定对象体的脑血管内的规定位置的压力;金属线部,与上述传感部相连接,通过向上述对象体插入来使上述传感部位于上述位置;以及脑压测定部,以所测定的上述压力为基础来测定脑压。

Brain Pressure Measuring Device

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】脑压测定装置
本专利技术涉及脑压测定装置。
技术介绍
通常,随着社会的高龄化,在家老年人的数字增加,对于老人福利及管理的关心逐渐增加,在多个角度上,通过新的方法开始接近老年人的健康管理,焦点集中在作为健康诊断的基础的血压测定。随着发育,若完成颅骨缝(cranialsuture)的结合,则大脑被坚硬的头骨完全包围。以此限定的头骨空间由大脑实质(约为1400g,80%)、脑脊液(150ml,10%)以及血液(150ml,10%),若上述三个部分中的一个的容积增加,则其他部分的体积将减少,从而会补偿压力的增加(Mon-ro-Kellihypothesis)。但是,若这种补偿作用并不充分,则会导致脑压的持续上升。若脑压上升,则在大脑的血液动力方面来说是阻抗的增加,因此,脑灌注压(cerebralperfusionpressure)将减少,在严重的情况下,将导致缺血性中风。脑压(intracranialpressure,ICP)的监测为了检测如颅内出血、脑积水或脑瘤的非正常的脑状态而极为重要。至今,脑压的监测通过具有包括感染、出血或脑疝在内的很多危险的不利的侵入方法进行。图1为用于说明以往的脑压测定装置的多种例的图。参照图1,脑压测定装置可通过脑室造口术(ventriculostomy)测定脑压。脑室造口术为通过长针、导管等贯通头骨、硬膜及大脑来接近大脑的脑室的手术。脑室造口术可以为了患有蛛网膜下腔出血患者而使用,为了向脑室插入导管来检测脑压,仅在脑室变大的情况下限定使用。并且,脑压测定装置在头骨(skull)贯通孔来插入针刺传感部来检测脑实质内压力。也可以利用硬膜下螺丝(subduralbolt)、硬膜下导管(subduralcathether)来检测脑压。只是,通过这种方法,通过向脑实质直接插入导管的侵入过程,可发生如脑出血的副作用。作为本专利技术的背景的技术揭示在韩国公开专利公报第10-2007-0106004(公开如期:2007年10月31日)号。
技术实现思路
本专利技术用于解决上述现有技术的问题,本专利技术的目的在于,提供适用用于血管造影术的血管接近方法来通过最少侵入测定脑压的脑压测定装置。并且,本专利技术的目的在于,提供脑压测定装置,即,利用血管支架形状的脑压测定装置来最大程度接近脑血管内的内壁,从而可以更加准确地测定脑压。并且,本专利技术的目的在于,提供脑压测定装置,即,利用具有远端线圈部及近端线圈部的脑压测定装置来阻碍血液的流动并可检测脑血管内的压力。并且,本专利技术的目的在于,提供脑压测定装置,即,适用超小型精密机械制作技术(MicroElectroMechanicalSystems,MEMS)来测定脑血管内的压力。只是,本专利技术的实施例所要解决的技术问题并不局限于上述技术问题,还可以存在其他技术问题。作为用于解决上述技术问题的技术方案,根据本专利技术的一实施例,本专利技术的脑压测定装置可包括:传感部,用于测定对象体的脑血管内的规定位置的压力;金属线部,与上述传感部相连接,通过向上述对象体插入来使上述传感部位于上述位置;以及脑压测定部,以所测定的上述压力为基础来测定脑压。根据本专利技术的一实施例,本专利技术还可包括血管支架,以两端开放的圆筒型结构向上述脑血管插入,在内侧一区域配置上述传感部,上述金属线部与上述血管支架相连接。根据本专利技术的一实施例,上述传感部能够以通过使上述血管支架在上述脑血管内自我膨胀来接近上述脑血管的内壁的方式移动。根据本专利技术的一实施例,上述传感部能够以接近脑实质方向的上述内壁的方式移动。根据本专利技术的一实施例,本专利技术的脑压测定装置还可包括用于识别上述传感部的位置或方向的标记。根据本专利技术的一实施例,上述标记的位置能够以上述传感部配置于上述血管支架的位置或方向为基础来确定。根据本专利技术的一实施例,配置传感部的血管支架所在的脑血管可以为脑静脉血管。根据本专利技术的一实施例,本专利技术还可包括:第一线圈部,位于上述传感部向上述对象体插入的方向上的一侧;以及第二线圈部,位于上述方向的相反方向上的一侧,上述金属线部与上述第一线圈部、上述传感部及上述第二线圈部中的一个以上相连接。根据本专利技术的一实施例,上述第一线圈部及上述第二线圈部阻碍朝向上述传感部的血液的流动。根据本专利技术的一实施例,上述第一线圈部及第二线圈部所在的脑血管可以为脑动脉血管。根据本专利技术的一实施例,上述第一线圈部及上述第二线圈部可通过在上述脑血管内自我膨胀来阻碍朝向上述传感部的血液的流动。根据本专利技术的一实施例,上述传感部可包括用于传送测定结果的天线,上述天线向上述脑压测定部无线传送上述测定结果,以上述测定结果为基础来测定脑压。根据本专利技术的一实施例,上述金属线部可在金属线的内部包括额外的信息传递线,向脑压测定部传送上述传感部的脑血管内压力测定结果。根据本专利技术的一实施例,本专利技术还可包括用于发送脑血管内压力测定结果的发送部,上述发送部位于对象体的胳膊或颈部血管来向上述脑压测定部发送上述脑血管内压力测定结果。根据本专利技术的一实施例,上述金属线部可使上述传感部位于对象体的脑血管内的规定位置,通过分离来从上述脑血管内脱离。上述解决问题的方案仅是例示,而不应解释成限定本专利技术。除上述例示性实施例之外,可在附图及专利技术的详细说明存在追加实施例。根据上述本专利技术的解决方案,本专利技术可提供适用用于血管造影术的血管接近方法来通过最少侵入测定脑压的脑压测定装置。并且,根据上述本专利技术的解决方案,本专利技术提供脑压测定装置,即,利用血管支架形状的脑压测定装置来最大程度接近脑血管内的内壁,从而可以更加准确地测定脑压。并且,根据上述本专利技术的解决方案,本专利技术提供脑压测定装置,即,利用具有远端线圈部及近端线圈部的脑压测定装置来阻碍血液的流动并可检测脑血管内的压力。并且,根据上述本专利技术的解决方案,本专利技术提供脑压测定装置,即,适用超小型精密机械制作技术(MicroElectroMechanicalSystems,MEMS)来测定脑血管内的压力。并且,根据上述本专利技术的解决方案,本专利技术提供脑压测定装置,即,设置脑血管内传感部,由此可以持续进行监测。附图说明图1为用于说明以往的脑压测定装置的多种例的图。图2为本专利技术一实施例的脑压测定装置的结构图。图3为示出本专利技术一实施例的脑压测定装置的第一实施例的图。图4为示出本专利技术一实施例的脑压测定装置的第二实施例的图。图5为简要示出适用本专利技术一实施例的脑压测定装置的第一实施例的脑压测定过程的实施例的图。具体实施方式以下,参照附图,详细说明本专利技术,以使本专利技术所属领域的技术人员可以轻松实施本专利技术。但是,本专利技术可体现为多种不同形态,而并不局限于在此说明的是私立。而且,图中,为了明确说明本专利技术而省略了与说明无关的部分,通过整个说明书,对类似的部分赋予类似的附图标记。在本说明书整体中,当一个部分与其他部分“连接”时,这包括“直接连接”的情况和在中间隔着其他器件“间接连接”的情况。在本说明书整体中,当一个部件位于其他部件“上”、“上部”、“上端”、“下”、“下部”、“下端”时,这包括一个部件与其他部件相接触的情况和两个部件之间存在其他部件的情况。在本说明书整体中,当一个部分“包括”其他结构要素时,只要没有特殊反对的记载,意味着还可以包括其他结构要素,而并非意味着排除其他结构要素。图2为本专利技术一实施例的脑压本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种脑压测定装置,其特征在于,包括:传感部,用于测定对象体的脑血管内的规定位置的压力;金属线部,与所述传感部相连接,通过向所述对象体插入来使所述传感部位于所述位置;以及脑压测定部,以所测定的所述压力为基础来测定脑压。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.12.07 KR 10-2016-01661951.一种脑压测定装置,其特征在于,包括:传感部,用于测定对象体的脑血管内的规定位置的压力;金属线部,与所述传感部相连接,通过向所述对象体插入来使所述传感部位于所述位置;以及脑压测定部,以所测定的所述压力为基础来测定脑压。2.根据权利要求1所述的脑压测定装置,其特征在于,还包括血管支架,以两端开放的圆筒型结构向所述脑血管插入,在内侧一区域配置所述传感部,所述金属线部与所述血管支架相连接。3.根据权利要求2所述的脑压测定装置,其特征在于,所述传感部以通过使所述血管支架在所述脑血管内自我膨胀来接近所述脑血管的内壁的方式移动。4.根据权利要求3所述的脑压测定装置,其特征在于,所述传感部以接近脑实质方向的所述内壁的方式移动。5.根据权利要求4所述的脑压测定装置,其特征在于,还包括:用于识别所述传感部的位置或方向的标记。6.根据权利要求5所述的脑压测定装置,其特征在于,所述标记的位置以所述传感部配置于所述血管支架的位置或方向为基础来确定。7.根据权利要求2所述的脑压测定装置,其特征在于,所述脑血管为脑静脉血管。8.根据权利要求1所述的脑压测定装置,其特征在于,还包括:第一线圈部,位于所述传感部向所...

【专利技术属性】
技术研发人员:李德熙朴仲澈李承柱金成勋全相范黄善文金泰一黄昌模孟准永
申请(专利权)人:财团法人峨山社会福祉财团蔚山大学校产学协力团
类型:发明
国别省市:韩国,KR

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